CN204865108U

CN204865108U - 废水处理装置

Info

Publication number: CN204865108U
Application number: CN201520616769.6U
Authority: CN
Inventors: 王波; 唐道福; 李小涌; 黄双双; 曹宝龙
Original assignee: HUIZHOU TECHUANG ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: Huizhou Techuang Electronic Technology Co ltd
Priority date: 2015-08-14
Filing date: 2015-08-14
Publication date: 2015-12-16
Anticipated expiration: 2025-08-14

Abstract

本实用新型涉及一种废水处理装置，其包括依次顺序连接的第一沉淀箱、第一溢流堰、第二沉淀箱、第二溢流堰、第三沉淀箱、第三溢流堰、第四沉淀箱及收集箱。上述废水处理装置通过设置第一沉淀箱、第二沉淀箱、第三沉淀箱、第四沉淀箱及收集箱，可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水以及提高铜粉的回收效率。此外，上述废水处理装置的结构简单紧凑，适合广泛推广使用。

Description

废水处理装置

技术领域

本实用新型涉及废水处理技术领域，特别是涉及一种废水处理装置。

背景技术

目前，在检测电路板时，一般都需要预先制备微切片，如此，可以通过微切片来检测电路板的钻孔质量，可以通过微切片来检测多层电路板的压合结构等等。

微切片在制备过程中一般需要预先经过研磨设备的研磨处理，之后再经过抛光设备的抛光处理，从而可以制备得到品质较优的微切片。

然而，在利用研磨设备研磨微切片时，研磨微切片后产生的废水一般直接通过胶管通入至下水主管道内，其中，由于研磨微切片后产生的废水中含有大量的铜粉和树脂胶，这些铜粉和树脂胶在自身的重力下极易沉淀在下水管道内，从而导致下水管道经常出现管道堵塞的问题，不仅疏通难度较大，而且价值较大的铜粉无法回收。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种结构简单紧凑、可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水、以及铜粉回收效率较高的废水处理装置。

一种废水处理装置，包括：

第一沉淀箱，

第一溢流堰，所述第一溢流堰的第一侧面与所述第一沉淀箱贴合，所述第一溢流堰设置有第一溢流坡，所述第一溢流坡的第一端与所述第一沉淀箱的开口连接；

第二沉淀箱，所述第二沉淀箱与所述第一溢流堰的第二侧面贴合，所述第二沉淀箱的开口与所述第一溢流坡的第二端连接；

第二溢流堰，所述第二溢流堰的第一侧面与所述第二沉淀箱贴合，所述第二溢流堰设置有第二溢流坡，所述第二溢流坡的第一端与所述第二沉淀箱的开口连接；

第三沉淀箱，所述第三沉淀箱与所述第二溢流堰的第二侧面贴合，所述第三沉淀箱的开口与所述第二溢流坡的第二端连接；

第三溢流堰，所述第三溢流堰的第一侧面与所述第三沉淀箱贴合，所述第三溢流堰设置有第三溢流坡，所述第三溢流坡的第一端与所述第三沉淀箱的开口连接；

第四沉淀箱，所述第四沉淀箱与所述第三溢流堰的第二侧面贴合，所述第四沉淀箱的开口与所述第三溢流坡的第二端连接；及

收集箱，所述收集箱分别与所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。

在其中一个实施例中，所述收集箱低于所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部。

在其中一个实施例中，所述第一沉淀箱设置有进水管。

在其中一个实施例中，所述第四沉淀箱设置有出水管。

在其中一个实施例中，还包括收集管，所述收集管分别与所述收集箱、第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。

在其中一个实施例中，还包括水泵，所述水泵设置于所述收集管。

在其中一个实施例中，还包括阀门，所述阀门设置于所述收集管。

在其中一个实施例中，所述第一溢流坡的坡度为30度～60度。

在其中一个实施例中，所述第二溢流坡的坡度为30度～60度。

在其中一个实施例中，所述第三溢流坡的坡度为30度～60度。

上述废水处理装置通过设置第一沉淀箱、第二沉淀箱、第三沉淀箱、第四沉淀箱及收集箱，可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水以及提高铜粉的回收效率。此外，上述废水处理装置的结构简单紧凑，适合广泛推广使用。

