CN207681084U - 一种用于光纤表面浸润的装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种用于光纤表面浸润的装置，包括机架，及位于机架上的上料组件、下料组件、输送线，所述的输送线位于上料组件的输出口与下料组件的输入口之间，且该上料组件与下料组件之间依次设置有浸蚀组件、冲洗组件、烘干组件；所述的上料组件上叠放有若干个用于放置光纤的光纤托盘，且位于上端的光纤托盘的底部与输送线的输送面平齐；所述的下料组件位于输送线的正上方位置处，与该下料组件呈相对应分布的码盘托板位于输送线的正下方位置处；本实用新型的有益效果为：集自动上下料浸蚀、冲洗、漂洗、烘干于一体，具有上下料方便、节省人工、节约时间、安全可靠的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于浸润装置技术领域，尤其涉及一种用于光纤表面浸润的装置。
背景技术
现有的清洗光纤表面，通常采用人工清洗，或采用一些清洗装置配合人工一起完成清洗，其存在的缺陷有：不能全自动化清洗，而且光纤的上下料比较费劲，清洗时间较长，工作效率不高。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种用于光纤表面浸润的装置，集自动上下料浸蚀，冲洗，漂洗，烘干于一体。
本实用新型的目的是通过如下技术方案来完成的，这种用于光纤表面浸润的装置包括机架，及位于机架上的上料组件、下料组件、输送线，所述的输送线位于上料组件的输出口与下料组件的输入口之间，且该上料组件与下料组件之间依次设置有浸蚀组件、冲洗组件、烘干组件；所述的上料组件上放置有若干个用于放置光纤的光纤托盘，该若干个光纤托盘叠放在上料组件上，且位于上端的光纤托盘的底部与输送线的输送面平齐；所述的下料组件位于输送线的正上方位置处，与该下料组件呈相对应分布的码盘托板位于输送线的正下方位置处。
作为优选，所述的上料组件包括放料盘、进料升降机、推料气缸，该放料盘上叠放有若干个光纤托盘，进料升降机的升降端位于放料盘的正下方用于将光纤托盘作上下运动，推料气缸固定在机架上，并位于放料盘的正上方用于将光纤托盘推进输送线上。
作为优选，所述的下料组件包括单轴机械手、旋转气缸、两个呈对称分布的夹紧气缸，该旋转气缸固定在单轴机械手的正下方，两个夹紧气缸位于单轴机械手的两侧，通过该单轴机械手、旋转气缸、夹紧气缸之间的运作将光纤托盘放置在码盘托板上。
作为优选，所述的浸蚀组件包括浸蚀池、顶升电机、恒温装置，该顶升电机位于浸蚀池的下方用于将浸蚀池作上下运动，恒温装置位于浸蚀池的侧面。
作为优选，所述的冲洗组件包括双向气缸、雨幕、隔板、废水箱，该双向气缸的两侧分别固定有雨幕，隔板位于该雨幕的两侧并固定在机架上，该废水箱位于两隔板间的正下方。
作为优选，所述的烘干组件包括烘箱，该烘箱固定在机架上，并位于由输送线输送过来的光纤托盘的正上方。
作为优选，所述的输送线包括两条呈对称分布的输送带，该两条输送带之间的间距尺寸大于光纤托盘的宽度尺寸。
本实用新型的有益效果为：集自动上下料浸蚀、冲洗、漂洗、烘干于一体，具有上下料方便、节省人工、节约时间、安全可靠的优点。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图。
图2是本实用新型的浸蚀组件结构示意图。
附图中的标号分别为：1、机架；2、上料组件；3、下料组件；4、输送线；5、浸蚀组件；6、冲洗组件；7、烘干组件；8、光纤托盘；9、码盘托板；21、放料盘；22、进料升降机；23、推料气缸；31、单轴机械手；32、旋转气缸；33、夹紧气缸；41、输送带；51、浸蚀池；52、顶升电机；53、恒温装置；61、双向气缸；62、雨幕；63、隔板；64、废水箱；71、烘箱。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型做详细的介绍：如附图1所示，本实用新型包括机架1，及位于机架1上的上料组件2、下料组件3、输送线4，所述的输送线4位于上料组件2的输出口与下料组件3的输入口之间，且该上料组件2与下料组件3之间依次设置有浸蚀组件5、冲洗组件6、烘干组件7，该浸蚀组件5、冲洗组件6、烘干组件7上都配备有用来确保定位精度的传感器及定位气缸；所述的上料组件2上放置有若干个用于放置光纤的光纤托盘8，该若干个光纤托盘8叠放在上料组件2上，且位于上端的光纤托盘8的底部与输送线4的输送面平齐；所述的下料组件3位于输送线4的正上方位置处，与该下料组件3呈相对应分布的码盘托板9位于输送线4的正下方位置处。
所述的上料组件2包括放料盘21、进料升降机22、推料气缸23，该放料盘21上叠放有若干个光纤托盘8，进料升降机22的升降端位于放料盘21的正下方用于将光纤托盘8作上下运动，推料气缸23固定在机架1上，并位于放料盘21的正上方用于将光纤托盘8推进输送线4上。
所述的下料组件3包括单轴机械手31、旋转气缸32、两个呈对称分布的夹紧气缸33，该旋转气缸32固定在单轴机械手31的正下方，两个夹紧气缸33位于单轴机械手31的两侧，通过该单轴机械手31、旋转气缸32、夹紧气缸33之间的运作将光纤托盘8放置在码盘托板9上。
