CN204897544U - 一种自动溢流电化学水处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种自动溢流电化学水处理装置，包括进水通道（4）、布水板（11）、电化学反应室（5）、沉降室（6）、溢流通道（7）、溢流堰板（9）、排水通道（8）。待处理的水通过进水口（1）进入装置，在电化学反应室（5）发生电化学反应后由溢流通道（7）溢出，溢流堰板（9）设置的溢流高度与进水通道（4）底部高度一致，从而保证了待处理水充分均匀通过电化学反应室（5）。反应产生的沉淀将会在沉降室（6）沉降下来，并通过排污口（3）定时排出。本实用新型保证了电化学水处理的均匀通过反应室，提高了反应的效率，增加了反应沉淀物的沉淀效果。
Description
技术领域
本实用新型属于工业水处理技术领域，具体是涉及一种自动溢流电化学水处理装置。
背景技术
电化学水处理技术是一种近期越来越受到关注的水垢控制技术，并且近期由于电源技术的进步和电催化材料革新，已经开发出了越来越多样的电化学水处理装置，但已经投入实际应用的电化学水处理装置普遍存在结构复杂、处理能力不足、除垢效率不高、在线除垢时无法使电化学水处理过程中产生的水垢及时沉淀等问题。
本实用新型专利主要针对电化学水处理装置存在的上述问题，提出了一种新的设计方案，以适应越来越广泛受到关注的工业水处理规模和效能要求。
实用新型内容
本实用新型针对现在已经投入实际应用的电化学水处理装置普遍存在结垢复杂、处理能力不足、除垢效率不高、在线除垢时无法使电化学水处理过程中产生的水垢及时沉淀等问题，提出了一种自动溢流电化学水处理装置，该装置结构简单，处理量大，在线刮垢过程中，特殊的溢流设计，对电化学反应过程中产生的水垢起到了很好的沉淀效果。
本实用新型通过以下技术方案实现上述目的：
一种自动溢流电化学水处理装置，包括进水口及进水通道、布水板及隔水板、电化学反应室、沉降室、溢流通道及溢流堰板、排水通道及排水口，其中溢流堰板设置的溢流高度与进水通道的底部高度一致，进水通道的顶部与隔水板的高度一致。
待处理的水通过极板上方的布水板均匀进入电化学反应室。
所有阴极板均接在阴极接线铜排上，所有阳极板均接在阳极接线铜排上，阴极接线铜排和阳极接线铜排在隔水板上方。
水经过电化学处理后，进入沉降室，电化学产生的水垢将会沉淀在沉降室底部，水则会从底部顺着溢流通道进入排水管。
阴极板的两面均布置有刮刀，刮刀在电化学反应过程中及时将电化学反应生成的水垢及时刮下。
与现有技术相比，本实用新型的有益技术效果是：1）溢流堰板的高度设置及布水板保证了待处理的污水平顺流过电化学反应室，并均匀流过阴阳极板之间，保证了电化学处理的效率。2）布水板的有效流通面积可以根据极板数量尺寸以及污水处理量的大小灵活设计，从而保证了装置的处理能力。3）经过处理后的水进入沉降室后流速会减慢，电化学反应所产生的水垢会逐渐沉淀下来，水经过底部的溢流通道向上溢流，从而避免了将已经沉淀的水垢带出，保证了沉淀效果。4）连接阴极板和阳极板的铜排通过隔水板与水隔开，保证了装置用电安全性，减少了电流损耗。
附图说明
图1为本实用新型自动溢流电化学水处理装置的结构示意图；
图中：
1、进水口2、出水口3、排污口4、进水通道
5、电化学反应室6、沉降室7、溢流通道8、排水通道
9、溢流堰板10、布水板11、隔水板12、阴极铜排
13、阳极铜排14、进水通道背板15、阴极板16、阳极板。
具体实施方式
下面将结合附图，进一步详细说明本实用新型的具体实施方式。
请参考图1，自动溢流电化学水处理装置的一般运行过程如下：待处理的污水由进水口（1）进入进水通道（4），再经过布水板（10）均匀进入电化学反应室（5），污水在电化学反应室经过电解后进入沉降室（6），电化学反应生成的水垢将会沉淀到沉降室（6）的底部，后经排污口（3）定时排出，水则进入溢流通道（7）向上流动进入排水通道（8），最后经排水口2排出。
在上述过程中，布水板（4）确保了待处理水均匀进入电化学反应室（5），布水板（4）的有效流通面积至少是出水口截面积的1.2倍以上，且极板间隙截面积大于该有效流通面积，并根据污水处理量确定，流经极板表面的流速控制在0.5m/s左右，且流速越低，电化学处理效果越好。
在电化学反应室中，多组阴阳极板垂直并排均匀布置，以同轴安装。阴极板与阳极板间距一致，且每块阳极板均有两块阴极板与之对应。阴极板与阳极板的间距控制在5～200mm，每块阳极板单面的电流密度控制在10～1000A/㎡，根据待处理污水的电导率设计。
所有阴极板（15）均连接在阴极铜排（12）上，所有阳极板（16）均连接在阳极铜排（13）上。阴极铜排（12）与阳极铜排（13）通过隔水板（11）与待处理污水隔开，进水通道背板（14）的顶部与隔水板（11）的高度一致，也避免了铜排与水接触。
电化学反应室（5）底部是沉降室（6），污水经过电化学反应室（5）后向下进入沉降室（6），水流速度会减慢，有利于电化学反应生产的水垢沉淀，然后水再经过底部的溢流通道（7）向上溢流，从而避免了将已经沉淀的水垢带出，保证了沉淀效果。
以上仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型。凡在本实用新型的原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种自动溢流电化学水处理装置，包括进水口（1）及进水通道（4）、布水板（10）及隔水板（11）、电化学反应室（5）、沉降室（6）、溢流通道（7）及溢流堰板（9）、排水通道（8）及排水口（2），其特征在于，溢流堰板（9）设置的溢流高度与进水通道（4）底部或布水板（10）的高度一致，进水通道背板（14）的顶部与隔水板（11）的高度一致，所有阴极板（15）均接在阴极接线铜排（12）上，所有阳极板（16）均接在阳极接线铜排（13）上，阴极接线铜排（12）和阳极接线铜排（13）在隔水板（11）上方。
2.根据权利要求1所述的一种自动溢流电化学水处理装置，其特征在于，所述布水板（10）的有效流通面积不小于排水口（2）截面积的1.2倍。
3.根据权利要求1所述的一种自动溢流电化学水处理装置，其特征在于，沉降室（6）设置在电化学反应室（5）下方，并与溢流通道（7）连通。
4.根据权利要求1所述的一种自动溢流电化学水处理装置，其特征在于，所有阴极板（15）的两面均设置有可以旋转的除垢刮刀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520590226.1U CN204897544U (zh) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 一种自动溢流电化学水处理装置 |
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Publications (1)
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| CN204897544U true CN204897544U (zh) | 2015-12-23 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN204897544U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113371903A (zh) * | 2021-06-18 | 2021-09-10 | 中国科学院生态环境研究中心 | 一种电化学处理水的装置及方法 |
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2015
- 2015-08-07 CN CN201520590226.1U patent/CN204897544U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN113371903A (zh) * | 2021-06-18 | 2021-09-10 | 中国科学院生态环境研究中心 | 一种电化学处理水的装置及方法 |
| CN113371903B (zh) * | 2021-06-18 | 2023-02-17 | 中国科学院生态环境研究中心 | 一种电化学处理水的装置及方法 |
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