附图说明

图1为一实施方式的废水处理装置的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，其为一实施方式的废水处理装置10的结构示意图。

废水处理装置10包括：第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600、第四沉淀箱700及收集箱800。第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600及第四沉淀箱700依次顺序连接，研磨微切片后产生的废水依次流过第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600、第四沉淀箱700。收集箱800分别与第一沉淀箱100、第一溢流堰200、第二沉淀箱300、第二溢流堰400、第三沉淀箱500、第三溢流堰600及第四沉淀箱700连通。

请参阅图1，第一沉淀箱100通入研磨微切片后产生的废水，也就是说，外部的研磨设备在研磨微切片后发生的废水首先流入第一沉淀箱100内，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力发生沉淀，如此，研磨微切片后产生的废水会有一部分的铜粉和树脂胶沉淀在第一沉淀箱100的底部。

为了更好地通入研磨微切片后产生的废水，例如，所述第一沉淀箱设置有进水管；所述进水管与外部的研磨设备连通，如此，可以更好地通入研磨微切片后产生的废水。

请参阅图1，第一溢流堰200的第一侧面与第一沉淀箱100贴合。第一溢流堰200设置有第一溢流坡210，第一溢流坡210的第一端与第一沉淀箱100的开口连接，如此，第一沉淀箱100顶部的废水可以通过第一溢流堰200的第一溢流坡210流出。如图1所示，第一沉淀箱100的开口，即其顶部，连通第一溢流坡210的第一端。

请参阅图1，第二沉淀箱300与第一溢流堰200的第二侧面贴合，第二沉淀箱300的开口与第一溢流坡210的第二端连接。由第一沉淀箱100顶部经由第一溢流坡210流入第二沉淀箱300内的研磨微切片后产生的废水，其中，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力沉淀在第二沉淀箱300的底部，如此，可以在第一沉淀箱100的沉淀效果上，进一步对研磨微切片后产生的废水进行沉淀操作，从而可以更好地净化研磨微切片后产生的废水，且收集其内含有的铜粉。

请参阅图1，第二溢流堰400的第一侧面与第二沉淀箱300贴合。第二溢流堰400设置有第二溢流坡410，第二溢流坡410的第一端与第二沉淀箱300的开口连接，如此，第二沉淀箱300顶部的废水可以通过第二溢流堰400的第二溢流坡410流出。如图1所示，第二沉淀箱300的开口，即其顶部，分别连通第一溢流坡210的第二端、以及第二溢流坡410的第一端，这样，废水从第一沉淀箱100经由第一溢流坡210流入第二沉淀箱300内，当第二沉淀箱300的废水满时，从第二溢流坡410流入第三沉淀箱500内，下面以此类推，不再赘述。

请参阅图1，第三沉淀箱500与第二溢流堰400的第二侧面贴合，第三沉淀箱500的开口与第二溢流坡410的第二端连接。由第二沉淀箱300顶部经由第二溢流坡410流入第三沉淀箱500内的研磨微切片后产生的废水，其中，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力沉淀在第三沉淀箱500的底部，如此，可以在第二沉淀箱300的沉淀效果上，进一步对研磨微切片后产生的废水进行沉淀操作，从而可以更好地净化研磨微切片后产生的废水，且收集其内含有的铜粉。

请参阅图1，第三溢流堰600的第一侧面与第三沉淀箱500贴合。第三溢流堰600设置有第三溢流坡610，第三溢流坡610的第一端与第三沉淀箱500的开口连接，如此，第三沉淀箱500顶部的废水可以通过第三溢流堰600的第三溢流坡610流出。

