CN204855411U - X射线标准检测系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种X射线标准检测系统，包括：X射线发生装置，产生水平出射的X射线束；挡板，具由光阑；快门，包括具有通孔的挡板和可移动的遮光片；通孔的中心、光阑的中心、X射线束的中心在同一直线上；过滤装置，包括以通孔为中心位置对称设置的两组滤波转盘；每组滤波转盘包括N个滤光孔，滤光孔中夹设有滤光片；当滤波转盘旋转时，沿转动方向依次有两个滤光孔同时与通孔位置相对准，使X射线束由所述滤光孔中的滤光片进行滤光之后再由通孔出射；导轨平台包括：平行X射线束出束方向设置的导轨和在导轨上平行移动的测量检定平台；调整测量检定平台，使放置于测量检定平台上的待检物的中心与X射线束的中心相重合。

Description

X射线标准检测系统

技术领域

本实用新型涉及一种机械装置，尤其涉及一种X射线标准检测系统。

背景技术

X射线标准检测系统是指一套利用X射线对被测物进行检测的装置，常用于工业无损检测等领域。

在进行被测物检测时，需要被测物非常精准的放置在X射线束的出束位置上，在X轴、Y轴和Z轴方向都需要精确调整。

但现有的设备的调整过程复杂，很难通过简单操作就实现X射线束主轴，限束光阑中心及被检测物体的同轴，尤其是在被测物放置于较长导轨上行程可变情况下，更是不易实现，无法保证其处于X射线光束中心，因而会影响到检测效果和准确度；同时，现有设备不便于进行X射线管及被测物的位置调整，在使用过程中更换被测物，或发生震动、碰撞等原因造成位置改变后，需要很复杂的操作才能进行位置复位。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种X射线标准检测系统，从而实现方便和精确的X射线源到被测物的X射线出射调整。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种X射线标准检测系统，所述X射线标准检测系统包括：

X射线发生装置，固定在光学平台上，产生水平出射的X射线束；

挡板，由支架和固定在所述支架中的铅板构成，屏蔽X射线管产生的X射线光子主束方向的漏射线，所述挡板上具有X射线束的出射孔，形成光阑；

快门，固定在所述光学平台上，并设置在所述挡板的X射线束射出方向一侧；所述快门包括:具有通孔的挡板和可移动的遮光片；所述通孔的中心、所述光阑的中心、所述X射线束的中心在同一直线上；当所述遮光片遮挡在所述通孔上时，所述快门闭合；当所述遮光片从所述通孔上移开时，所述快门打开，使所述X射线束由所述通孔出射；

过滤装置，固定在所述光学平台上，并设置在所述快门的X射线束射出方向一侧，包括以所述通孔为中心位置对称设置的两组滤波转盘；每组滤波转盘包括N个滤光孔，所述N为大于1的正整数，所述滤光孔中夹设有滤光片；当所述滤波转盘旋转时，沿转动方向依次有两个滤光孔同时与所述通孔位置相对准，使所述X射线束由所述滤光孔中的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射；

导轨平台，设置在所述光学平台的X射线束出束方向的一侧，包括：导轨和在所述导轨上平行移动的测量检定平台；调整所述测量检定平台，使放置于所述测量检定平台上的待检物的中心与所述X射线束的中心相重合。

优选的，所述系统还包括：

监督电离室，固定在所述光学平台上，并设置在所述过滤装置的X射线束射出方向一侧，对所述X射线束的剂量进行测量。

优选的，在每组滤波转盘中，除一个滤光孔外，其余(N-1)个滤光孔中夹设有滤光片；

其中，一组滤波转盘的未夹设滤光片的滤光孔与所述通孔位置对准，当另一组滤波转盘旋转时，沿转动方向依次有一个夹设有滤光片的滤光孔与所述未夹设滤光片的滤光孔以及通孔的位置相对准，使所述X射线束由所述另一组滤波转盘的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射。

