CN204331229U - 液晶屏 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开一种液晶屏，涉及显示技术领域，为解决现有技术中需要加强凸起结构对液晶分子的取向的控制作用的问题而发明。该液晶屏，用于垂面排列液晶显示，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板上设有凸起结构，所述凸起结构的周围设有凹槽。

Description

液晶屏
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶屏。
背景技术
液晶显示宽视角技术分为两大类，一类是水平电场技术，即液晶屏中对液晶所施加的电场基本平行于玻璃基板；另一类是垂直电场技术，即液晶屏中对液晶所施加的电场垂直于玻璃基板。
上述的两类液晶显示宽视角技术都在液晶显示的产品中得到了广泛应用。其中，采用垂直电场技术的液晶电视的数量要占总的液晶电视数量的70％～80％。液晶电视的显示屏采用液晶屏，其中，在采用垂直电场技术的液晶屏中，液晶排列通常采用垂面排列(vertically aligned)，常常采用凸起结构来控制液晶分子的取向方向。
但是，液晶屏对凸起结构的大小、高低和数量有一定的要求，在维持凸起结构的大小、高低一定时，需要加强凸起结构对液晶分子的取向的控制作用。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种液晶屏，为了解决现有技术中需要加强凸起结构对液晶分子的取向的控制作用的问题。
为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：
一种液晶屏，用于垂面排列液晶显示，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板上设有凸起结构，所述凸起结构的周围设有凹槽。
优选地，所述凸起结构和/或凹槽位于所述彩膜基板上的预设层上；
所述凸起结构的所在层位于所述凹槽的所在层的上方；
或者，所述凸起结构的所在层与所述凹槽的所在层为同一层；
或者，所述凸起结构的所在层位于所述凹槽所在层的下方。
优选地，所述凸起结构和/或凹槽位于所述阵列基板上的预设层上；
所述凸起结构的所在层位于所述凹槽的所在层的上方；
或者，所述凸起结构的所在层与所述凹槽的所在层为同一层；
或者，所述凸起结构的所在层位于所述凹槽所在层的下方。
其中，所述凸起结构和/或凹槽的立体形状包括长方体、立方体、多边体、半球体或其他不规则立体形状。
其中，所述彩膜基板包括彩膜层、位于彩膜层上的平坦层、位于平坦层上的公共电极层；
所述凸起结构位于所述公共电极层上，所述凹槽位于所述平坦层上；
或者，所述凸起结构位于所述公共电极层上，所述凹槽位于所述彩膜层上；
或者，所述凸起结构位于所述平坦层上，所述凹槽位于所述平坦层上；
或者，所述凸起结构位于所述彩膜层上，所述凹槽位于所述彩膜层上。
优选地，所述彩膜基板包括彩膜层、位于彩膜层上的取向结构层、位于取向结构层上的公共电极层；所述凸起结构位于所述取向结构层上，所述凹槽位于所述取向结构层上。
优选地，所述阵列基板包括钝化层、位于所述钝化层上的像素电极；
所述凸起结构位于所述像素电极上，所述凹槽位于所述钝化层上；
或者，所述凸起结构位于所述钝化层上，所述凹槽位于所述钝化层上。
其中，所述阵列基板包括取向结构层、位于取向结构层上的像素电极；
所述凸起结构位于所述取向结构层上，所述凹槽位于所述取向结构层上。
优选地，所述凸起结构高度大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米；所述凹槽深度大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米。
其中，所述凹槽与所述凸起结构的距离大于或等于0微米小于或等于30.0微米。
优选地，所述阵列基板包括栅线、数据线、多个像素单元，每个所述像素单元包括第一亚像素电极和第二亚像素电极，所述第一亚像素电极和第二亚像素电极分别设置于所述像素单元对应的栅线的两侧；
所述凸起结构和凹槽位于所述彩膜基板上；所述凸起结构和所述凹槽的位置与所述栅线的位置至少部分重叠。
