CN206599451U - 一种晶体加工用水循环装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及晶体处理设备领域，尤其是一种晶体加工用水循环装置。它包括一硅片脱胶池，在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池相连通的脱胶排水口，在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口，所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池，前清洗池通过管道与污水池相连通设置，硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通。它结构简单，设计合理，在进行各步工序处理时所需水量较少，且各加工工序之间所用的水源可进行循环利用，更有效地满足人们的需求，解决了现有技术中存在的问题。

Description

一种晶体加工用水循环装置

技术领域：

本实用新型涉及晶体处理设备领域，尤其是一种晶体加工用水循环装置。

背景技术：

在单晶硅或多晶硅进行加工的过程中通常需要进行多步加工工序才能得到所需产品。在加工时经过涂胶切片后的单晶硅或多晶硅会被运送至后续的加工设备上进行后续的工序处理，通常会在脱胶机、擦片机、清洗机等设备上进行脱胶、擦片、清洗等工序，进行上述工序时耗水量很大，因此目前对上述工序处理加工通常需要提前准备好水源并需要长时间保持水源供水充足，只有这样才能保证最终得到的产品的质量。但是，在现在水资源较为紧缺的现状下，采用这种现有的加工方式不仅会造成大量的水资源浪费而且在很多情况下因加工时厂房内无法长时间保证良好水资源的供给，因而会使加工处理的过程中无法安全有效的保证供水量，从而会导致加工出来的产品质量差、加工效率低。目前各个步骤所使用完的水在使用完以后通常水质会变很差，因此现有的设备在进行完本步工序的处理之后就直接将污水通过排水管道排出，这样不仅会造成水资源的浪费而且随意排放污水还会造成大量的水污染，显然现有的水循环装置无法更有效地满足人们的需求。

实用新型内容：

本实用新型提供了一种晶体加工用水循环装置，它结构简单，设计合理，在进行各步工序处理时所需水量相对较少，且各加工工序之间所用的水源可进行循环利用，同时本装置可对经上一步处理工序使用完的污水进行清污除杂之后被运送至下一工序处理设备上供其使用，各工序时间的水源可以形成循环，在内部循环水源造成少量水量流失后，供水泵可以将外部水源对其进行适当补充，只需定期补给，无需长时间、大水量的进行供给，降低了对加工车间内水源供应水平的要求，节省了大量水源，可通过定期的对第一过滤器、第二过滤器进行清理后去除其中积累的杂质来保证水质的相对清洁，同时最终经排污管道排出的水的质量相对于传统设备有一定的提高，更加环保、有效，更有效地满足了人们的需求，解决了现有技术中存在的问题。

本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是：一种晶体加工用水循环装置，包括一硅片脱胶池，在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池左侧下部相连通的脱胶排水口，在硅片脱胶池与硅片擦洗池之间的管道上依次设有一第一过滤器、第一泵体，在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口，所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池，前清洗池通过管道与污水池上部相连通设置，中部清洗池通过管道与硅片脱胶池相连通设置，在中部清洗池与硅片脱胶池相连通设置的管道上依次设有一第二过滤器、第二泵体，后清洗池通过回流管与第二过滤器、第二泵体之间的管道相连通，在第二过滤器的过滤网的右侧设有一通过管道与污水池相连通设置的排渣管，硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通设置，在供水池的一侧设有一与水源连通的供水泵，在各供水管上分别设有一阀门，在硅片擦洗池与硅片擦洗池相连通的管道上依次设有一第三过滤器、第三泵体；第一泵体、第二泵体、第三泵体、供水泵分别通过导线与外部电源相连通设置。

所述硅片脱胶池的空腔底部向中心倾斜设置，在硅片脱胶池的空腔底部的通孔内活动密封配合连接一旋转轴，在硅片脱胶池的空腔内的旋转轴顶部固连一底部刷毛与空腔底部相抵接的毛刷，在硅片脱胶池外部的旋转轴外侧壁上固连一曲柄，在与毛刷相对一侧的硅片脱胶池的空腔底部设有一与空腔连通的排污管，在排污管的底部开口处密封插装一密封塞。

在与排渣管相对的第二过滤器的前侧壁上通过管道连接一排渣泵体。

在硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池的空腔侧壁上分别自上而下设有一上限水位标、下限水位标。