进一步优选的，所述滤光孔的直径不小于所述通孔的直径。

优选的，所述X射线发生装置包括X射线光管和光管多维调节机构；

所述光管多维调节机构固定在所述光学平台上，所述X射线光管安装在所述光管多维调节机构的安装面上；调整所述光管多维调节机构的安装面，使所述X射线光管发出的X射线束沿所述测量检定平台在所述导轨上的移动方向水平射出。

进一步优选的，所述光管多维调节机构包括：

横向导轨，垂直所述挡板安装在所述光学平台上；

旋转平台，滑设在所述横向导轨上，在所述光学平台上横向移动，并在平行所述光学平台的平面上进行角度旋转；

纵向调节架，安装在所述旋转平台上，调整所述纵向调节架，使所述纵向调节架的顶端到所述旋转平台之间的垂直距离发生改变；

光管固定器，安装在所述纵向调节架的顶端，固定提供X射线束的X射线管；

通过调节所述纵向调节架的高度，调整所述X射线束的出射高度，并且通过调节所述旋转平台的旋转角度，调整所述X射线束的出射角度，使所述X射线管的中心与所述出射孔的中心对准；通过调节所述旋转平台在所述横向导轨上的位置，调整所述X射线管与所述出射孔之间的距离。

优选的，移动基座，包括：

第一底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述导轨上，由第一电机控制，沿平行导轨方向运动；

滑轨，安装在所述第一底座上，与所述导轨方向垂直；

第二底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述滑轨上，由第二电机控制，沿垂直导轨方向运动；

第一测量平台，架设在所述第二底座上，具有第一转轴和第二转轴；通过所述第一转轴调整所述第一测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第二转轴调整第一测量平台转动；

第二测量平台，放置所述待检物，架设在所述第一测量平台之上，所述第二测量平台随所述第一测量平台垂直移动和转动；所述第二测量平台具有第三转轴、第四转轴、第五转轴和第六转轴；通过所述第三转轴调整所述第二测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第四转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿所述导轨方向的位移，通过所述第五转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿垂直所述导轨方向的位移，通过所述第六转轴调整第二测量平台转动。

优选的，所述测量检定平台包括：

移动基座，包括：

第一底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述导轨上，由第一电机控制，沿平行导轨方向运动；

滑轨，安装在所述第一底座上，与所述导轨方向垂直；

第二底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述滑轨上，由第二电机控制，沿垂直导轨方向运动；

第二测量平台，放置所述待检物，架设在所述第二底座上；所述第二测量平台具有第三转轴、第四转轴、第五转轴和第六转轴；通过所述第三转轴调整所述第二测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第四转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿所述导轨方向的位移，通过所述第五转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿垂直所述导轨方向的位移，通过所述第六转轴调整第二测量平台转动。

本实用新型X射线标准检测系统实现了方便和精确的X射线源到被测物的X射线出射调整。

附图说明

图1为本实用新型X射线标准检测系统的示意图；

图2为本实用新型X射线标准检测系统的多维调节机构的示意图；

图3本实用新型X射线标准检测系统的光学平台部分的示意图；

图4为本实用新型X射线标准检测系统的滤波转盘的示意图。

具体实施方式

下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

图1为本实用新型实施例提供的X射线标准检测系统的示意图，如图所示，本实用新型X射线标准检测系统包括：X射线发生装置1、挡板(图中未示出)、快门3、过滤装置4、监督电离室5和导轨平台6。其中，X射线发生装置1、挡板(图中未示出)、快门3、过滤装置4和监督电离室5沿图中自左向右方向依次固定在光学平台7上。

X射线发生装置1，固定在光学平台7上，产生水平出射的X射线束；

其中，所述X射线发生装置1包括X射线光管11和光管多维调节机构12，具体可以如图2所示。

所述光管多维调节机构12固定在所述光学平台7上，所述X射线光管11安装在所述光管多维调节机构12上；调整所述光管多维调节机构12，使所述X射线光管11发出的X射线束沿导轨平台6的测量检定平台62在导轨61上的移动方向水平射出。

