CN207143326U - 一种线性蒸发源及蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及表面处理领域，公开一种线性蒸发源及蒸镀设备，线性蒸发源包括：壳体，壳体的一端具有开口、内部设有用于容置蒸镀材料的中空腔室；顶罩，顶罩盖合壳体的开口端，顶罩上设有多个用于向待镀基板喷射气化的蒸镀材料的喷嘴；还包括：遮挡模块，遮挡模块设置于中空腔室内部且具有打开工位和关闭工位；当遮挡模块处于关闭工位时，遮挡模块与顶罩朝向中腔室内部的一面相接触以对中空腔体内流向喷嘴的气化的蒸镀材料进行阻挡；驱动模块，驱动模块与遮挡模块相连接以驱动遮挡模块动作，当遮挡模块从关闭工位切换至打开工位时，喷嘴向待镀基板喷射气化的蒸镀材料，线性蒸发源能够减少蒸镀材料泄露，提高材料利用率。

Description

一种线性蒸发源及蒸镀设备

技术领域

本实用新型涉及表面处理领域，尤其涉及一种线性蒸发源及蒸镀设备。

背景技术

蒸镀装置是用于薄膜制备领域的实验和生产设备，在有机电致发光二极管(OLED)、有机太阳能电池(OPV)、有机场效应晶体管(OFET)等有机光电领域被广泛使用。目前现行蒸镀装置的蒸发源主要有点源和线源，而线性蒸发源以其材料利用率高、成膜均匀性好等优点，逐渐成为蒸镀设备的首要选择。

目前线性蒸发源所采用的遮挡装置都为外置式的开关，主要通过将一块遮挡板放置于喷嘴上方，以拦截从喷嘴中蒸出的材料，这种遮挡装置虽然构造比较简单、控制方便。但是在使用过程中容易出现关闭不严以及漏膜等问题，使得蒸镀材料交叉污染，而且由于这种遮挡装置的遮挡板距离喷嘴较近，影响喷嘴的温度，使得蒸发源存在很大的堵塞风险，严重影响成膜性质和设备的使用效率，另外，随着使用时间的增长，遮挡装置的遮挡板上会残留较多的材料，由于材料的污染，这部分材料无法回收，造成很大的材料浪费，并且遮挡板上的材料有脱落风险，不仅容易堵塞喷嘴，也容易污染腔室环境。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种线性蒸发源及蒸镀设备，用于减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种线性蒸发源，包括：

壳体，所述壳体的一端具有开口、内部设有用于容置蒸镀材料的中空腔室；

顶罩，所述顶罩盖合所述壳体的开口端，所述顶罩上设有多个用于向待镀基板喷射气化的蒸镀材料的喷嘴；

还包括：

遮挡模块，所述遮挡模块设置于所述中空腔室内部且具有打开工位和关闭工位；当所述遮挡模块处于关闭工位时，所述遮挡模块与所述顶罩朝向所述中空腔室内部的一面相接触以对中空腔体内流向所述喷嘴的气化的蒸镀材料进行阻挡；

驱动模块，所述驱动模块与所述遮挡模块相连接以驱动所述遮挡模块动作，当所述遮挡模块从关闭工位切换至打开工位时，所述喷嘴向所述待镀基板喷射气化的蒸镀材料。

在上述线性蒸发源中，在遮挡模块处于打开工位时，线性蒸发源处于正常蒸镀状态，此时，气化的蒸镀材料从顶罩上的喷嘴喷出，线性蒸发源对待镀基板进行镀膜，当需要进行遮挡时，驱动模块驱动遮挡模块从打开工位切换至关闭工位，遮挡模块与顶罩朝向中空腔室内部的一面相接触，阻挡中空腔体内气化的蒸镀材料流向喷嘴，以使蒸镀材料只能够留在中空腔室内部，防止蒸镀材料泄露，且同时外部的其它材料不能从外界进入到中空腔室内部，避免污染中空腔室内部的蒸镀材料，提高了蒸镀材料的洁净度。

