CN204769289U - 一种防污防指纹镀膜设备 - Google Patents

Abstract

一种防污防指纹镀膜设备,包括机体，在所述机体的上方设有机罩，所述机体上设有传输装置、以及常压喷涂装置，还包括设在所述机体上的对被镀膜基材进行清洗的等离子发生装置，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置。因此，本实用新型具有镀膜速度更快的、效率更高的优点。

Description

一种防污防指纹镀膜设备

技术领域

　　本实用新型涉及一种镀膜设备,尤其是一种防污防指纹镀膜设备。

背景技术

近几年，随着电子技术的高速发展，手机已经成为当下最为普遍的通信工具，从发展之初的按键手机，到今天的触屏手机，可以说是一个较大的飞跃。触屏手机是利用触摸屏的技术，将该技术应用到手机屏幕上面的一种手机类型，其实，为了操作上的方便，触摸屏已不仅仅应用在手机上，还被应用在平板电脑、触屏电视等上面，人们用触摸屏来代替鼠标或键盘工作；而频繁地触摸屏幕进行操作，会带来一系列的问题，比如屏幕被刮花，会有指纹、污渍等遗留在屏幕，不仅影响视觉效果、还大大影响了触摸屏的使用寿命；起初，苹果公司推出的触屏手机以及平板电脑就使用了防污防指纹膜，能大大降低触摸屏玻璃表面摩擦系数，以及抗脏污、指纹汗液的能力，提高了消费者使用的质感、手感的需求，也给触屏类的行业带来一种新的突破。

苹果公司使用的防污防指纹膜是通过传统的真空蒸镀方式进行镀膜的，具体操作是，在真空腔室内，于基材的下方加热装载有抗污涂料溶液的容器，使其内的抗污涂料气化而上升附着在基材的表面上，进而在基材的下表面上形成一层抗污薄膜。然而，此种镀膜方式需对蒸镀反应室抽真空，因此设备造价昂贵、制程时间长，而且只能用在高端类产品上，对于小型公司来说是无法实现的。

为解决上述问题，市场上有人设计出了一种抗污薄膜的常压蒸镀装置与制作设备，因为此种设备可在常压环境下进行镀膜，因此可快速地进行待处理基材的的镀膜；但是这种设备的常压镀膜装置使用的是单模组喷枪，镀膜速度慢，而且，这种设备也仅仅只能进行镀膜这一道工序，对于镀膜之前的清洗，是需要配备另外一套清洗设备对被镀膜基材先进行清洗的，另外清洗设备也是常规的空气等离子清洗装置，对被镀膜基材的表面结构会造成一定的破坏；因此不但镀膜速度慢，工序繁杂，而且产能有限，镀膜效率低。

实用新型内容

为了克服上述问题，本实用新型向社会提供一种镀膜速度更快的、效率更高的一种防污防指纹镀膜设备。

本实用新型的技术方案是：提供一种防污防指纹镀膜设备,包括机体，在所述机体的上方设有机罩，所述机体上设有传输装置、以及常压喷涂装置，还包括设在所述机体上的对被镀膜基材进行清洗的等离子发生装置，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置。

作为对本实用新型的改进，所述传输装置包括第一伺服电机、主动轮、从动轮、以及绕设于主动轮和从动轮之间的由第一伺服电机驱动的传送带。

作为对本实用新型的改进，所述常压喷涂装置上具有十二个喷枪头。

作为对本实用新型的改进，所述线性等离子发生装置包括线性等离子发射器、线性等离子主机头、以及连接线性等离子发射器和线性等离子主机头的第一连接管，所述线性等离子主机头是通过第一移动系统实现移动的。

作为对本实用新型的改进，所述第一移动系统包括第一直线导轨副、位于第一直线导轨之间的第二伺服电机、由第二伺服电机驱动的第一连接丝杆、以及第一移动平台，所述第一移动平台同时与所述第一连接丝杆和第一滑块固定连接，所述线性等离子主机头设在所述第一移动平台上。

作为对本实用新型的改进，所述常压喷涂装置包括喷枪头、药液进料系统、以及连接喷枪头和药液进料系统的第二连接管，所述常压喷涂装置是通过第二移动系统实现移动的。

作为对本实用新型的改进，所述第二移动系统包括第二直线导轨副、位于第二直线导轨之间的第三伺服电机、由第三伺服电机驱动的第二连接丝杆、以及第二移动平台，所述第二移动平台同时与所述第二连接丝杆和第二滑块固定连接，所述喷枪头设在所述第二移动平台上。

作为对本实用新型的改进，还包括药液监控系统，所述药液监控系统包括药液余量测试仪和设在所述药液余量测试仪上方的用于装载药液的压力桶，所述压力桶上设有压力表和调节阀，所述压力桶与所述第二连接管连接。