本实用新型所具有的有益效果是，结构简单，设计合理，在进行各步工序处理时所需水量相对较少，且各加工工序之间所用的水源可进行循环利用，同时本装置可对经上一步处理工序使用完的污水进行清污除杂之后被运送至下一工序处理设备上供其使用，各工序时间的水源可以形成循环，在内部循环水源造成少量水量流失后，外部水源会对其进行适当补充，无需长时间大水量的进行供给，降低了对加工车间内水源供应水平的要求，节省了大量水源，同时最终经排污管道排出的水的质量相对于传统设备有一定的提高，更加环保、有效，更有效地满足人们的需求。

附图说明：

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中硅片脱胶池的放大结构示意图。

图中，1、硅片脱胶池；2、管道；3、硅片擦洗池；4、脱胶排水口；5、第一过滤器；6、第一泵体；7、硅片清洗池；8、擦片排水口；9、前清洗池；10、中部清洗池；11、后清洗池；12、供水管；13、供水池；14、供水泵；15、阀门；16、第三过滤器；17、第三泵体；18、旋转轴；19、毛刷；20、曲柄；21、排污管；22、密封塞；23、排渣管；24、第二过滤器；25、排渣泵体；26、上限水位标；27、下限水位标；28、污水池。

具体实施方式：

为能清楚说明本方案的技术特点，下面通过具体实施方式，并结合其附图，对本实用新型进行详细阐述。

如图1-2中所示，一种晶体加工用水循环装置，包括一硅片脱胶池1，在硅片脱胶池1的左侧下部设有一通过管道2与硅片擦洗池3左侧下部相连通的脱胶排水口4，在硅片脱胶池1与硅片擦洗池3之间的管道2上依次设有一第一过滤器5、第一泵体6，在硅片擦洗池3的右侧底部设有通过管道2与硅片清洗池7上部相连通的擦片排水口8，所述硅片清洗池7的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池9、中部清洗池10与后清洗池11，前清洗池9通过管道2与污水池28上部相连通设置，中部清洗池10通过管道2与硅片脱胶池1相连通设置，在中部清洗池10与硅片脱胶池1相连通设置的管道2上依次设有一第二过滤器24、第二泵体，后清洗池11通过回流管与第二过滤器24、第二泵体之间的管道2相连通，在第二过滤器24的过滤网的右侧设有一通过管道2与污水池28相连通设置的排渣管23，硅片脱胶池1、硅片擦洗池3以及硅片清洗池7的前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11分别通过供水管12与一供水池13相连通设置，在供水池13的一侧设有一与水源连通的供水泵14，在各供水管12上分别设有一阀门15，在硅片擦洗池3与硅片擦洗池3相连通的管道2上依次设有一第三过滤器16、第三泵体17；第一泵体6、第二泵体、第三泵体17、供水泵14分别通过导线与外部电源相连通设置。

所述硅片脱胶池1的空腔底部向中心倾斜设置，在硅片脱胶池1的空腔底部的通孔内活动密封配合连接一旋转轴18，在硅片脱胶池1的空腔内的旋转轴18顶部固连一底部刷毛与空腔底部相抵接的毛刷19，在硅片脱胶池1外部的旋转轴18外侧壁上固连一曲柄20，在与毛刷19相对一侧的硅片脱胶池1的空腔底部设有一与空腔连通的排污管21，在排污管21的底部开口处密封插装一密封塞22。

在与排渣管23相对的第二过滤器24的前侧壁上通过管道2连接一排渣泵体25。

在硅片脱胶池1、硅片擦洗池3以及硅片清洗池7的前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11的空腔侧壁上分别自上而下设有一上限水位标26、下限水位标27。

