CN203002724U

CN203002724U - 一种空气调节监测系统

Info

Publication number: CN203002724U
Application number: CN 201220647481
Authority: CN
Inventors: 孙文婷; 赵宏宇; 裴立坤; 高�浩
Original assignee: Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd
Current assignee: Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd
Priority date: 2012-11-29
Filing date: 2012-11-29
Publication date: 2013-06-19
Anticipated expiration: 2022-11-29

Abstract

本实用新型提供一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，该系统包括：主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置；均风装置位于风机机组风向的下方，可调层流装置位于设备底部，气体压力传感器和空气洁净度测试装置位于设备内部，静电阻抗器和静电监视器位于主框架上。本实用新型主要用于消除半导体清洗机内部环境中的各项污染源，使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境，有效防止和去除空气中的颗粒和浮尘，方便地了解设备内部洁净度，并且有效消除设备内部产生的静电，从而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最终使芯片成品率增加，降低电子元器件的生产制造成本。

Description

一种空气调节监测系统

技术领域

本实用新型涉及超洁净系统技术领域，尤其涉及一种应用于半导体清洗设备内部的空气调节监测系统。

背景技术

半导体清洗设备对内部环境的洁净度要求极高，然而由于受设备自身和设备周围环境影响，其内部总是不可避免的存在颗粒、金属杂质等污染源。同时在设备运行过程中，各运动部件的运动不可避免的产生摩擦，在相对湿度较低的硅片加工环境中，摩擦很容易产生高级别的静电荷，成为硅片表面的又一污染源。这些污染源能使硅片上的芯片电学失效，据统计80%的芯片报废是由污染引起。

根据洁净区空气洁净度分级国际标准ISO14644-1，一般半导体清洗设备内部空气洁净度要达到ISO Class 4以上的粒子最大浓度限值要求。为保证腔室的洁净度要求，现有技术通常采用风机产生的垂直层流，来消除空气中的浮尘、颗粒等，通过人工调整风速来保持环境的高洁净度。但是由于风机出风口仍会引入一定颗粒，并且当风速进风量和排风量相差过大时，腔室内的空气会产生紊流，因此现有技术仍存在缺陷。

实用新型内容

本实用新型主要用于消除清洗机内部环境中的上述各项污染源，使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境，有效防止和去除空气中的颗粒和浮尘，方便地了解设备内部洁净度，并且有效消除设备内部产生的静电，从而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最终使芯片成品率增加，降低电子元器件的生产制造成本。

为解决上述问题，本实用新型提供一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，该系统包括：

主框架；

风机机组，位于所述设备顶部，用于产生层流风；

风机固定支架，用于固定所述风机机组；

均风装置，位于所述风机机组风向的下方，用于使风以层流形式吹向所述设备的内部；

可调层流装置，位于所述设备底部，用于保证所述设备内部气流稳定；

气体压力传感器，位于所述设备内部，用于检测所述设备内部的压力；

静电阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述设备内部的静电；

静电监视器，安装在所述主框架上，用于检测所述设备内部静电消除的效果和所述静电阻抗器的工作情况；

空气洁净度测试装置，安装在所述设备内部，用于对所述设备内部的洁净度进行周期性检测、判定洁净度级别、同时反馈检测数据。

进一步的，所述风机机组内部还设置有特效颗粒过滤器，用于过滤风口的颗粒。

进一步的，所述风机机组将气流速度控制在0.01-0.04m/s，所述风机机组具有无级调速功能，根据所述气体压力传感器的反馈实现自动调节。

进一步的，所述均风装置将所述风机机组100%覆盖。

进一步的，所述气体压力传感器检测到所述设备内瞬间的压力变化后，将所述设备内压力改变值反馈给计算机控制系统，所述计算机控制系统自动调高或降低风速，保证所述设备内部始终保持在预定的压力范围内。

进一步的，当所述设备内部颗粒浓度超过预定标准时，所述空气洁净度测试装置报警，提醒工程师进行维护。

本实用新型系统通过风机机组、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器能严格保证设备内部气压恒值稳定的垂直层流，并且风速能根据设备的内环境进行自动调节，使设备内部达到最优的除尘气压状态。该系统的静电阻抗器和静电监视器能有效消除设备内部的带电粒子。通过空气洁净度测试装置监控设备内部洁净度，从而保证了半导体清洗设备所需的洁净度要求，能有效提高半导体产品的成品率。