作为对本实用新型的改进，还包括PLC控制装置，所述PLC控制装置包括PLC控制系统、触摸屏以及警示灯。

本实用新型由于采用了在所述机体上设置了对被镀膜基材进行清洗的等离子发生装置，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置，本实用新型中，集清洗与镀膜于一体，可以实现在同一机体上先对被镀膜基材进行清洗后，再进行镀膜，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置，可以加快对被镀膜基材的清洗速度，从而加快镀膜进程，提高镀膜效率，另外所述线性等离子发生装置采用的气源是较高纯度的氮气，这样在清洗的过程中就不会对被镀膜基材的表面结构造成破坏。因此，本实用新型具有加快镀膜速度、提高镀膜效率、且不会破坏被镀膜基材的表面结构的优点。

附图说明

图1本实用型新一种实施例的整体结构示意图。

图2本实用新型图1中的传送带的平面结构示意图。

图3本实用新型图1中的第一移动系统的平面结构示意图。

图4本实用新型图1中的第二移动系统的平面结构示意图。

图5本实用新型另外一个视角的平面结构示意图。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语中“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”、“相连”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型的具体含义。此外，在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。

请参见图1至图5，图1和图5揭示的是一种防污防指纹镀膜设备的一种实施例，请先参加图1至图2，一种防污防指纹镀膜设备，包括机体11，在所述机体11的上方设有机罩12，所述机体11上设有传输装置2、等离子发生装置（所述等离子发生装置的数量并不受限制，可以根据需要设置一个或者多个，本实施例中是设置一个等离子发生装置），以及设在所述机体11上的常压喷涂装置5，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置3，所述传输装置2包括第一伺服电机21、减速器20、主动轮22、从动轮23、以及绕设于主动轮22和从动轮23之间的由第一伺服电机21驱动的传送带24；所述等离子发生装置是线性等离子发生装置3，这样可以加快对被镀膜基材9的清洗速度，从而加快镀膜进程，提高镀膜效率，而且所述线性等离子发生装置3采用的气源是较高纯度的氮气（氮气纯度达99.9%），这样在清洗的过程中就不会对被镀膜基材9的表面结构造成破坏。另外，由于被镀膜基材9由所述支撑点241支撑，这样就避免了传统的被镀膜基材9与传送带24接触带来的二次污染大大加快了被镀膜基材9清洗的效率。

本实用新型中，优选地，所述线性等离子发生装置3包括线性等离子发射器、气源接口（图中不可见）、线性等离子主机头32、线性等离子主机显示屏33以及连接线性等离子发射器和线性等离子主机头32的连接管，本实施例中，所述线性等离子主机头32设置在机罩12内，所述线性等离子主机显示屏33用于对线性等离子发生装置3的工作进行控制；本实用新型中，所述线性等离子主机头32是可以移动的，所述线性等离子主机头32通过第一移动系统4实现移动（请参见图3），所述第一移动系统4包括直线导轨副、位于直线导轨411之间的第二伺服电机42、由第二伺服电机42驱动的连接丝杆43、以及移动平台44，所述移动平台44同时与所述连接丝杆43和滑块固定（图中不可见）连接，所述线性等离子主机头32设在所述移动平台44上；本实用新型中，所述线性等离子发生装置3的线性等离子主机头32的清洗范围A是1.25m（A是指沿着传送带移动方向的宽度），在所述第二伺服电机42的作用下，所述连接丝杆43运动，与所述连接丝杆43固定连接的移动平台44也随着连接丝杆43运动，又因为所述移动平台44与滑块固定连接，这样所述移动平台44便在第二伺服电机42的作用下，沿所述导轨411运动。所述第一移动系统4控制线性等离子主机头32在被镀膜基材9上方沿垂直于所述传送带24的方向来回移动，对被镀膜基材9进行清洗，来回移动的线性等离子主机头32可以使得被镀膜基材9表面被清洗得更加干净。

本实用新型中，由于为了使得本实用新型散热更好，不至于因温度过高损坏机体以及被镀膜基材9，所述机罩12上还设有排风口91。

本实用新型中，所述常压喷涂装置5包括喷枪头51、药液进料系统、以及连接喷枪头51和药液进料系统的第二连接管，所述常压喷涂装置5上具有十二个喷枪头，所述喷枪头51是通过第二移动系统7实现移动的（请参见图4），所述第二移动系统7包括第二直线导轨副、支撑所述第二直线导轨副的支撑架70，位于第二直线导轨711之间的第三伺服电机72、由第三伺服电机72驱动的第二连接丝杆73、以及第二移动平台74，所述第二移动平台74同时与所述第二连接丝杆73和第二滑块固定连接，十二个所述喷枪头51设在所述第二移动平台74上；在第三伺服电机72的作用下，十二个所述喷枪头51来回移动对被镀膜基材9进行镀膜（第二移动系统7的移动过程具体请参见第一移动系统4，在此不再一一赘述）。