其中，所述阵列基板包括栅线、数据线、多个像素单元，每个所述像素单元包括第一亚像素电极和第二亚像素电极，所述第一亚像素电极和第二亚像素电极分别设置于所述像素单元对应的栅线的两侧；
所述凸起结构和凹槽位于所述阵列基板上；所述凸起结构和所述凹槽的位置与所述栅线的位置至少部分重叠。
本实用新型实施例提供的液晶屏中，由于凸起结构的周围设有凹槽，凹槽具有一定深度，从而能够强化凸起结构对液晶分子的取向的控制作用。由于可以通过增大凹槽的深度来实现强化液晶分子的取向的控制作用，因此，在制作凸起结构时，可以适当降低凸起结构的高度，从而大大降低工艺难度。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的一种液晶屏的俯视图；
图2为图1中所示液晶屏的A1A2的剖面图；
图3为本实用新型实施例提供的一种液晶屏的剖面图；
图4为本实用新型实施例提供的另一种液晶屏的剖面图；
图5为本实用新型实施例提供的又一种液晶屏的剖面图；
图6为本实用新型实施例提供的再一种液晶屏的剖面图；
图7为本实用新型实施例提供的另一种液晶屏的剖面图；
图8为本实用新型实施例提供的又一种液晶屏的俯视图；
图9为图8中所示液晶屏的A1A2剖面图；
图10为本实用新型实施例提供的另一种液晶屏的剖面图；
图11为本实用新型实施例提供的另一种液晶屏的俯视图；
图12为图11中所示液晶屏的A1A2剖面图；
图13为本实用新型实施例提供的另一种液晶屏的俯视图；
图14为图13中所示液晶屏的A1A2剖面图；
图15为本实用新型实施例提供的一种液晶屏的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型实施例详细描述。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型实施例和附图中，相同的附图标记代表液晶屏中相同的部件或相同的功能层；但有时为了清楚起见，会在不同实施例中，使用不同的附图标记代表相同的部件或相同的功能层。
本实用新型实施例提供了一种液晶屏，参见图1至图15，该液晶屏用于垂面排列液晶显示，该液晶屏包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和/或阵列基板上设有凸起结构(150，55)，凸起结构(150，55)的周围设有凹槽(160，65)。
本实用新型实施例提供的液晶屏中，由于凸起结构(150，55)的周围设有凹槽(160，65)，凹槽(160，65)具有一定深度，从而能够强化凸起结构(150，55)对液晶分子(170)的取向的控制作用。由于可以通过增大凹槽(160，65)的深度来实现强化液晶分子的取向的控制作用，因此，在制作凸起结构(150，55)时，可以适当降低凸起结构(150，55)的高度，从而大大降低工艺难度。
应当清楚，本实用新型实施例所述的阵列基板或彩膜基板中，均为玻璃基板在最下方，在玻璃基板向上依次设有各个功能层。
参见图1、图2所示的液晶屏，该液晶屏包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板上可以包括玻璃基板1、栅线10、数据线30、公共电极线20和像素电极40；像素电极40上设置有狭缝50，像素电极40通过薄膜晶体管15连接数据线30；所述彩膜基板至少包括玻璃基板100、彩膜层130、公共电极层140和凸起结构150；凸起结构150周围设有凹槽160；液晶层170设置于所述彩膜基板和阵列基板之间。所述彩膜基板还可以包括黑矩阵层、平坦层，黑矩阵层可以位于玻璃基板100与彩膜层130之间，平坦层可以位于彩膜层130和公共电极层140之间。
本实用新型实施例中，彩膜基板包括玻璃基板，以玻璃基板为首层，预设层位于玻璃基板上方，凸起结构150和/或凹槽160可位于彩膜基板上的预设层上；凸起结构150的所在层位于凹槽160的所在层的上方；或者，凸起结构150的所在层与凹槽160的所在层为同一层；或者，凸起结构150的所在层位于凹槽160所在层的下方。
凸起结构150和/或凹槽160可位于彩膜基板的预设层上，具体地，凸起结构150的所在层既可以位于凹槽160的所在层的上方，也可以位于凹槽160的所在层，即凸起结构150的所在层与凹槽160的所在层为同一层，也可以是凸起结构150的所在层位于凹槽160的所在层的下方，以上几种凸起结构150和凹槽160的所在层的设置方式，都能够强化凸起结构150对液晶分子的取向作用。