使用时，将供水泵14接通电源并打开后向供水池13内供水，打开各供水管12上的阀门15使供水池13内的水通过供水管12流至硅片脱胶池1、硅片擦洗池3以及硅片清洗池7的前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11内，各池内水位达到上限水位标26以后关闭供水泵14。打开第一泵体6、第二泵体使其进行运转，操作工人依次在硅片脱胶池1、硅片擦洗池3以及硅片清洗池7内进行相应的工序工作。在硅片脱胶池1内进行清洗硅片后，硅片脱胶池1内的水质中就会含有一定量的杂质，定期的转动其底部的曲柄20带动旋转轴18转动，进而带动毛刷19转动即可对其底部的较重的杂质进行清理至排污管21内，打开密封塞22以后排污管21内的杂质就会被排出，从而保证硅片脱胶池1内的水质的相对清洁。在第一泵体6的作用下，硅片脱胶池1内的水源会经管道2流至硅片擦洗池3内为其提供一定的水量，在流动的过程中第一过滤器5可以起到二次除杂的目的，定期的拆卸下来第一过滤器5对其进行清理除杂即可保证第一过滤器5的清洁同时保证了进入硅片擦洗池3内水质的清洁。操作人员在硅片擦洗池3内继续进行擦片工序处理，进行完擦片处理之后的硅片擦洗池3中的杂质相对较少，可以满足使用要求；硅片擦洗池3内的水会在第三泵体17的作用下流至硅片清洗池7的前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11内，经第三过滤器16过滤后其水质相对清洁。操作人员在硅片清洗池7内，依次在前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11内进行硅片清理工序之。因其清洗时依次是在前清洗池9、中部清洗池10、后清洗池11进行多次清洗，清洗过后其中前清洗池9内的水质最差，如果针对其进行清理时会相对较为困难，因此前清洗池9内的污水直接流通至污水池28内。中部清洗池10内的水质相对较好，让其部分水源在第二泵体的作用下经第二过滤器24回流至硅片脱胶池1内，另一部分经管道2流至污水池28内，过滤器长时间使用后其内部的杂质会相对较多,定期打开排渣泵体25后会将第二过滤器24内部的杂质直接推送至排污池内，从而保证管道2的通畅与水质的质量。当各工作池内的水量减少至下限水位标27以下时打开供水泵14向各工作池内进行供水补给。本装置结构简单，设计合理，在进行各步工序处理时所需水量相对较少，且各加工工序之间所用的水源可进行循环利用，同时本装置可对经上一步处理工序使用完的污水进行清污除杂之后被运送至下一工序处理设备上供其使用，各工序时间的水源可以形成循环，在内部循环水源造成少量水量流失后，外部水源会对其进行适当补充，无需长时间大水量的进行供给，降低了对加工车间内水源供应水平的要求，节省了大量水源，同时最终经排污管21道2排出的水的质量相对于传统设备有一定的提高，更加环保、有效，更有效地满足人们的需求。

上述具体实施方式不能作为对本实用新型保护范围的限制，对于本技术领域的技术人员来说，对本实用新型实施方式所做出的任何替代改进或变换均落在本实用新型的保护范围内。

本实用新型未详述之处，均为本技术领域技术人员的公知技术。

Claims (4)

1.一种晶体加工用水循环装置，其特征在于：包括一硅片脱胶池，在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池左侧下部相连通的脱胶排水口，在硅片脱胶池与硅片擦洗池之间的管道上依次设有一第一过滤器、第一泵体，在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口，所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池，前清洗池通过管道与污水池上部相连通设置，中部清洗池通过管道与硅片脱胶池相连通设置，在中部清洗池与硅片脱胶池相连通设置的管道上依次设有一第二过滤器、第二泵体，后清洗池通过回流管与第二过滤器、第二泵体之间的管道相连通，在第二过滤器的过滤网的右侧设有一通过管道与污水池相连通设置的排渣管，硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通设置，在供水池的一侧设有一与水源连通的供水泵，在各供水管上分别设有一阀门，在硅片擦洗池与硅片擦洗池相连通的管道上依次设有一第三过滤器、第三泵体；第一泵体、第二泵体、第三泵体、供水泵分别通过导线与外部电源相连通设置。

2.根据权利要求1所述的一种晶体加工用水循环装置，其特征在于：所述硅片脱胶池的空腔底部向中心倾斜设置，在硅片脱胶池的空腔底部的通孔内活动密封配合连接一旋转轴，在硅片脱胶池的空腔内的旋转轴顶部固连一底部刷毛与空腔底部相抵接的毛刷，在硅片脱胶池外部的旋转轴外侧壁上固连一曲柄，在与毛刷相对一侧的硅片脱胶池的空腔底部设有一与空腔连通的排污管，在排污管的底部开口处密封插装一密封塞。

3.根据权利要求1或2所述的一种晶体加工用水循环装置，其特征在于：在与排渣管相对的第二过滤器的前侧壁上通过管道连接一排渣泵体。

4.根据权利要求3所述的一种晶体加工用水循环装置，其特征在于：在硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池的空腔侧壁上分别自上而下设有一上限水位标、下限水位标。