进一步的，如图2所示，所述光管多维调节机构12可以具体包括：

横向导轨121，垂直所述挡板安装在所述光学平台7上；横向导轨121具有丝杠(图中未示出)和电机(图中未示出)。

旋转平台122，滑设在所述横向导轨121上，在所述横向导轨121的电机驱动下，所述丝杠带动旋转平台122在所述光学平台7上横向移动。并且，旋转平台122自身能够在平行所述光学平台7的平面上进行角度旋转；

纵向调节架123，安装在所述旋转平台122上，调整所述纵向调节架123，使所述纵向调节架123的顶端到所述旋转平台122之间的垂直距离发生改变；

其中，纵向调节架123具有交叉的支撑臂1231和第一转轴1232，通过转动第一转轴1232改变支撑臂1231的交叉角度从而调节高度。

光管固定器124，安装在所述纵向调节架123的顶端，固定提供X射线束的X射线管8；

光管多维调节机构12的调整原理是，通过旋转第一转轴1232，调整支撑臂1231，从而调节所述纵向调节架123的高度，实现调整所述X射线束的出射高度；通过调节所述旋转平台122的旋转角度，调整所述X射线束的出射角度，使所述X射线管的中心与挡板(图中未示出)上的出射孔的中心对准；通过电机驱动横向导轨121上的丝杠旋转，调节所述旋转平台122在所述横向导轨121上的位置，调整所述X射线管8与所述出射孔之间的距离。

本实用新型上述光管多维调节机构12，能够对X射线光管11的出射位置进行多维调节，具有简便、易操作的X射线束的出束主轴调整的功能，方便实现X射线束与光阑、快门、及其他定位装置等的准直。

挡板(图中未示出)，由支架和固定在所述支架中的铅板构成，屏蔽X射线管产生的X射线光子主束方向的漏射线，所述挡板(图中未示出)上具有X射线束的出射孔(图1中未示出)，形成光阑；

具体的，支架可以具体为一U型支架，通过螺母紧密固定在光学平台7上，支架包括插槽；铅板具有一定厚度，放于U型结构的插槽中固定。铅板的厚度由X射线管的最大管电压决定，保证铅板的厚度能够屏蔽最大管电压下的X射线光子，不会造成光子泄漏。

出射孔位于铅板中心，直径为20mm，处于X射线束的光路上。

快门3，固定在光学平台7上，并设置在挡板(图中未示出)的X射线束射出方向一侧；所述快门3包括:具有通孔的挡板和可移动的遮光片；所述通孔的中心、所述光阑的中心、所述X射线束的中心在同一直线上；当所述遮光片遮挡在所述通孔上时，所述快门3闭合；当所述遮光片从所述通孔上移开时，所述快门3打开，使所述X射线束由所述通孔出射；

过滤装置4，设置在所述快门3与所述监督电离室5之间，具体可以如图3所示，包括：以所述通孔为中心位置对称设置的两组滤波转盘41和42，滤波转盘41和42通过固定部件40固定在光学平台7上。

如图4所示，每组滤波转盘具有转动轴44，通过转动轴44与固定部件40轴接。

每组滤波转盘还具有N个滤光孔43(及43’)，其中，N为大于1的正整数。所述滤光孔43’中夹设有滤光片(图1中未示出)；滤波转盘41、42在垂直X射线束出束的平面上可实现360°旋转。

进一步的，滤光孔43(及43’)在滤波转盘41上等圆周角排列，滤光孔43(及43’)在滤波转盘42上等圆周角排列。滤波转盘41和滤波转盘42需具有相同的半径，由此保证两个转盘的滤光孔的数量和圆周角相同，以便于对两个滤波转盘的旋转控制。

在一个具体的例子中，如图4所示。滤波转盘41和42分别有20个滤光孔43(包括滤光孔43’)，除每个滤波转盘上各一个滤光孔43不夹设滤光片外，其余位置可共夹持2组共38片滤波片。

滤波片优选为金属片，材质为纯度不小于99.9％的铝、铜、锡或者铅，滤波片的厚度由所需的辐射质决定。滤波片在滤波转盘圆周上各个滤光孔43’中的排布，可以按照能量从低到高的顺利依次排列。