本实用新型中，为了更好地控制镀膜的速度，提高镀膜质量，还包括药液监控系统6，所述药液监控系统6包括药液余量测试仪61和设在所述药液余量测试仪61上方的用于装载药液的压力桶62，所述压力桶62上设有用于控制药液的流速的压力表和调节阀，所述压力桶62与所述第二连接管连接，所述药液监控系统6还包括了第二触摸屏60，所述第二触摸屏60设在所述机罩12的右上方。

本实用新型中，还包括PLC控制装置，所述PLC控制装置包括PLC控制系统、第一触摸屏81以及警示灯82，所述第一触摸屏81设在所述机罩12左上方，所述第一触摸屏81上设有控制机体11的电源开、关的按键、以及暂停等按键，另外，为了使得本实用新型能够更好地进行搬动，所述机体11的底部还设有滚轮110，本实用新型中，优选地，所述机体11底部还设有支架111。

本实用新型中，优选地，在机罩12的顶部还设有两片高效过滤器10。

本实用新型中，优选地，所述机罩12的供使用者操作面还设有玻璃门112（如图5所示），所述玻璃门是通过气缸113实现打开、闭合的，图中虚线框为玻璃门112打开的状态。

本实用新型在进行被镀膜基材9的镀膜时过程如下：接通电源，启动所述机体11，往压力桶62中加入喷涂药液，在所述第一伺服电机21的作用下，所述传送带24向前运动，将被镀膜基材9置于所述传送带24上的支撑点241上，被镀膜基材9随着所述传送带24从传送进口25进入，待移动至所述线性等离子主机头32的处理区域时，启动所述线性等离子发生装置3，所述线性等离子主机头32发射出的等离子体冲刷被镀膜基材9表面，使得被镀膜基材9表面被清洗干净，第一伺服电机21接到下一个脉冲时，所述传送带24继续向前运动，待被镀膜基材9移动至常压喷涂装置5的喷枪头51下时，十二个所述喷枪头51对被镀膜基材9进行喷涂，药液沉积在被镀膜基材9表面，待第一伺服电机21接收到下一个脉冲时，所述传送带24带动被镀膜基材9向前移动，镀膜完成后的被镀膜基材9随后从传送出口26出来。

Claims (9)

1.一种防污防指纹镀膜设备,包括机体（11），在所述机体（11）的上方设有机罩（12），所述机体（11）上设有传输装置（2）、以及常压喷涂装置（5），其特征在于，还包括设在所述机体（11）上的对被镀膜基材（9）进行清洗的等离子发生装置，所述等离子发生装置是线性等离子发生装置（3）。

2.根据权利要求1所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述传输装置（2）包括第一伺服电机（21）、主动轮（22）、从动轮（23）、以及绕设于主动轮（22）和从动轮（23）之间的由第一伺服电机（21）驱动的传送带（24）。

3.根据权利要求1所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述常压喷涂装置（5）具有有十二个喷枪头（51）。

4.根据权利要求1、2或3所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述线性等离子发生装置（3）包括线性等离子发射器、线性等离子主机头（32）、以及连接线性等离子发射器和线性等离子主机头（32）的第一连接管，所述线性等离子主机头（32）是通过第一移动系统（4）实现移动的。

5.根据权利要求4所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述第一移动系统（4）包括第一直线导轨副、位于第一直线导轨（411）之间的第二伺服电机（42）、由第二伺服电机（42）驱动的第一连接丝杆（43）、以及第一移动平台（44），所述第一移动平台（44）同时与所述第一连接丝杆（43）和第一滑块固定连接，所述线性等离子主机头（32）设在所述第一移动平台（44）上。

6.根据权利要求1、2或3所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述常压喷涂装置（5）包括喷枪头（51）、药液进料系统、以及连接喷枪头（51）和药液进料系统的第二连接管，所述常压喷涂装置（5）是通过第二移动系统（7）实现移动的。

7.根据权利要求6所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：所述第二移动系统（7）包括第二直线导轨副、位于第二直线导轨（711）之间的第三伺服电机（72）、由第三伺服电机（72）驱动的第二连接丝杆（73）、以及第二移动平台（74），所述第二移动平台（74）同时与所述第二连接丝杆（73）和第二滑块固定连接，所述喷枪头（51）设在所述第二移动平台（74）上。

8.根据权利要求1、2或3所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：还包括药液监控系统（6），所述药液监控系统（6）包括药液余量测试仪（61）和设在所述药液余量测试仪（61）上方的用于装载药液的压力桶（62），所述压力桶（62）上设有压力表和调节阀，所述压力桶（62）与第二连接管连接。

9.根据权利要求1、2或3所述的防污防指纹镀膜设备，其特征在于：还包括PLC控制装置，所述PLC控制装置包括PLC控制系统、触摸屏（81）以及警示灯（82）。