CN204558433U - 晶圆盒的气体扩散装置 - Google Patents
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title abstract description 16
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 15
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 70
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 37
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000011469 building brick Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
- H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86187—Plural tanks or compartments connected for serial flow
- Y10T137/86212—Plural compartments formed by baffles
Abstract
本实用新型是一种晶圆盒的气体扩散装置,包含一本体,具有一容置空间;一挡止件,位于该容置空间,该挡止件设置于该本体前侧,该挡止件的一端与该本体前侧形成一通道;一进气件,该进气件与该本体相连;藉由该通道路径的控制,扩散装置均匀填充气体。
Description
技术领域
本实用新型是关于一种前开式晶圆盒清洁及其内部气体扩散方法。
背景技术
在现今,电子组件尺度微缩至奈米等级,一般环境大气中微粒对于组件影响甚巨,将使组件电性可靠度降低。因此,为使半导体晶圆保持高度清洁,不致受大气微粒污染,进而影响组件可靠度,在制程中,半导体晶圆的固持、运送及储存常以晶圆载具方式完成,其中一种晶圆载具为前开式晶圆盒(FrontOpening Unified Pod,FOUP)。
习知前开式晶圆盒包括,一盒体具有一开口,一门体密封该开口,该盒体内部具有固持装置,用以平行放置复数个半导体晶圆。为保持晶圆盒内部高度清洁,常需要定时清洁,通常会设置气孔,以利内部保持高度洁净空间。此外,当晶圆盒内部装载晶圆时,为使晶圆表面湿度降低,晶圆盒内部设置有扩散装置,此时该扩散装置具有复数气孔,从晶圆盒底部向顶侧排列,使填充气体可平均扩散,需解决的问题即为,如何将气体平均扩散至晶圆盒内。
传统前开式晶圆盒清洁方式,当晶圆盒内无晶圆时,于前开式晶圆盒底侧的进出气孔配置为二进气孔及二出气孔,当气体从前开式晶圆盒底侧的二进气孔进入前开式晶圆盒时,大部分气体与二进气孔周围的区域的水气与氧气混合,进而往出气孔扩散与流动,为了清洁远离进气孔的区域内的水气与氧气,就必须持续填充入更多的气体,其中填充气体量越多,可混合取代的水气与氧气量越多,即表示清洁效率越佳;反之,填充气体量越少,可混合的水气与氧气量越少,即表示清洁效率越低。为达成高清洁效率,有改良为三进气孔及一出气孔,使水气与氧气混合速度加快,此方法仅限于前开式晶圆盒内部无载晶圆时,无法适用在前开式晶圆盒内置晶圆时,使晶圆表面湿度降低。
当晶圆置于前开式晶圆盒内部时,清洁气体从底部通孔进入后需要均匀扩散,习知一种前开式晶圆盒包含一管状扩散控制装置,该管状环境控制装置被设置有气孔及与晶圆储存盒的内部连通的复数狭缝。一或二个管状扩散控制装置可选择性地放置于前开式晶圆盒的后隅角或隔室中,并可连接至前开式晶圆盒底部上的洗净入口。除吸收材料或作为对吸收材料的替代外,该些管状扩散环境控制装置可具有一过滤器。该等管状元件或洗净接口中可具有一止回阀,用以控制进出该晶圆盒的气体的流向,以及密封地连接至其上的管状扩散组件。此方法可将清洁气体,由盒体底部直接输送至顶部,使该些气体从顶部气孔通入盒体内清洁盒体,惟此方法在清洁气体从底部进入时,将先由底部气孔孔进入盒体内部,此时,盒体底部气体流量将大于顶部,造成盒体内部清洁效果不平均。
由上述得知,习知技术以前开式晶圆盒底部进气孔及出气孔距离,控制内部清洁气体的混合,或是以扩散装置设置将清洁气体由前开式晶圆盒底部往上输送,仍无法完成清洁气体于晶圆盒内部扩散流量相同的效果,当晶圆盒内置晶圆时,会产生多处死角,造成扩散不均,晶圆湿度控制效果不佳。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种晶圆盒的气体扩散装置,透过扩散装置达到前开式晶圆盒内,气体均匀扩散效果。
本实用新型的次要目的在于提供一种晶圆盒的气体扩散装置,具有一第一气室及第二气室,当该进气件填充气体时,该些气体由第一气室均匀扩散至第二气室。
本实用新型的次要目的在于提供一种前开式晶圆盒,具有一盒体,及一扩散装置,该扩散装置设置于该前开式晶圆盒后侧。
为达到上述所指称的各目的与功效,本实用新型揭露一种晶圆盒的气体扩散装置,包含:一本体,具有一容置空间;及一挡止件,位于该容置空间,该挡止件的一端与该本体前侧形成一通道,且分割该容置空间成一第一气室及一第二气室,该第一气室与一进气件相连通,该进气件与该通道为该本体的相邻侧边设置,而于该第二气室的该本体后侧设置至少一个出气孔。
本实用新型在一实施例中,该挡止件具有一延伸件,该延伸件往该第一气室方向延伸。
本实用新型在一实施例中,该延伸件朝该本体前侧具有一平面,该平面的宽度往远离该进气件方向渐增。
本实用新型在一实施例中,其中该延伸件朝该本体前侧具有一平面,该平面的宽度具有一第一部分及第二部分,其中该第二部分宽度大于第一部分宽度。
本实用新型在一实施例中,该第一部分是靠近该进气件的一侧,该第二部分是远离该进气件的一侧,其中该第一部分的宽度不变,该第二部分往远离该进气件方向渐增。
本实用新型在一实施例中,其为一种前开式晶圆盒,包含:一盒体;及一晶圆盒的气体扩散装置,该晶圆盒的气体扩散装置设置于该盒体的后侧。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:
图1A:其为本实用新型的一较佳实施例的晶圆盒的气体扩散装置示意图;
图1B:其为本实用新型的图1A的晶圆盒的气体扩散装置B'-B'剖面图;
图2A:其为本实用新型的一较佳实施例的晶圆盒的气体扩散装置剖面图;
图2B:其为本实用新型的图2A的晶圆盒的气体扩散装置B'-B'剖面图;
图2C:其为本实用新型的图2A的扩散装置C'-C'剖面图;
图3:其为本实用新型的另一较佳实施例的前开式晶圆盒示意图。
【图号对照说明】
10 本体
20 挡止件
21 延伸件
30 进气件
40 出气孔
101 第一气室
102 第二气室
211 第一部分
212 第二部分
800 晶圆盒的气体扩散装置
900 盒体
具体实施方式
为使对本实用新型的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识,用以较佳的实施例及附图配合详细的说明,说明如下:
参照图1A,其为本实用新型的一较佳实施例的晶圆盒的气体扩散装置示意图;如图所示,本实用新型的晶圆盒的气体扩散装置,其包含:一本体10;一挡止件20;一第一气室101;一进气件30;一第二气室102;至少一个出气孔40。
请参照图1B,其为本实用新型的图1A的一较佳实施例的晶圆盒的气体扩散装置B'-B'剖面图;如图所示,该本体10具有一容置空间;该挡止件20位于该容置空间,该挡止件20的一端与该本体10前侧形成一通道,且分割该容置空间成第一气室101及第二气室102,该第一气室101与一进气件30相连通,该进气件30与该通道为该本体10的相邻侧边设置,而于该第二气室102的该本体后侧设置至少一个出气孔40。
本实用新型晶圆盒的气体扩散装置,当清洁气体由进气件30填充时,清洁气体进入第一气室101,此时,由于第一气室101透过一通道与第二气室102相连通,藉由该通道控制清洁气体于第一气室101往第二气室102底部与顶部流量,将使清洁气体向顶部填充速度较快,穿过通道向第二气室102填充的清洁气体较缓慢。因此,大幅降低清洁气体由第一气室底101进入第二气室102的流量差距。
请参照图2A,其为本实用新型的另一较佳实施例的一晶圆盒气体扩散装置示意图,其中该挡止件20设置于该本体10的容置空间内,与该本体10前侧形成一通道,该挡止件20具有一延伸件21,该延伸件21往第一气室101方向延伸,藉由该延伸件21延伸该通道长度,降低清洁气体由第一气室101进入第二气室102流量差距。
请参照图2B及图2C,其为本实用新型的图2A的一较佳实施例的晶圆盒的气体扩散装置B'-B'及C-'C'剖面图;如图所示,该挡止件20具有一延伸件21,该延伸件21往第一气室101方向延伸,该延伸件21朝本体10前侧具有一平面,该平面具有第一部分211及第二部分212,该第一部分211为靠近进气件30的一侧,该第二部分212为远离进气件30的一侧,藉由该延伸件21的第一部分211及该第二部分212的通道长度不同,控制该第一气室101流入该第二气室102清洁气体的流量均匀。
本实用新型的另一较佳实施例,该延伸件21的该第一部分211的宽度不变,该第二部分212的宽度往远离进气件30方向渐增。藉由该延伸件21延伸的第一部分211及第二部分212,使该第一气室101与该第二气室102之间通道形成路径长度不同,该通道路径长度即为该延伸件31朝向本体10前侧的一平面的宽度。当该延伸件21靠近进气件30一侧时,该通道路径可较短,即为该延伸件31的第一部分211朝向本体10前侧的一平面的宽度较窄,使清洁气体填充至靠近进气件30一侧时,可受到较短的通道路径控制其流入第二气室101的流量。当该通道远离进气件30时,该通道路径可逐渐变长,即为该延伸件31的第二部分212朝向本体前侧的一平面的宽度渐宽,使清洁气体填充至远离进气件30一侧时,可受到逐渐变长的通道路径控制其流入第一气室101的流量。该通道路径的不同,控制清洁气体于靠近进气件30一侧及远离进气件30一侧的扩散流量,使清洁气体于第二气室102时,可均匀从出气孔40流入晶圆盒内。
请参照图3,其为本实用新型的另一较佳实施例的一前开式晶圆盒示意图,该前开式晶圆盒具有一盒体900,及如前所述的一晶圆盒的气体扩散装置800,设置于该盒体900后侧,其中该晶圆盒的气体扩散装置800具有一本体,具有一容置空间;一挡止件,位于该容置空间,该些挡止件的一端与该本体前侧形成一通道,且分割该容置空间成第一气室与第二气室;第一气室与一进气件相连通,进气件与该通道为本体的相邻侧边设置,而于第二气室的本体后侧设置至少一个出气孔。透过该通道控制清洁气体由第二气室进入第一气室的流量,当清洁气体由该进气件填充时,经由该晶圆盒的气体扩散装置800,并由出气孔扩散至该盒体900内部,可大幅降低该盒体900内部底侧与顶侧流量不均,当该盒体900内置入多片晶圆时,位于底侧的晶圆及顶侧的晶圆可受到均匀流量的清洁气体。
本实用新型的晶圆盒的气体扩散装置,包含本体,具有容置空间,用以将气体扩散流入前开式晶圆盒内;进气件,与本体相连,将清洁气体填充至本体内部;挡止件,位于该容置空间,该挡止件的一端与本体前侧形成一通道;一第一气室,该第一气室底侧与进气件相连通;一第二气室,具有复数个出气孔;其中该挡止件具有一延伸件,该延伸件使靠近进气件一侧的通道路径较短,使远离进气件一侧的通道路径较长,藉此控制该第二气室清洁气体流量流入该第一气室,达到底侧与顶侧扩散均匀的效果。
应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
Claims (5)
1.一种晶圆盒的气体扩散装置,其特征在于,包含:
一本体,具有一容置空间;及
一挡止件,位于该容置空间,该挡止件的一端与该本体前侧形成一通道,且分割该容置空间成一第一气室及一第二气室,该第一气室与一进气件相连通,该进气件与该通道为该本体的相邻侧边设置,而于该第二气室的该本体后侧设置至少一个出气孔。
2.如权利要求1所述的晶圆盒的气体扩散装置,其特征在于,其中该挡止件具有一延伸件,该延伸件往该第一气室方向延伸。
3.如权利要求2所述的晶圆盒的气体扩散装置,其特征在于,其中该延伸件朝该本体前侧具有一平面,该平面的宽度往远离该进气件方向渐增。