再如图3所示，过滤装置4还包括控制电机45。控制电机45固定在固定部件40上，并在计算机的控制下滤波转盘41和42转动。

本实用新型中，过滤装置4的滤波片可以快速安装和拆卸，并能够在通过控制电机45控制方便的使用不同的滤波片及其组合，因此有效的节省了空间。

当所述滤波转盘41和/或42在控制电机45的控制下旋转时，沿转动方向依次有两个滤光孔43和43或者43和43’或者43’和43’同时与所述通孔位置相对准，使所述X射线束由所述滤光孔43’中的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射。其中，当同时都为滤光孔43时，为对X射线束不滤光，当同时都为滤光孔43’时，为用两个滤光片叠加对X射线束进行滤光。

如果不考虑滤光片叠加的情况，则是一组滤波转盘41(或42)的未夹设滤光片的滤光孔43与所述通孔位置对准，当另一组滤波转盘42(或41)旋转时，沿转动方向依次有一个夹设有滤光片的滤光孔43’与所述未夹设滤光片的滤光孔43以及通孔的位置相对准，使所述X射线束由所述另一组滤波转盘的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射。

为保证滤光的效果，滤光孔43(包括滤光孔43’)的直径不小于通孔的直径。

监督电离室5，固定在所述光学平台7上，并设置于所述X射线束出射的光路上，测量射出的X射线束的剂量。

设置监督电离室5的目的在于监测X射线束的剂量，减少数据误差，增加检测系统的稳定性和检测数据的可靠性。当X射线束射入监督电离室5时，使得监督电离室5中的空气电离，通过测量电离电流，计算得到X射线束的剂量。

导轨平台6，设置在所述光学平台7的X射线束出束方向的一侧，包括：导轨61和在所述导轨上平行移动的测量检定平台62；调整所述测量检定平台62，使放置于所述测量检定平台62上的待检物的中心与所述X射线束的中心相重合。

其中，导轨61的设置方向与X射线束出束方向相平行。优选的，将导轨61的中心线与X射线束出束位置相对准。

如图中所示，导轨61可以是通过到对61的第一电机611驱动丝杠612，来带动测量检定平台62沿所述导轨61移动。

测量检定平台62包括：移动基座621、第一测量平台622和第二测量平台623。

移动基座621，包括：

第一底座6211，平行所述导轨61所在平面滑设在所述导轨61上，由第一电机611控制，随所述丝杠612的转动沿导轨61运动；

滑轨(图中未示出)，安装在所述第一底座6211上，与所述导轨61方向垂直；

第二底座6212，平行所述导轨61所在平面滑设在所述滑轨上，由控制所述滑轨的第二电机(图中未示出)控制，在第一底座6211之上沿垂直导轨61方向运动。

第一测量平台622，架设在所述第二底座6212上，具有第一转轴(图中未示出)和第二转轴(图中未示出)；通过所述第一转轴调整所述第一测量平台622沿垂直所述导轨61所在平面方向的高度位置，通过所述第二转轴调整第一测量平台622在平行导轨61所在平面的转动；

第二测量平台623，用于放置待检物。测量平台623可以根据待检物的尺寸大小和高度等，选择架设在第一测量平台622之上，或者直接架设在第二底座6212上。无论第一测量平台622架设在哪个位置，其目的是都是使待检物在导轨61上能够实现自动化移动，从能能够方便的对待检物在合理的距离位置进行测量。

图1中示出的是第二测量平台623架设在第二底座6212上的情况。

当待检物尺寸较小时，通常将第二测量平台623架设在第一测量平台622之上，使得所述第二测量平台623随所述第一测量平台622垂直移动和转动。

当待检物尺寸较大时，通常将第二测量平台623直接架设在第二底座6212上。

第二测量平台623具有第三转轴、第四转轴、第五转轴和第六转轴(图中均未示出)；通过所述第三转轴调整所述第二测量平台623沿垂直所述导轨61所在平面方向的高度位置，通过所述第四转轴调整所述第二测量平台623在平行导轨61所在平面沿所述导轨61方向的位移，通过所述第五转轴调整所述第二测量平台623在平行导轨61所在平面沿垂直所述导轨61方向的位移，通过所述第六转轴调整第二测量平台623转动。