因此，上述线性蒸发源能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率。

优选地，所述遮挡模块包括挡板，所述挡板的延伸方向与多个所述喷嘴的排列方向平行、且沿垂直于所述顶罩的方向可移动地设置在所述中空腔室内部。

进一步地，所述挡板在所述顶罩上的投影覆盖每一个所述喷嘴在所述顶罩上朝向所述中空腔室一侧的开口。

进一步地，所述遮挡模块还包括至少一个立柱，所述立柱垂直设置在所述挡板朝向所述顶罩的一侧，且所述立柱的轴线与所述喷嘴的轴线相平行，当所述遮挡模块处于关闭工位时，所述立柱位于所述喷嘴内部。

更进一步地，所述遮挡模块包括多个立柱，多个所述立柱与多个所述喷嘴一一对应设置，当所述遮挡模块处于关闭工位时，多个所述立柱位于与之一一对应的所述喷嘴内部。

更进一步地，每一个所述立柱的直径小于所述喷嘴的最小内径。

更进一步地，还包括第一加热器，所述第一加热器设置在所述壳体内部，用于为所述壳体提供热量。

更进一步地，所述挡板上设置有第二加热器，和/或，所述立柱上设有第二加热器。

优选地，所述驱动模块为伺服马达。

优选地，还包括位于所述壳体的外壁上的限位板，所述限位板对称设置在所述喷嘴排列方向两侧。

另外，本实用新型还提供一种蒸镀设备，还包括如上任一项所述的线性蒸发源。

由于线性蒸发源能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率，因此，具有该线性蒸发源的蒸镀设备也能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种线性蒸发源的结构示意图；

图2为本实用新型提供的一种线性蒸发源的另一结构示意图；

图3为本实用新型提供的一种线性蒸发源处于关闭工位时的结构示意图；

图4为本实用新型提供的一种线性蒸发源的另一结构示意图；

图5为本实用新型提供的一种线性蒸发源处于关闭工位时的结构示意图；

图6为本实用新型提供的一种线性蒸发源的剖示图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1以及图3所示，一种线性蒸发源，包括：

壳体1，壳体1的一端具有开口、内部设有用于容置蒸镀材料的中空腔室；

顶罩3，顶罩3盖合壳体1的开口端，顶罩3上设有多个用于向待镀基板喷射气化的蒸镀材料的喷嘴31；

还包括：

遮挡模块4，遮挡模块4设置于中空腔室内部且具有打开工位和关闭工位；当遮挡模块4处于关闭工位时，遮挡模块4与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触以对中空腔体内流向喷嘴31的气化的蒸镀材料进行阻挡；

驱动模块，驱动模块与遮挡模块4相连接以驱动遮挡模块4动作，当遮挡模块4从关闭工位切换至打开工位时，喷嘴31向待镀基板喷射气化的蒸镀材料。

在上述线性蒸发源中，在遮挡模块4处于打开工位时，线性蒸发源处于正常蒸镀状态，气化的蒸镀材料从顶罩3上的喷嘴31喷出，线性蒸发源对待镀基板进行镀膜，当需要进行遮挡时，驱动模块驱动遮挡模块4从打开工位切换至关闭工位，遮挡模块4与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触，阻挡中空腔体内气化的蒸镀材料流向喷嘴31，以使蒸镀材料只能够留在中空腔室内部，防止蒸镀材料泄露，且同时外部的其它材料不能从外界进入到中空腔室内部，避免污染中空腔室内部的蒸镀材料，提高了蒸镀材料的洁净度。

因此，上述线性蒸发源能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率。

为了能够减少蒸镀材料泄露的发生，一种优选实施方式中，如图1、图2、图3、图4以及图6所示，遮挡模块4包括挡板41，挡板41的延伸方向与多个喷嘴31的排列方向平行、且沿垂直于顶罩3的方向可移动地设置在中空腔室内部。

在上述线性蒸发源中，由于遮挡模块4包括挡板41，挡板41的延伸方向与喷嘴31的排列方向平行、且沿垂直于顶罩3的方向可移动地设置在中空腔室内部，使得当需要进行遮挡时，驱动模块驱动挡板41沿垂直于顶罩3的方向从打开工位切换至关闭工位，挡板41与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触，进而密闭中空腔室，阻挡中空腔体内气化的蒸镀材料流向喷嘴31，以使蒸镀材料只能够留在中空腔室内部，防止蒸镀材料泄露，减少蒸镀材料的浪费，且同时外部的其它材料不能从外界进入到中空腔室内部，避免污染中空腔室内部的蒸镀材料，提高了蒸镀材料的洁净度。