凸起结构150和/或凹槽160可以利用彩膜基板中黑矩阵层、彩膜层、或平坦层制备，也可涂覆或沉积取向结构层制备凸起结构150和/或凹槽160，取向结构层可以为有机树脂材料或无机材料。凸起结构150的所在层可以是黑矩阵层、彩膜层、平坦层、或取向结构层；凹槽160的所在层可以是黑矩阵层、彩膜层、平坦层、或取向结构层。利用取向结构层形成的凸起结构150的所在层又可称为凸起结构层；利用取向结构层形成的凹槽的所在层又可称为凹槽层；利用同一取向结构层形成的凸起结构和凹槽的所在层又可称为凸起结构和凹槽层。
作为本实用新型的实施例，仍然以玻璃基板为首层，其他预设层均位于玻璃基板的上方。图2中所示的凸起结构150的所在层为凸起结构层，位于公共电极140上，凹槽160的所在层为彩膜层130；凸起结构150的所在层位于凹槽160的所在层的上方。
作为本实用新型的实施例，图3中所示的凸起结构150的所在层为平坦层135，凹槽160的所在层为平坦层135，凸起结构150的所在层与凹槽160的所在层为同一层。
作为本实用新型的实施例，图4中所示的凸起结构150的所在层为凸起结构层，位于彩膜层130的上方，凹槽160的所在层为钝化层135，凸起结构150的所在层位于凹槽160的所在层的下方。图4中彩膜基板上的公共电极未示出。
本实用新型实施例中，彩膜基板包括彩膜层130、位于彩膜层130上的平坦层135、位于平坦层上的公共电极层140；
见图5，凸起结构150位于所述公共电极层140上，凹槽160位于所述平坦层135上；图5所示的彩膜基板还可以包括黑矩阵层(图中未示出)；
或者，见图2，凸起结构150位于所述公共电极层140上，凹槽160位于所述彩膜层130上；
或者，见图3，凸起结构150位于所述平坦层135上，凹槽160位于所述平坦层135上；图3所示的彩膜基板还可以包括黑矩阵层(图中未示出)；
或者，见图6，凸起结构150位于所述彩膜层130上，凹槽160位于所述彩膜层130上。图6所示的彩膜基板还可以包括黑矩阵层、平坦层(图中未示出)。
本实用新型实施例中，见图7，所述彩膜基板包括彩膜层130、位于彩膜层130上的取向结构层137、位于取向结构层137上的公共电极层140；凸起结构150位于取向结构层137上，凹槽160位于取向结构层137上。本实用新型实施例中，彩膜层130和取向结构层137之间还可以包括平坦层135，玻璃基板100和彩膜层130之间还可以包括黑矩阵层。
参见图8和图9，本实用新型实施例提供一种液晶屏，该液晶屏可包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板包括玻璃基板1、栅线10、数据线30、薄膜晶体管15、像素电极40；彩膜基板包括玻璃基板100、彩膜层130、公共电极层140；液晶层170设置于阵列基板与彩膜基板之间；阵列基板上设置有凸起结构55和凹槽65；公共电极层140上设有狭缝180。该阵列基板的薄膜晶体管15包括栅极、栅极绝缘层、有源层、源极和漏极，钝化层35位于薄膜晶体管的上方。
凸起结构55和/或凹槽65还可位于阵列基板上的预设层上；凸起结构55的所在层位于凹槽65的所在层的上方；或者，凸起结构55的所在层与凹槽65的所在层为同一层；或者，凸起结构55的所在层位于凹槽65所在层的下方。以上设置都能够强化凸起结构55对液晶分子的取向作用。
作为本实用新型的实施例，见图9，所述阵列基板包括钝化层35、位于所述钝化层35上的像素电极40；该阵列基板还包括薄膜晶体管15(图中未示出)，钝化层35位于薄膜晶体管15的上方；
凸起结构55位于所述钝化层35上，凹槽65位于所述钝化层35上，凸起结构55的所在层和凹槽65的所在层为同一层。
或者，凸起结构55也可以位于所述像素电极上，凹槽65位于所述钝化层35上。
作为本实用新型的实施例，见图10，所述阵列基板包括取向结构层37、位于取向结构层37上的像素电极40；
凸起结构55位于所述取向结构层上，凹槽66位于所述取向结构层上。
所述阵列基板还可以包括钝化层35，取向结构层37位于钝化层35之上，钝化层35位于薄膜晶体管(图中未示出)之上。