附图说明

图1是本实用新型系统的结构图。

附图中的编码分别为：1-主框架，2-风机机组，3-风机固定支架，4-均风装置，5-可调层流装置，6-气体压力传感器，7-静电阻抗器，8-静电监视器，9-空气洁净度测试装置。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作详细的说明。

图1为本实用新型系统的结构图，本实用新型提供一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，该系统包括：

1-主框架；

2-风机机组，位于所述设备顶部，用于产生层流风；

3-风机固定支架，用于固定所述风机机组；

4-均风装置，位于所述风机机组风向的下方，用于使风以层流形式吹向所述设备的内部；

5-可调层流装置，位于所述设备底部，用于保证所述设备内部气流稳定；

6-气体压力传感器，位于所述设备内部，用于检测所述设备内部的压力；

7-静电阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述设备内部的静电；

8-静电监视器，安装在所述主框架上，用于检测所述设备内部静电消除的效果和所述静电阻抗器的工作情况；

9-空气洁净度测试装置，安装在所述设备内部，用于对所述设备内部的洁净度进行周期性检测、判定洁净度级别、同时反馈检测数据。

进一步的，所述均风装置将所述风机机组100%覆盖。

半导体清洗设备对内部洁净度要求极高，现有技术通常采用风机产生的垂直层流，来消除空气中的浮尘、颗粒等，但是由于风机出风口仍会引入一定颗粒，所以本发明系统中所选风机内部设置有特效颗粒过滤器，为达到最佳的过滤效果，风机速度要控制气流速度在0.01-0.04m/s。风机须具有无级调速功能，以根据气压传感器的反馈实现自动调节。

因为从风机吹出的风不具有层状气流，所以在风机吹向下方，设备内部天花板处设置有均风装置，这种均风装置要将风机100%覆盖，使风以层流形式吹向设备内部。

当风速进风量和排风量相差过大时，腔室内的空气会产生紊流，为解决这个问题，所述系统采用可调排风量的层流装置，以保证设备内部气流稳定，使设备内部始终具有均匀垂直层状气流。此外通过联合调节风机进风量和层流装置排风量，可以使设备内部达到最优的气压状态，使设备内部气压大于设备所处环境气压，防止设备外部的污染颗粒通过设备缝隙进入设备内部。

一旦外部环境变化（如打开设备门等），都会在腔室内形成新的气流，改变其相对密闭的正压状态，引起室外污染物的潜入，通过气体压力传感器可以灵敏检测到设备内瞬间的压力变化，它将设备内压力改变值反馈给计算机控制系统，控制系统自动调高或降低风速，以保证设备内部始终保持在一定压力范围内，达到最好的除尘效果。

随着器件关键尺寸的缩小，静电释放对小颗粒的吸引作用很强，能产生致命缺陷，所以设备内部对静电释放必须控制。系统安装在主框架上的静电阻抗器可以有效防止静电造成的芯片受损，降低报废率，从而降低制造成本。同时设备内部安装有静电监视器，方便检测腔室内静电消除的效果，检测静电阻抗器的工作情况。

设备内部安装有空气洁净度检测装置，其能对设备内部洁净度周期性检测，其可根据测试数值，自动判定洁净度级别，同时将检测数值通过USB或RS485与计算机相连，反馈测试数据，当设备内部颗粒浓度超标时，会实现报警，提醒工程师进行内部维护。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

Claims

1.一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，其特征在于，该系统包括：

主框架；

风机机组，位于所述设备顶部，用于产生层流风；

风机固定支架，用于固定所述风机机组；

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述风机机组内部还设置有特效颗粒过滤器，用于过滤风口的颗粒。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述风机机组将气流速度控制在0.01-0.04m/s，所述风机机组具有无级调速功能，根据所述气体压力传感器的反馈实现自动调节。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述均风装置将所述风机机组100%覆盖。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述气体压力传感器检测到所述设备内瞬间的压力变化后，将所述设备内压力改变值反馈给计算机控制系统，所述计算机控制系统自动调高或降低风速，保证所述设备内部始终保持在预定的压力范围内。

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，当所述设备内部颗粒浓度超过预定标准时，所述空气洁净度测试装置报警，提醒工程师进行维护。