在所述导轨61的末端还设置有一个基准电离室(图中未示出)，用于测量穿过待检物的X射线束的电离电流。基准电离室也可以设置在第二测量平台623上。

基准电离室和待检物的放置位置，可以由额外的激光器设备来进行校准和确定。

本实用新型X射线标准检测系统的具体工作过程如下：

1、初步安装和固定

将测量好的滤光片，按照能量从低到高的次序放入两个滤波转盘的滤光孔中，零位为空。

两个滤波转盘的固定部件稍微错位并排固定于光学平台上，使两个转盘的工作位滤光孔能够一前一后对准，即滤光孔中心和X射线束中心同轴。初始状态下，不安装滤光片的两个滤光孔处于零位。

2、待检物的放置定位

光学平台和导轨平台上分别安放一个激光器，光学平台的激光器位置与X射线光管位置相重叠，导轨平台上的激光器位置在导轨平台末端，对准导轨平台的中心线。这两个激光器一个产生横向激光，另一个产生竖向激光，相互对射产生交叉十字。也就是说，激光十字中心调整好为X射线主束中心，与快门、过滤转盘上工作位的滤波片中心、光阑、监督电离室中心在同一直线。

安放待检物于测量检定平台上，再对测量检定平台进行x、y、z、r多维调整，使得十字激光定位在待检物的中心，以此保证待检物在X射线束的中心位置处于光路上。

以同样方式实现基准电离室的精确定位。

3、工作过程

打开X射线光管，转动滤波转盘，使所需的滤波片处于的工作位。控制测量检定平台在导轨上运动到达工作位置，通过基准电离室探测和测量该待检物辐射质下的电离电流，同时监督电离室测量X射线光管出射的X射线的电离电流。数据通过数据线发送到测量系统中进行分析计算。

控制转动滤波转盘转动，更换处于工作位的滤波片，再进行电离电流测量，直至完成所有滤波转盘中加载的滤波片处于工作位的测量。

改变X射线光管的工作参数，再重复上述过程。直至完成所有所需参数的测量。

4、处理和结论

完成测量之后，对测量数据进行处理，从而可以根据基准值，给待检物一个刻度因子，完成对待检物的检定工作。

本实用新型X射线标准检测系统实现了方便和精确的X射线源到被测物的X射线出射调整，从而保证了测试数据的准确和有效。

以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种X射线标准检测系统，其特征在于，所述X射线标准检测系统包括：

X射线发生装置，固定在光学平台上，产生水平出射的X射线束；

挡板，由支架和固定在所述支架中的铅板构成，屏蔽X射线管产生的X射线光子主束方向的漏射线，所述挡板上具有X射线束的出射孔，形成光阑；

快门，固定在所述光学平台上，并设置在所述挡板的X射线束射出方向一侧；所述快门包括:具有通孔的挡板和可移动的遮光片；所述通孔的中心、所述光阑的中心、所述X射线束的中心在同一直线上；当所述遮光片遮挡在所述通孔上时，所述快门闭合；当所述遮光片从所述通孔上移开时，所述快门打开，使所述X射线束由所述通孔出射；

过滤装置，固定在所述光学平台上，并设置在所述快门的X射线束射出方向一侧，包括以所述通孔为中心位置对称设置的两组滤波转盘；每组滤波转盘包括N个滤光孔，所述N为大于1的正整数，所述滤光孔中夹设有滤光片；当所述滤波转盘旋转时，沿转动方向依次有两个滤光孔同时与所述通孔位置相对准，使所述X射线束由所述滤光孔中的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射；

