CN205021436U - 一种球面砂轮 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及磨削砂轮技术领域，尤其是一种球面砂轮，包括固定设置的砂轮主体和磨砂层，所述砂轮主体具有一凹球面，所述磨砂层的形状与凹球面形状相匹配，所述凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值不大于1。本实用新型提供了一种球面砂轮，轮主体具有一凹球面，凹球面内具有磨砂层，能够对球形工件进行完美的打磨，打磨精度高，成品率高。
Description
技术领域
本实用新型涉及磨削砂轮技术领域，尤其是一种球面砂轮。
背景技术
砂轮是用磨料和粘合剂混合经压坯、干燥、焙烧而制成的，疏松的盘状、轮状等各种形状的磨具。砂轮用磨料和粘合剂树脂等制成的中央有通孔的圆形固结磨具。砂轮是磨具中用量最大、适用面最广的一种，使用时高速旋转，可对金属或非金属工件的外圆、内圆、平面和各种型面等进行粗磨、半精磨以及开槽和切断等。砂轮结构一般由工作层和基体两部分组成。工作层由磨料、结合剂和填料组成，是砂轮的工作部分。基体，用于承接研磨层，并在使用时用法兰盘牢固地夹持在磨床主轴上，一般会选用铝合金、电木作基体，基体也可以由铝、钢或电木加工而成，起支承工作层和装卡磨具的作用。砂轮成型质量的好坏和使用精度的高低都与基体有很大关系。
现有技术中，砂轮一般都是平面、柱面或锥面形状的砂轮，在对球形金属或非金属工件进行打磨操作时，打磨精度难以掌握，次品率极高，增加了打磨成本，降低了工作效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有的砂轮一般都是平面、柱面或锥面形状的砂轮，在对球形金属或非金属工件进行打磨操作时，打磨精度难以掌握，次品率极高，增加了打磨成本，降低了工作效率的问题，本实用新型提供了一种球面砂轮，砂轮主体具有一凹球面，凹球面内具有磨砂层，能够对球形工件进行完美的打磨，打磨精度高，成品率高。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种球面砂轮，包括固定设置的砂轮主体和磨砂层，所述砂轮主体具有一凹球面，所述磨砂层的形状与凹球面形状相匹配，所述凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值不大于1。
为了提高球面砂轮的可操作性，所述凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值为0.5。
为了便于安装砂轮，所述砂轮主体轴心处设有便于安装砂轮的安装孔。
为了便于将磨砂层与砂轮主体的所凹球面贴合，述磨砂层由若干片扇形磨砂片拼接而成。
作为优选，所述磨砂层由8片扇形磨砂片拼接而成。
本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的一种球面砂轮，砂轮主体具有一凹球面，凹球面内具有磨砂层，能够对球形工件进行完美的打磨，打磨精度高，成品率高，能够有效降低生产成本，提高工作效率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的一种球面砂轮的三维剖视图；
图2是本实用新型的一种球面砂轮的主视剖视图。
图中：1.砂轮主体，2.磨砂层，3.安装孔，21.扇形磨砂片。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
实施例1
如图1所示，一种球面砂轮，包括固定设置的砂轮主体1和磨砂层2，砂轮主体1具有一凹球面，磨砂层2的形状与凹球面形状相匹配，凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值不大于1，砂轮主体1轴心处设有便于安装砂轮的安装孔3。
在本具体实施例中，凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值为0.5。
实施例2
在实施例1的基础上，本实施例的磨砂层2由若干片扇形磨砂片21拼接而成。
在本具体实施例中，磨砂层2由8片扇形磨砂片21拼接而成。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (5)
1.一种球面砂轮，包括固定设置的砂轮主体（1）和磨砂层（2），其特征在于：所述砂轮主体（1）具有一凹球面，所述磨砂层（2）的形状与凹球面形状相匹配，所述凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值不大于1。
2.如权利要求1所述的一种球面砂轮，其特征在于：所述凹球面的高度H和凹球面的半径R的比值为0.5。
3.如权利要求1或2所述的一种球面砂轮，其特征在于：所述砂轮主体（1）轴心处设有便于安装砂轮的安装孔（3）。
4.如权利要求1或2所述的一种球面砂轮，其特征在于：所述磨砂层（2）由若干片扇形磨砂片（21）拼接而成。
5.如权利要求4所述的一种球面砂轮，其特征在于：所述磨砂层（2）由8片扇形磨砂片（21）拼接而成。
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- 2015-08-12 CN CN201520601713.3U patent/CN205021436U/zh not_active Expired - Fee Related
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