4.如权利要求2所述的晶圆盒的气体扩散装置,其特征在于,其中该延伸件朝该本体前侧具有一平面,该平面具有一第一部分及一第二部分,其中该第二部分宽度大于该第一部分宽度。
5.如权利要求4所述的晶圆盒的气体扩散装置,其特征在于,该第一部分宽度不变,该第二部分宽度往远离该进气件方向渐增。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW103210143 | 2014-06-09 | ||
TW103210143U TWM489155U (en) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | Gas diffusion device of wafer pod |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN204558433U true CN204558433U (zh) | 2015-08-12 |
Family
ID=53485361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201520280396.XU Expired - Fee Related CN204558433U (zh) | 2014-06-09 | 2015-05-04 | 晶圆盒的气体扩散装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9899246B2 (zh) |
JP (1) | JP3198841U (zh) |
KR (1) | KR200482352Y1 (zh) |
CN (1) | CN204558433U (zh) |
DE (1) | DE202015102686U1 (zh) |
TW (1) | TWM489155U (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109791904A (zh) * | 2017-05-02 | 2019-05-21 | 未来儿股份有限公司 | 基板收纳容器 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016196390A1 (en) | 2015-06-05 | 2016-12-08 | Sxaymiq Technologies Llc | Emission control apparatuses and methods for a display panel |
KR102051380B1 (ko) | 2017-12-21 | 2019-12-04 | 한국에너지기술연구원 | 비정상상태 조건 모니터링이 가능한 온라인 기체분석시스템 및 그 작동방법 |
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CN112289718A (zh) * | 2019-07-13 | 2021-01-29 | 家登精密工业股份有限公司 | 基板载具及其气体扩散模块 |
TWI751814B (zh) * | 2020-09-22 | 2022-01-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 支撐片狀物的中央支撐裝置及存放片狀物的儲存設備 |
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CN113937041A (zh) | 2021-06-30 | 2022-01-14 | 家登精密工业股份有限公司 | 基板容器系统 |
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-
2014
- 2014-06-09 TW TW103210143U patent/TWM489155U/zh unknown
-
2015
- 2015-05-04 CN CN201520280396.XU patent/CN204558433U/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-05-14 JP JP2015002372U patent/JP3198841U/ja active Active
- 2015-05-26 DE DE202015102686.2U patent/DE202015102686U1/de active Active
- 2015-06-08 KR KR2020150003672U patent/KR200482352Y1/ko active IP Right Grant
- 2015-06-09 US US14/735,126 patent/US9899246B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR200482352Y1 (ko) | 2017-01-13 |
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JP3198841U (ja) | 2015-07-23 |
US20150357218A1 (en) | 2015-12-10 |
KR20150004506U (ko) | 2015-12-17 |
DE202015102686U1 (de) | 2015-06-10 |
TWM489155U (en) | 2014-11-01 |
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Date | Code | Title | Description |
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150812 Termination date: 20160504 |
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