上述实施例中，凸起结构(150，55)和/或凹槽(160，65)的截面的形状包括长方形、方形、梯形、多边形、半圆形或其他不规则形状。例如，凹槽(160，65)的横截面可以为梯形，梯形的长底边可以朝向液晶层。凸起结构(150，55)的横截面可以为梯形，梯形的短底边可以朝向液晶层。
凸起结构(150，55)和/或凹槽(160，65)的立体形状不做限定，其中，凸起结构(150，55)和凹槽(160，65)的立体形状包括长方体、立方体、多边体、半球体或其他不规则立体形状。
本发明实施例中，凹槽(160，65)可以设置于凸起结构(150，55)的左侧、右侧、上侧或下侧，也可以环绕凸起结构(150，55)设置，本实用新型实施例不对凹槽(160，65)相对于凸起结构(150，55)的位置进行限定。
参见图11和图12所示的液晶屏，阵列基板包括玻璃基板1、栅线10、数据线30、像素电极40；彩膜基板包括玻璃基板100、彩膜层130、公共电极层140；液晶层170设置于阵列基板与彩膜基板之间，在彩膜基板上设置有凸起结构150，凸起结构150附近设置有凹槽160，具体地，凸起结构150和凹槽160设置于彩膜层130上，凸起结构150具有半球体形状，凹槽160具有环形形状，凹槽160围绕凸起结构150一圈设置。该彩膜基板还可以包括黑矩阵层、平坦层(图中未示出)。
参见图13和图14所示的液晶屏，该液晶屏包括阵列基板和彩膜基板；阵列基板包括玻璃基板1、栅线10、数据线30、像素电极40；彩膜基板包括玻璃基板100、彩膜层130、公共电极层140；液晶层170设置于阵列基板与彩膜基板之间；像素电极40上设置有狭缝50，彩膜基板上设置有凸起结构150，狭缝50和凸起结构150交替设置；在凸起结构150周围设置有凹槽160，具体地，凹槽160可设置于凸起结构150的顶端附近，凹槽160可为长方体形状。具体地，凸起结构150和凹槽160设置于彩膜层130中。该彩膜基板还可以包括黑矩阵层、平坦层。
上述实施例中，凸起结构(150，55)高度可以大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米；所述凹槽(160，65)深度度大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米。
由于液晶屏的盒厚一般为3.0微米到7.0微米，凸起结构(150，55)的高度和凹槽(160，65)的深度在上述区间时，可以对液晶的取向起到比较好的控制作用。
优选地，凹槽(160，65)与凸起结构的(150，55)距离大于或等于0微米小于或等于30.0微米。凹槽(160，65)与凸起结构(150，55)的距离越近，凸起结构(150，55)对液晶的取向的控制作用越强，凹槽(160，65)与凸起结构(150，55)的距离在上述范围内时，都可以达到对液晶分子的取向有比较好的控制作用，当凹槽(160，65)与凸起结构(150，55)的距离大于30.0微米时，凸起结构(150，55)对液晶分子的取向的控制作用变差。凸起结构(150，55)与凹槽(160，65)的距离是指两者之间的最近距离。
参见图1、图2、图8和图13，上述实施例中，凹槽(160，65)的深度为d2，0.5微米≤d2≤3.0微米，更优选的1.0微米≤d2≤2.0微米；凸起结构(150，55)的高度为d3，0.5微米≤d3≤3.0微米，更优选的1.0微米≤d3≤2.0微米；凹槽(160，65)与凸起结构(150，55)的最近距离为d1，优选的，0≤d1≤30.0微米，更优选的，0≤d1≤10.0微米。
本实用新型实施例提供一种液晶屏，如图15所示，该阵列基板包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板包括栅线10、数据线30、多个像素单元，每个所述像素单元包括第一亚像素电极40a和第二亚像素电极40b，所述第一亚像素电极40a和第二亚像素电极40b分别设置于所述像素单元对应的栅线10的两侧。
凸起结构150和凹槽160位于所述彩膜基板上；凸起结构150和凹槽160的位置与所述栅线10的位置至少部分重叠。
在图15所示的液晶屏中，第一亚像素电极40a通过第一薄膜晶体管15a连接数据线30，第二亚像素电极40b通过第二薄膜晶体管15b连接数据线30，位于第一亚像素电极40a和40b之间的液晶分子的排列会受到第一亚像素电极40a、第二亚像素电极40b、数据线30和栅线10产生的电场的干扰。