另一方面，通过驱动模块调节挡板41与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触接触面积可以调节线性蒸发源内部的蒸汽压，提升蒸发源的成膜可控性和均匀性，同时可以降低喷嘴31堵塞的风险，还可以通过挡板41在打开工位切换至关闭工位动作的切换处理已经堵塞的喷嘴31，而不需要开腔清理，提升蒸镀设备的整体运行效率。

在上述线性蒸发源的基础上，为了最大限度地减少蒸镀材料泄露的发生，如图6所示，具体地，挡板41在顶罩3上的投影覆盖每一个喷嘴31在顶罩3 上朝向中空腔室一侧的开口。

当需要进行遮挡时，驱动模块驱动挡板41沿垂直于顶罩3的方向从打开工位切换至关闭工位，挡板41与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触，此时，由于挡板41在顶罩3上的投影覆盖每一个喷嘴31在顶罩3上朝向中空腔室一侧的开口使得挡板41完全覆盖顶罩3上的所有喷嘴31，进而完全密闭中空腔室，阻挡中空腔体内气化的蒸镀材料流向喷嘴31，以使蒸镀材料只能够留在中空腔室内部，杜绝蒸镀材料泄漏和蒸镀材料的脱落风险，减少蒸镀材料的浪费，且同时外部的其它材料不能从外界进入到中空腔室内部，避免污染中空腔室内部的蒸镀材料，提高了蒸镀材料的洁净度。

为了使驱动模块更好地驱动挡板41在打开工位切换至关闭工位之间切换，具体地，如图3以及图6所示，遮挡模块4还包括至少一个立柱42，立柱42 垂直设置在挡板41朝向顶罩3的一侧，且立柱42的轴线与喷嘴31的轴线相平行，当遮挡模块4处于关闭工位时，立柱42位于喷嘴31内部。

在上述线性蒸发源中，由于柱垂直设置在挡板41朝向顶罩3的一侧，且立柱42的轴线与喷嘴31的轴线相平行，因此，当驱动模块驱动挡板41沿垂直于顶罩3的方向从打开工位切换至关闭工位时，立柱42能够引导挡板41沿垂直于顶罩3的方向移动，在挡板41与顶罩3朝向中空腔室内部的一面相接触时，立柱42位于喷嘴31内部，进而密闭中空腔室，阻挡中空腔体内气化的蒸镀材料流向喷嘴31；同时立柱42在喷嘴31内的上下移动又可以处理喷嘴31的堵塞，而在挡板41处于打开工位时，立柱42不阻挡蒸汽分子的运动轨迹。

为了更好地处理喷嘴31的堵塞，更具体地，如图6所示，遮挡模块4包括多个立柱42，多个立柱42与多个喷嘴31一一对应设置，当遮挡模块4处于关闭工位时，多个立柱42位于与之一一对应的喷嘴31内部。

当喷嘴31有堵塞时，驱动模块驱动挡板41沿垂直于顶罩3的方向从打开工位切换至关闭工位，且多个立柱42位于与之一一对应的喷嘴31内部，此时，每一个立柱42在对应喷嘴31内的上下移动可以处理相应喷嘴31的堵塞。

为了保证立柱42运动的通畅，更具体地，每一个立柱42的直径小于喷嘴 31的最小内径。

具体地，线性蒸发源还包括第一加热器2，第一加热器2设置在壳体1内部，第一加热器2对中空腔室内的蒸镀材料进行加热，以使中空腔室内的蒸镀材料气化。

更具体地，如图2以及图5所示，挡板41上设置有第二加热器5，和/或，立柱42上设有第二加热器5。

第二加热器5用于加热产生热量以使沉积在遮挡模块4上的蒸镀材料二次蒸发，不仅可以避免蒸镀材料的浪费，提高蒸镀材料的利用率，还可以改善线性蒸发源内部的清洁度，另外第二加热器5在蒸镀过程中可对蒸镀材料分子进行二次加热，保证材料分子的蒸发速率。

