CN206222584U - 水箱组件及恒湿机 - Google Patents

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刘桂鹏
玉维友
邓忠文
贺小林
唐杰
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Abstract

本实用新型提供了一种水箱组件及恒湿机。水箱组件包括水箱、检测设备和除污设备。其中,水箱用于储存加湿用的水,检测设备设置在水箱上,用于检测水箱的透光率是否低于预定值,除污设备设置在水箱上,并与检测设备连接,除污设备用于接收检测设备的检测信号,并对水箱内的污垢进行清除。在使用时,当检测设备检测到水箱的透光率小于预定值时,则判断水箱内的污垢超标。除污设备接收到检测设备的检测信号,启动清除污垢,以实现水箱组件的自清洁,既节省人力,还能确保水箱组件的正常使用。

Description

水箱组件及恒湿机
技术领域
[0001] 本实用新型涉及空气调节技术领域,具体而言,涉及一种水箱组件及恒湿机。
背景技术
[0002] 恒温恒湿机主要为电子零部件、工业材料、成品在研发、生产和检验各环节的试验 提供恒定湿热、复杂高低温交变等试验环境和试验条件,适用于电子电器、通讯、化工、五 金、橡胶、玩具等各行业。
[0003] 目前,恒温恒湿机的加湿系统普遍采用电极加湿系统。电极加湿的原理是将电极 棒插入电极罐水面下,接通电源,借助水中的离子移动将水加热至沸腾,产生水蒸汽的产生 量大小则取于电极罐中水位的高低,即电极棒插入水中的深度或面积,蒸汽喷杆均匀分布 于空调箱或风管中,经空气吸收而达到加湿的目的。可以说电极加湿系统结构简单,使用方 便。
[0004] 上述的电机加湿系统在使用过程中容器里面的液态水在通电电极的作用下,逐渐 变成水蒸汽。当水质不好时,容易在容器表面产生出一层水垢污秽。该水垢会随时间的推移 而增厚,达到一定程度时容易堵塞阀门,甚至降低加湿效果。 实用新型内容
[0005] 本实用新型的主要目的在于提供一种水箱组件及恒湿机,以解决现有技术中水箱 里产生水垢后影响水箱使用的问题。
[0006] 为了实现上述目的,根据本实用新型的一个方面,提供了一种水箱组件,包括水 箱、检测设备和除污设备。水箱用于储存加湿用的水;检测设备设置在水箱上,用于检测水 箱的透光率是否低于预定值;除污设备设置在水箱上,与检测设备连接,除污设备用于接收 检测设备的检测信号,并对水箱内的污垢进行清除。
[0007] 进一步地,水箱上具有透光结构,检测设备包括设置在水箱上的光敏检测器,光敏 检测器用于检测透光结构的透光率。
[0008] 进一步地,检测设备还包括光源,光源设置在水箱上,光源用于透过透光结构向光 敏检测器照射光线。
[0009] 进一步地,水箱整体由透光结构构成。
[0010] 进一步地,光源和光敏检测器设置在水箱的外部,并与透光结构对应设置。
[0011] 进一步地,除污设备包括超声波去污器,超声波去污器安装在水箱上。
[0012] 进一步地,水箱的底部设置有排污口,排污口用于排出水箱内的污垢。
[0013] 进一步地,除污设备还包括清洗喷嘴,清洗喷嘴设置在水箱内。
[0014] 进一步地,清洗喷嘴为多个,多个清洗喷嘴在水箱内间隔设置。
[0015] 进一步地,水箱组件还包括水位控制装置,水箱上设置有进水口,水位控制装置设 置在进水口上。
[0016] 为了实现上述目的,根据本实用新型的一个方面,提供了一种恒湿机,包括水箱组 件,水箱组件为上述的水箱组件。
[0017] 进一步地,恒湿机包括电极,电极设置在水箱组件的水箱中,电极用于产生水蒸 气。
[0018]应用本实用新型的技术方案,在使用时,当检测设备检测到水箱的透光率小于预 定值时,则判断水箱内的污垢超标。除污设备接收到检测设备的检测信号,启动清除污垢, 以实现水箱组件的自清洁,既节省人力,还能确保水箱组件的正常使用。
[0019]除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本实用新型还有其它的目的、特征和优 点。下面将参照图,对本实用新型作进一步详细的说明。
附图说明
[0020]构成本实用新型的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本 实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限 定。在附图中:
[0021]图1示出了根据本实用新型的恒湿机的实施例的结构示意图。
[0022]其中,上述附图包括以下附图标记:
[0023] 1 〇、水箱;丨丨、排污口; 20、电极;30、检测设备;3丨、光敏检测器;32、光源;4〇、除污设 备;41、超声波去污器;42、清洗喷嘴;50、水位控制装置。
具体实施方式
[0024]需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可 以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