在图15所示的液晶屏中，凸起结构150和凹槽160设置于所述彩膜基板上；凸起结构150和凹槽160的位置与所述栅线10的位置至少部分重叠。凸起结构150和凹槽160可以用来调整位于第一亚像素电极40a和40b之间的液晶分子的排列，凸起结构150和凹槽160的位置与栅线10的位置至少部分重叠，可以减小凸起结构150和凹槽160造成的局部漏光。
或者凸起结构150和凹槽160位于所述阵列基板上；凸起结构150和凹槽160的位置与所述栅线10的位置至少部分重叠。
在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种液晶屏，用于垂面排列液晶显示，包括彩膜基板和阵列基板，其特征在于，所述彩膜基板和/或阵列基板上设有凸起结构，所述凸起结构的周围设有凹槽。
2.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述凸起结构和/或凹槽位于所述彩膜基板上的预设层上；
所述凸起结构的所在层位于所述凹槽的所在层的上方；
或者，所述凸起结构的所在层与所述凹槽的所在层为同一层；
或者，所述凸起结构的所在层位于所述凹槽所在层的下方。
3.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述凸起结构和/或凹槽位于所述阵列基板上的预设层上；
所述凸起结构的所在层位于所述凹槽的所在层的上方；
或者，所述凸起结构的所在层与所述凹槽的所在层为同一层；
或者，所述凸起结构的所在层位于所述凹槽所在层的下方。
4.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述凸起结构和/或凹槽的立体形状包括多边体和半球体。
5.根据权利要求2所述的液晶屏，其特征在于，所述彩膜基板包括彩膜层、位于彩膜层上的平坦层、位于平坦层上的公共电极层；
所述凸起结构位于所述公共电极层上，所述凹槽位于所述平坦层上；
或者，所述凸起结构位于所述公共电极层上，所述凹槽位于所述彩膜层上；
或者，所述凸起结构位于所述平坦层上，所述凹槽位于所述平坦层上；
或者，所述凸起结构位于所述彩膜层上，所述凹槽位于所述彩膜层上。
6.根据权利要求2所述的液晶屏，其特征在于，所述彩膜基板包括彩膜层、位于彩膜层上的取向结构层、位于取向结构层上的公共电极层；所述凸起结构位于所述取向结构层上，所述凹槽位于所述取向结构层上。
7.根据权利要求3所述的液晶屏，其特征在于，所述阵列基板包括钝化层、位于所述钝化层上的像素电极；
所述凸起结构位于所述像素电极上，所述凹槽位于所述钝化层上；
或者，所述凸起结构位于所述钝化层上，所述凹槽位于所述钝化层上。
8.根据权利要求3所述的液晶屏，其特征在于，所述阵列基板包括取向结构层、位于取向结构层上的像素电极；
所述凸起结构位于所述取向结构层上，所述凹槽位于所述取向结构层上。
9.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述凸起结构高度大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米；所述凹槽深度大于或等于0.5微米，小于或等于3.0微米。
10.根据权利要求9所述的液晶屏，其特征在于，所述凹槽与所述凸起结构的距离大于或等于0微米小于或等于30.0微米。
11.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述阵列基板包括栅线、数据线、多个像素单元，每个所述像素单元包括第一亚像素电极和第二亚像素电极，所述第一亚像素电极和第二亚像素电极分别设置于所述像素单元对应的栅线的两侧；
所述凸起结构和凹槽位于所述彩膜基板上；所述凸起结构和所述凹槽的位置与所述栅线的位置至少部分重叠。
12.根据权利要求1所述的液晶屏，其特征在于，所述阵列基板包括栅线、数据线、多个像素单元，每个所述像素单元包括第一亚像素电极和第二亚像素电极，所述第一亚像素电极和第二亚像素电极分别设置于所述像素单元对应的栅线的两侧；
所述凸起结构和凹槽位于所述阵列基板上；所述凸起结构和所述凹槽的位置与所述栅线的位置至少部分重叠。
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