CN202793832U - 化工合成过程中取样装置的清洗机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种化工合成过程中取样装置的清洗机构，属于化工产品技术领域。它解决了现有的化工产品合成过程中，采样装置清洗不方便的问题。本化工合成过程中取样装置的清洗机构，取样装置包括样品室、抽取装置和取样管道，取样管道的一端与样品室连通，另一端伸入至反应釜内，取样管道上设有进样阀，所述的清洗机构包括清洗管道，清洗管道的一端与样品室连通，另一端与车间固有的自来水系统连通。本化工合成过程中取样装置的清洗机构可在取样完成后，不需要进行任何拆卸工作即可对取样装置进行清洗，操作简单方便。

Description

化工合成过程中取样装置的清洗机构

技术领域

本实用新型属于化工产品技术领域，涉及一种化工产品合成过程中取样装置的清洗机构。

背景技术

在化工合成过程中，反应过程及终点的控制，是一个至关重要的因素，这个过程直接影响反应的收率及产品的质量。

在化工合成过程中，为了清楚地知道物料反应的状态，要求经常取样检测一些相对应的指标，而反应物料的状态比较复杂，物料往往带有危险性。传统的取样方法，往往先关闭搅拌，再采用取样瓶、勺子等方式取样，取样的过程非常危险，同时因关闭搅拌而影响反应过程，或者因无法取样而不能准确掌握反应的状态，对反应的收率及产品的质量产生一定的影响。也有反应必须要全密封反应，取样必须要先打开釜盖，再取样，操作非常复杂并且危险。

为此，人们设计出了一种将取样管道直接伸入至反应釜内，通过取样管道将反应釜内的物料抽至样品室内进行检测的取样装置，这种取样装置虽然安全快速、操作简单、不影响反应过程，但是检测完成后清洗不便。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有化工合成过程中取样所存在的上述问题，而提出了一种可方便清洗取样装置的清洗机构。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种化工合成过程中取样装置的清洗机构，取样装置包括样品室、抽取装置和取样管道，取样管道的一端与样品室连通，另一端伸入至反应釜内，取样管道上设有进样阀，其特征在于，所述的清洗机构包括清洗管道，清洗管道的一端与样品室连通，另一端与车间固有的自来水系统连通。

在上述的化工合成过程中取样装置的清洗机构中，所述的样品室与取样管道之间连通有回流管道，回流管道上设有回流阀。

取样工作随着反应完成而结束，此时反应釜中物料已放完，关闭进样阀和回流阀，打开清洗阀，使自来水充满样品室进行清洗。接下来，可打开回流阀将清洗液放入反应釜，或打开进样阀放入反应釜，循环多次，将取样装置清洗干净。

与现有技术相比，本化工合成过程中取样装置的清洗机构可在取样完成后，不需要进行任何拆卸工作即可对取样装置进行清洗，操作简单方便。

附图说明

图1是本清洗机构与取样装置配合使用的结构示意图。

图中，1、取样管道；2、进样阀；3、样品室；4、真空管道；5、真空阀；6、放空管道；7、放空阀；8、回流管道；9、回流阀；10、放样管道；11、放样阀；12、清洗管道；13、清洗阀；14、警戒线。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1所示，化工合成过程中取样装置包括样品室3以及与样品室3连通的取样管道1、回流管道8、放空管道6、真空管道4和放样管道10。清洗机构包括清洗管道12，清洗管道12的一端与取样管道1连通，另一端与与车间固有的自来水系统连通，清洗管道12上还设有清洗阀13。

取样管道1的一端应伸入样品室3的底端略上方处，离底端距离优选在2～5cm，另一端伸入反应釜底端略上方处，离底端的距离优选在5～10cm，端部呈斜角形，取样管道1上设有进样阀2。放空管道6应敞口并设有放空阀7，放空管道6与样品室3连通的一端伸入样品室3顶端略下处，离样品室3顶端的距离优选2～5cm。真空管道4的一端应伸入样品室3顶端略下处，离样品室3顶端的距离优选2～5cm，另一端与车间固有的真空系统连接，真空管道4上设有真空阀5。放样管道10上设有放样阀11，并连接在样品室3底端略上方处，离底端的距离优选在2～5cm。

样品室3采用透明硬性耐压材质构成，可由外观察样品室3内物料的数量，除连接管道外，应为全封闭状态，样品室3的底部呈倾斜状，倾斜角度为10～30°。样品室3的筒体上有警戒线14，来控制样品室3内物料的数量，样品室3底端应略倾斜，以保证回流时可以完全流尽样品室3内物料，角度优选10～30°。回流管道8的一端连通在样品室3的底部，另一端与取样管道1连通，回流管道8上设有回流阀9。

使用时，关闭放空阀7、放样阀11、回流阀9、清洗阀13，打开进样阀2，打开真空阀5，利用负压，使反应釜中的物料从取样管道1进入样品室3，待物料达到样品室3的警戒线14后，关闭真空阀5，关闭进样阀2，打开放空阀7，准备好接收的容器后，打开放样阀11，放出样品，对样品进行检测。关闭放阀11，打开回流阀9，使多余的物料经取样管道1回流至反应釜中。由于样品室3底部及回流管道8倾斜，所以物料可以完全地回到反应釜中。

第二次取样时，待物料达到警戒线14时，关闭真空阀5，关闭进样阀2，打开放空阀7，打开回流阀9，使物料回流至反应釜，再按第一次取样时步骤进行取样，目的是消除上一次取样时样品室3中残余样品，保证样品有代表性。

在化工合成过程中，可随时对反应物料进行取样，监控反应过程。

整个反应过程结束后，反应釜中物料已放完后，检查确保真空阀5、放空阀7、放样阀11、进样阀2、回流阀9关闭，打开清洗阀13，使自来水充满样品室3进行清洗，清洗液可打开回流阀9放入反应釜，或打开进样阀2放入反应釜，循环多次，将取样装置清洗干净。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims (2)

1.一种化工合成过程中取样装置的清洗机构，取样装置包括样品室（3）、抽取装置和取样管道（1），取样管道（1）的一端与样品室（3）连通，另一端伸入至反应釜内，取样管道（1）上设有进样阀（2），其特征在于，所述的清洗机构包括清洗管道（12），清洗管道（12）的一端与样品室（3）连通，另一端与车间固有的自来水系统连通。

2.根据权利要求1所述的化工合成过程中取样装置的清洗机构，其特征在于，所述的样品室（3）与取样管道（1）之间连通有回流管道（8），回流管道（8）上设有回流阀（9）。

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