[0025] 为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实 施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的 实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实 施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应 当属于本实用新型保护的范围。
[0026]需要说明的是,本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、 “第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样 使用的术语在适当情况下可以互换,以便这里描述的本实用新型的实施例。此外,术语“包 括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤 或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包 括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0027]需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根 据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式 也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含,,和/或“包 括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
[0028]除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表 达式和数值不限制本实用新型的范围。同时,应当明白,为了便于描述,附图中所示出的各 个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员己知的技 术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为授 权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中,任何具体值应被解释为仅仅是示例 性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到:相似 的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随 后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
[0029] 为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、 “在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特 征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位 之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器 件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下 方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和 “在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并 且对这里所使用的空间相对描述做出相应解释。
[0030] 在本实用新型的描述中,需要理解的是,方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、 竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位 置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词 并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因 此不能理解为对本实用新型保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮 廓的内外。
[0031] 图1示出了本实用新型的水箱组件的实施例一的结构,水箱组件包括水箱10、检测 设备3〇和除污设备40。其中,水箱10用于储存加湿用的水,检测设备30设置在水箱10上,用 于检测水箱10的透光率是否低于预定值,除污设备40设置在水箱10上,并与检测设备30连 接,除污设备40用于接收检测设备30的检测信号,并对水箱10内的污垢进行清除。在使用 时,当检测设备30检测到水箱10的透光率小于预定值时,则判断水箱1〇内的污垢超标。除污 设备40接收到检测设备30的检测信号,启动清除污垢,以实现水箱组件的自清洁,既节省人 力,还能确保水箱组件的正常使用。