第二加热器5在遮挡模块4上的设置方式有以下三种：

方式一，仅在挡板41上设置有第二加热器5；

方式二，仅在立柱42上设有第二加热器5；

方式三，挡板41上设置有第二加热器5，同时，立柱42上设有第二加热器5。

一种优选实施方式中，驱动模块为伺服马达。

伺服马达具有速度控制准确、位置精度较高、反应快速等优点，因此，伺服马达可以精确地控制遮挡模块4在打开工位和关闭工位之间切换，且能够精准地控制线性蒸发源内部的蒸汽压的调整，提升蒸发源的成膜可控性和均匀性。

一种优选实施方式中，如图5所示，线性蒸发源还包括位于壳体的外壁上的限位板6，限位板6对称设置在喷嘴31排列方向两侧。

限位板6用于限定气化的蒸镀材料从顶罩3上的喷嘴31喷出的范围，由于限位板6对称设置在喷嘴31排列方向两侧，使得气化的蒸镀材料从顶罩3 上的喷嘴31喷出范围在两个限位板6限定的范围内，保证了气化的蒸镀材料向待镀基板喷射气化的蒸镀材料，避免蒸镀材料的浪费，提高蒸镀材料的利用率。

另外，本实用新型还提供一种蒸镀设备，还包括如上任一项的线性蒸发源。

由于线性蒸发源能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率，因此，具有该线性蒸发源的蒸镀设备也能够减少蒸镀材料泄露的发生，提高蒸镀材料的利用率。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种线性蒸发源，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体的一端具有开口、内部设有用于容置蒸镀材料的中空腔室；

顶罩，所述顶罩盖合所述壳体的开口端，所述顶罩上设有多个用于向待镀基板喷射气化的蒸镀材料的喷嘴；

遮挡模块，所述遮挡模块设置于所述中空腔室内部且具有打开工位和关闭工位；当所述遮挡模块处于关闭工位时，所述遮挡模块与所述顶罩朝向所述中空腔室内部的一面相接触以对中空腔体内流向所述喷嘴的气化的蒸镀材料进行阻挡；

驱动模块，所述驱动模块与所述遮挡模块相连接以驱动所述遮挡模块动作，当所述遮挡模块从关闭工位切换至打开工位时，所述喷嘴向所述待镀基板喷射气化的蒸镀材料。

2.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述遮挡模块包括挡板，所述挡板的延伸方向与多个所述喷嘴的排列方向平行、且沿垂直于所述顶罩的方向可移动地设置在所述中空腔室内部。

3.根据权利要求2所述的线性蒸发源，其特征在于，所述挡板在所述顶罩上的投影覆盖每一个所述喷嘴在所述顶罩上朝向所述中空腔室一侧的开口。

4.根据权利要求2所述的线性蒸发源，其特征在于，所述遮挡模块还包括至少一个立柱，所述立柱垂直设置在所述挡板朝向所述顶罩的一侧，且所述立柱的轴线与所述喷嘴的轴线相平行，当所述遮挡模块处于关闭工位时，所述立柱位于所述喷嘴内部。

5.根据权利要求4所述的线性蒸发源，其特征在于，所述遮挡模块包括多个立柱，多个所述立柱与多个所述喷嘴一一对应设置，当所述遮挡模块处于关闭工位时，多个所述立柱位于与之一一对应的所述喷嘴内部。

6.根据权利要求4所述的线性蒸发源，其特征在于，每一个所述立柱的直径小于所述喷嘴的最小内径。

7.根据权利要求4所述的线性蒸发源，其特征在于，还包括第一加热器，所述第一加热器设置在所述壳体内部。

8.根据权利要求7所述的线性蒸发源，其特征在于，所述挡板上设置有第二加热器，和/或，所述立柱上设有第二加热器。

9.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述驱动模块为伺服马达。

10.根据权利要求1-9任一项所述的线性蒸发源，其特征在于，还包括位于所述壳体的外壁上的限位板，所述限位板对称设置在所述喷嘴排列方向两侧。

11.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的线性蒸发源。