如附图2所示，所述的浸蚀组件5包括浸蚀池51、顶升电机52、恒温装置53，该顶升电机52位于浸蚀池51的下方用于将浸蚀池51作上下运动，恒温装置53位于浸蚀池51的侧面；恒温装置53采用电阻丝发热，可确保浸蚀液温度。
所述的冲洗组件6包括双向气缸61、雨幕62、隔板63、废水箱64，该双向气缸61的两侧分别固定有雨幕62，隔板63位于该雨幕62的两侧并固定在机架1上，该废水箱64位于两隔板63间的正下方；该双向气缸61可以带动雨幕62做往返运动，确保光纤清洗干净，隔板63防止水乱溅，废水箱64防止废水造成污染。
所述的烘干组件7包括烘箱71，该烘箱71固定在机架1上，并位于由输送线4输送过来的光纤托盘8的正上方；烘箱71里面电阻丝发热，向下面吹出热风。
所述的输送线4包括两条呈对称分布的输送带41，该两条输送带41之间的间距尺寸大于光纤托盘8的宽度尺寸。
本实用新型的光纤表面浸润过程为：
上料：进料升降机22向上运动一个光纤托盘8的距离，推料气缸23运动，将光纤托盘8推动输送线4上，同时输送带41运动，带动光纤托盘8进入下一个工序，推料气缸23回原点，进料升降机22向上运动一个光纤托盘8的距离；
浸蚀：传感器和定位气缸将光纤托盘8定位好，顶升电机52动作，浸蚀池51上升，恒温装置53采用电阻丝发热，可确保浸蚀液温度；浸蚀不同长度的光纤需要更换不同规格的浸蚀池和光纤托盘；
冲洗：双向气缸可以带动雨幕做往返运动，确保光纤清洗干净；
烘干：烘箱71里面电阻丝发热，向下面吹出热风，确保光纤表面无水渍；
下料码盘：光纤托盘8运动到位，单轴机械手31向下运动到位，夹紧气缸33动作，旋转气缸32旋转90度并带动光纤托盘8旋转90度，单轴机械手31向下运动，将光纤托盘8放在码盘托板9上。
本实用新型不局限于上述实施方式，不论在其形状或材料构成上作任何变化，凡是采用本实用新型所提供的结构设计，都是本实用新型的一种变形，均应认为在本实用新型保护范围之内。
Claims (7)
1.一种用于光纤表面浸润的装置，包括机架(1)，及位于机架(1)上的上料组件(2)、下料组件(3)、输送线(4)，其特征在于：所述的输送线(4)位于上料组件(2)的输出口与下料组件(3)的输入口之间，且该上料组件(2)与下料组件(3)之间依次设置有浸蚀组件(5)、冲洗组件(6)、烘干组件(7)；所述的上料组件(2)上放置有若干个用于放置光纤的光纤托盘(8)，该若干个光纤托盘(8)叠放在上料组件(2)上，且位于上端的光纤托盘(8)的底部与输送线(4)的输送面平齐；所述的下料组件(3)位于输送线(4)的正上方位置处，与该下料组件(3)呈相对应分布的码盘托板(9)位于输送线(4)的正下方位置处。
2.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的上料组件(2)包括放料盘(21)、进料升降机(22)、推料气缸(23)，该放料盘(21)上叠放有若干个光纤托盘(8)，进料升降机(22)的升降端位于放料盘(21)的正下方用于将光纤托盘(8)作上下运动，推料气缸(23)固定在机架(1)上，并位于放料盘(21)的正上方用于将光纤托盘(8)推进输送线(4)上。
3.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的下料组件(3)包括单轴机械手(31)、旋转气缸(32)、两个呈对称分布的夹紧气缸(33)，该旋转气缸(32)固定在单轴机械手(31)的正下方，两个夹紧气缸(33)位于单轴机械手(31)的两侧，通过该单轴机械手(31)、旋转气缸(32)、夹紧气缸(33)之间的运作将光纤托盘(8)放置在码盘托板(9)上。
4.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的浸蚀组件(5)包括浸蚀池(51)、顶升电机(52)、恒温装置(53)，该顶升电机(52)位于浸蚀池(51)的下方用于将浸蚀池(51)作上下运动，恒温装置(53)位于浸蚀池(51)的侧面。
5.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的冲洗组件(6)包括双向气缸(61)、雨幕(62)、隔板(63)、废水箱(64)，该双向气缸(61)的两侧分别固定有雨幕(62)，隔板(63)位于该雨幕(62)的两侧并固定在机架(1)上，该废水箱(64)位于两隔板(63)间的正下方。
6.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的烘干组件(7)包括烘箱(71)，该烘箱(71)固定在机架(1)上，并位于由输送线(4)输送过来的光纤托盘(8)的正上方。
7.根据权利要求1所述的用于光纤表面浸润的装置，其特征在于：所述的输送线(4)包括两条呈对称分布的输送带(41)，该两条输送带(41)之间的间距尺寸大于光纤托盘(8)的宽度尺寸。
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