[0032] 在实施例一的技术方案中,水箱1〇的与上具有透光结构,检测设备30包括设置在 水箱10上的光敏检测器31,光敏检测器31用于检测透光结构的透光率。当光敏检测器31检 测到透光率小于预定值时,则判断水箱10内的污垢超标,并启动除污设备40对水箱10内的 污垢进行清除。可选的,除污期间,加湿工作暂停,确保除污工作顺利进行。可选的,透光结 构为透明结构或半透明结构。优选的,透明结构的检测效果会更好。
[0033]如图丨所示,在实施例一中,检测设备30还包括光源32,光源32设置在水箱10上,用 于透过透光结构向光敏检测器31照射光线。水箱10上的污垢会使透光结构的透光率降低, 光敏检测器31接收到的光信号的强度减弱,当水箱10上积累的污垢超标,光敏检测器31接 收到的光信号低于预定值时,除污设备40接收到光敏检测器31的检测信号,开始启动,对水 箱10内的污垢进行清除。
[0034] 优选的,光源32和光敏检测器31设置在水箱10的外部上的与透光结构相对应的位 置处,以确保光源32发出的光线可以透过透光结构直接照射到光敏检测器31上。可选的,光 敏检测器31为光敏器件。另外,可选的,也可以将光源32和光敏检测器31设置在水箱10的内 部,相应的应当对光源32和光敏检测器31坐密封防水处理,同时还应当使得光源32和光敏 检测器31与水箱1 〇的内壁保持平滑,以提高清洗效果。
[0035] 在实施例一中,如图1所示,除污设备40包括超声波去污器41,超声波去污器41安 装在水箱10上,用于去除水箱1〇内附着的污垢。由于污垢与容器在同样超声波影响下,产生 的振动频率不一样,污垢在振动过程中从水箱1〇和电极20上脱落下来,从而达到除污目的。 可选的,可以调节超声波去污器41的超声频率,进而改变污垢与容器的振动频率。
[0036] 可选的,水箱10的底部设置有排污口 11,排污口 11用于排出水箱10内的污垢。水箱 组件在工作状态时,排污口 11为封堵状态,只有在水箱组件自清洁过程中,排污口 11被打 开,以排出清洁下来的污垢。
[0037] 如图1所示,在实施例一中,除污设备40还包括清洗喷嘴42,清洗喷嘴42设置在水 箱10内,用于配合排污口 11冲走水箱10内的污垢。可选的,清洗喷嘴42可为高压喷嘴,利用 高水压冲掉水箱10上的污垢。
[0038] 可选的,清洗喷嘴42为多个,多个清洗喷嘴42在水箱10内相间隔的设置。多个清洗 喷嘴42朝向水箱10内的不同位置,以便大面积地冲洗污垢。
[0039] 可选的,水箱组件还包括水位控制装置50,水箱10上设置有进水口,水位控制装置 50设置在进水口上。通过水位控制装置50确保水箱10内的水位保持在规定的范围内,避免 水位降低到电极20以下导致安全隐患。
[0040]本实用新型还提供了水箱组件的实施例二(图中未示出),实施例二与实施例一的 区别在于,实施例二中,水箱10的整体都为透光结构。同实施例一相同,实施例二中的水箱 组件包括水箱10和电极20。其中,水箱10用于储存加湿用的水,电极20设置在水箱10中,用 于产生水蒸气。另外,该水箱组件也包括检测设备30和除污设备40,检测设备30设置在水箱 10上,用于检测水箱10内的污垢是否超标,除污设备40设置在水箱10上,并与检测设备30连 接,除污设备40用于接收检测设备30的检测信号,并对水箱10内的污垢进行清除。当检测设 备30检测到水箱10中的污垢超标时,除污设备40接收到检测设备30的信号,启动清除污垢, 以实现水箱组件的自清洁,既节省人力,还能确保水箱组件的正常使用。
[0041]同实施例一相同,实施例二中的检测设备30也包括设置在水箱10上的光敏检测器 31,光敏检测器31用于检测透光结构的透光率,并通过透光率判断水箱10内的污垢是否超 标。当透光率小于预定值时,则判定水箱10内的污垢超标,并启动除污设备40对水箱10内的 污垢进行清除。可选的,除污期间,加湿工作暂停,确保除污工作顺利进行。
[0042]可选的,检测设备30还包括光源32,光源32设置在水箱10上,用于透过透光结构向 光敏检测器31照射光线。水箱1〇上的污垢会使透光结构的透光率降低,光敏检测器31接收 到的光信号的^强度减弱,当水箱10上积累的污垢超标,光敏检测器31接收到的光信号低于 预定值时,除污设备40接收到光敏检测器31的检测信号,开始启动,对水箱1〇内的污垢进行 清除。
[0043]可选的,光源32和光敏检测器31设置在水箱10的外部,光源32发出的光线可以透 过水箱10直接照射到光敏检测器31上。可选的,光敏检测器31为光敏器件。可选的,水箱可 采用透光效果好的材料制成。
[0044]同实施例一相同,实施例二中,除污设备40也包括超声波去污器41,超声波去污器 41安装在水箱10上,用于去除水箱10内附着的污垢。由于污垢与容器在同样超声波影响下, 产生的振动频率不一样,污垢在振动过程中从水箱10和电极20上脱落下来,从而达到除污 目的。可选的,可以调节超声波去污器41的超声频率,进而改变污垢与容器的振动频率。 [0045]可选的,水箱10的底部设置有排污口 11,排污口 11用于排出水箱1〇内的污垢。水箱 组件在工作状态时,排污口 11为封堵状态,只有在水箱组件自清洁过程中,排污口 11被打 开,以排出清洁下来的污垢。