导轨平台，设置在所述光学平台的X射线束出束方向的一侧，包括：平行所述X射线束出束方向设置的导轨和在所述导轨上平行移动的测量检定平台；调整所述测量检定平台，使放置于所述测量检定平台上的待检物的中心与所述X射线束的中心相重合。

2.根据权利要求1所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述系统还包括：

监督电离室，固定在所述光学平台上，并设置在所述过滤装置的X射线束射出方向一侧，对所述X射线束的剂量进行测量。

3.根据权利要求1所述的X射线标准检测系统，其特征在于，在每组滤波转盘中，除一个滤光孔外，其余(N-1)个滤光孔中夹设有滤光片；

其中，一组滤波转盘的未夹设滤光片的滤光孔与所述通孔位置对准，当另一组滤波转盘旋转时，沿转动方向依次有一个夹设有滤光片的滤光孔与所述未夹设滤光片的滤光孔以及通孔的位置相对准，使所述X射线束由所述另一组滤波转盘的滤光片进行滤光之后再由所述通孔出射。

4.根据权利要求1或3所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述滤光孔的直径不小于所述通孔的直径。

5.根据权利要求1所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述X射线发生装置包括X射线光管和光管多维调节机构；

所述光管多维调节机构固定在所述光学平台上，所述X射线光管安装在所述光管多维调节机构的安装面上；调整所述光管多维调节机构，使所述X射线光管发出的X射线束沿所述测量检定平台在所述导轨上的移动方向水平射出。

6.根据权利要求5所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述光管多维调节机构包括：

横向导轨，垂直所述挡板安装在所述光学平台上；

旋转平台，滑设在所述横向导轨上，在所述光学平台上横向移动，并在平行所述光学平台的平面上进行角度旋转；

纵向调节架，安装在所述旋转平台上，调整所述纵向调节架，使所述纵向调节架的顶端到所述旋转平台之间的垂直距离发生改变；

光管固定器，安装在所述纵向调节架的顶端，固定提供X射线束的X射线管；

通过调节所述纵向调节架的高度，调整所述X射线束的出射高度，并且通过调节所述旋转平台的旋转角度，调整所述X射线束的出射角度，使所述X射线管的中心与所述出射孔的中心对准；通过调节所述旋转平台在所述横向导轨上的位置，调整所述X射线管与所述出射孔之间的距离。

7.根据权利要求1所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述测量检定平台包括：

移动基座，包括：

第一底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述导轨上，由第一电机控制，沿平行导轨方向运动；

滑轨，安装在所述第一底座上，与所述导轨方向垂直；

第二底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述滑轨上，由第二电机控制，沿垂直导轨方向运动；

第一测量平台，架设在所述第二底座上，具有第一转轴和第二转轴；通过所述第一转轴调整所述第一测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第二转轴调整第一测量平台转动；

第二测量平台，放置所述待检物，架设在所述第一测量平台之上，所述第二测量平台随所述第一测量平台垂直移动和转动；所述第二测量平台具有第三转轴、第四转轴、第五转轴和第六转轴；通过所述第三转轴调整所述第二测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第四转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿所述导轨方向的位移，通过所述第五转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿垂直所述导轨方向的位移，通过所述第六转轴调整第二测量平台转动。

8.根据权利要求1所述的X射线标准检测系统，其特征在于，所述测量检定平台包括：

移动基座，包括：

第一底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述导轨上，由第一电机控制，沿平行导轨方向运动；

滑轨，安装在所述第一底座上，与所述导轨方向垂直；

第二底座，平行所述导轨所在平面滑设在所述滑轨上，由第二电机控制，沿垂直导轨方向运动；

第二测量平台，放置所述待检物，架设在所述第二底座上；所述第二测量平台具有第三转轴、第四转轴、第五转轴和第六转轴；通过所述第三转轴调整所述第二测量平台沿垂直所述导轨所在平面方向的高度位置，通过所述第四转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿所述导轨方向的位移，通过所述第五转轴调整所述第二测量平台在平行导轨所在平面沿垂直所述导轨方向的位移，通过所述第六转轴调整第二测量平台转动。