请参阅图1，第四沉淀箱700与第三溢流堰600的第二侧面贴合，第四沉淀箱700的开口与第三溢流坡600的第二端连接。由第三沉淀箱500顶部经由第三溢流坡600流入第四沉淀箱700内的研磨微切片后产生的废水，其中，研磨微切片后产生的废水内含有的铜粉和树脂胶由于自身的重力沉淀在第四沉淀箱700的底部，如此，可以在第三沉淀箱500的沉淀效果上，进一步对研磨微切片后产生的废水进行沉淀操作，从而可以更好地净化研磨微切片后产生的废水，且收集其内含有的铜粉。第四沉淀箱700还用于流出沉淀净化后的废水，也就是说，从而第四沉淀箱700流出的废水直接通入至外部。

为了更好地流出沉淀净化后的废水，例如，所述第四沉淀箱设置有出水管；又如，所述出水管与下水管道连通，如此，可以更好地流出沉淀净化后的废水。

需要说明的是，研磨微切片后产生的废水依次顺序流过第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700后，可以沉淀净化绝大部分的杂质，例如，该杂质包括铜粉和树脂胶，而且，杂质沉淀量由第一沉淀箱100的底部、第二沉淀箱300的底部、第三沉淀箱500的底部到第四沉淀箱700的底部依次递减。

为了使研磨微切片后产生的废水更好地通过所述废水处理装置，例如，所述第一溢流坡、所述第二溢流坡和所述第三溢流坡平行设置；又如，所述第一溢流坡的坡度为30度～60度；又如，所述第二溢流坡的坡度为30度～60度；又如，所述第三溢流坡的坡度为30度～60度，如此，可以使研磨微切片后产生的废水更好地通过所述废水处理装置。例如，所述第一溢流坡、所述第二溢流坡和所述第三溢流坡的坡度相同；例如，均为35度。

请参阅图1，收集箱800分别与第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部连通，如此，用于将第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部沉淀产生的铜粉等杂质通入收集箱800内。例如，在收集箱800内加入酸性物质，以溶解铜粉，之后，再过滤其余杂质，最后，加入金属以置换出铜，如此，可以极大地提高铜粉的回收效率。

为了使第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部的杂质更好地混合着废水通入收集箱800内，例如，请参阅图1，废水处理装置还包括收集管900a，收集管900a分别与收集箱800、第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部连通，如此，可以使第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部的杂质更好地混合着废水通入收集箱800内。

为了使第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部的杂质更好地混合着废水通入收集箱800内，例如，请参阅图1，废水处理装置还包括水泵900b，水泵900b设置于收集管900a，如此，可以使第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500及第四沉淀箱700的底部的杂质更好地混合着废水通入收集箱800内。

为了更好地控制收集管900a内流通的废水，例如，请参阅图1，废水处理装置还包括阀门900c，阀门900c设置于收集管900a，如此，可以更好地控制收集管900a内流通的废水。

上述废水处理装置10通过设置第一沉淀箱100、第二沉淀箱300、第三沉淀箱500、第四沉淀箱700及收集箱800，可以沉淀净化研磨微切片后产生的废水以及提高铜粉的回收效率。此外，上述废水处理装置10的结构简单紧凑，适合广泛推广使用。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施方式仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种废水处理装置，其特征在于，包括：

第一沉淀箱，

2.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述收集箱低于所述第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部。

3.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述第一沉淀箱设置有进水管。

4.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述第四沉淀箱设置有出水管。

5.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，还包括收集管，所述收集管分别与所述收集箱、第一沉淀箱、所述第二沉淀箱、第三沉淀箱及第四沉淀箱的底部连通。

6.根据权利要求5所述的废水处理装置，其特征在于，还包括水泵，所述水泵设置于所述收集管。

7.根据权利要求6所述的废水处理装置，其特征在于，还包括阀门，所述阀门设置于所述收集管。

8.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述第一溢流坡的坡度为30度～60度。

9.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述第二溢流坡的坡度为30度～60度。

10.根据权利要求1所述的废水处理装置，其特征在于，所述第三溢流坡的坡度为30度～60度。