[0046]可选的,除污设备40还包括清洗喷嘴42,清洗喷嘴42设置在水箱10内,用于配合排 污口 11冲走水箱10内的污垢。可选的,清洗喷嘴42可为高压喷嘴,利用高水压在冲走已经掉 下来的污垢的同时还能冲掉残留在水箱10上的污垢,进一步清洁水箱10。
[0047]可选的,清洗喷嘴42为多个,多个清洗喷嘴42在水箱10内相间隔的设置。多个清洗 喷嘴42朝向水箱10内的不同位置,以便较大面积地冲洗污垢。
[0048] 与实施例一相同,实施例二中,水箱组件也包括水位控制装置50,水箱10上设置有 进水口,水位控制装置50设置在进水口上。通过水位控制装置50确保水箱10内的水位保持 在规定的范围内,避免水位降低到电极20以下导致安全隐患。
[0049] 需要说明的是,在水质一样的情况下,水箱组件每周的自清洁次数是差不多的。所 以,可以通过自清洁次数的多少判断水质的优劣。当清洁次数过多时,说明水质较差。水箱 组件会发送提醒更换水源的信息,维护人员可以自行评判是否更换。
[0050] 如图1所示,本实用新型提供了一种恒湿机,该恒湿机包括水箱组件,水箱组件为 上述的水箱组件。采用该水箱组件,可以使恒湿机的自清洁,既节省人力,还能确保恒湿机 的使用效果。
[0051] 如图1所示,在该实施例中,恒湿机包括电极20,电极20设置在水箱组件的水箱10 中,电极20用于产生水蒸气。可选的,在除污设备40清除污垢期间,水箱组件暂停加湿工作, 除污设备也可根据接收到的检测信号判断是否需要重复清洗,当清洗完毕后,水箱组件继 续加湿工作。
[0052] 从以上的描述中,可以看出,本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果:
[0053] 1、可以自行判断电极加湿容器是否存在水垢或污秽,并自动清除水垢;
[0054] 2、无需人为定时对恒温恒湿机组的电极加湿容器进行清洁维护;
[0055] 3、水质不好时,可以提醒维护人员更换水源。
[0056] 4、降低机组维护的难度,提高维护工作的效率;
[0057] 5、降低恒湿机后期维护成本。
[0058]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本 领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则 之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种水箱组件,其特征在于,包括: 水箱(10),用于储存加湿用的水; 检测设备(30),设置在所述水箱(10)上,用于检测所述水箱(10)的透光率是否低于预 定值; _ 除污设备(40),设置在所述水箱(10)上,与所述检测设备(3〇)连接,所述除污设备(4〇) 用于接收所述检测设备(30)的检测信号,并对所述水箱(1〇)内的污垢进行清除。
2. 根据权利要求1所述的水箱组件,其特征在于,所述水箱(10)上具有透光结构,所述 检测设备(30)包括设置在所述水箱(10)上的光敏检测器(31),所述光敏检测器(31)用于检 测所述透光结构的透光率。
3. 根据权利要求2所述的水箱组件,其特征在于,所述检测设备(3〇)还包括光源(3¾, 所述光源(32)设置在所述水箱(10)上,所述光源(32)用于透过所述透光结构向所述光敏检 测器(31)照射光线。
4. 根据权利要求2所述的水箱组件,其特征在于,所述水箱(1〇)整体由所述透光结构构 成。
5. 根据权利要求3所述的水箱组件,其特征在于,所述光源(32)和所述光敏检测器(31) 设置在所述水箱(10)的外部,并与所述透光结构对应设置。 _
6. 根据权利要求1所述的水箱组件,其特征在于,所述除污设备(40)包括超声波去污器 (41) ,所述超声波去污器(41)安装在所述水箱(10)上。 _
7. 根据权利要求6所述的水箱组件,其特征在于,所述水箱(1〇)的底部设置有排污口 (11),所述排污口(11)用于排出所述水箱(1〇)内的污垢。
8. 根据权利要求7所述的水箱组件,其特征在于,所述除污设备(4〇)还包括清洗喷嘴 (42) ,所述清洗喷嘴(42)设置在所述水箱(10)内。
9. 根据权利要求8所述的水箱组件,其特征在于,所述清洗喷嘴(42)为多个,多个所述 清洗喷嘴(42)在所述水箱(10)内间隔设置。
10. 根据权利要求1所述的水箱组件,其特征在于,所述水箱组件还包括水位控制装置 (50),所述水箱(1〇)上设置有进水口,所述水位控制装置(50)设置在所述进水口上。
11. 一种恒湿机,包括水箱组件,其特征在于,所述水箱组件为权利要求1至10中任一项 所述的水箱组件。
12. 根据权利要求11所述的恒湿机,其特征在于,所述恒湿机包括电极(20),所述电极 (20)设置在所述水箱组件的水箱(1〇)中,所述电极(2〇)用于产生水蒸气。
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