CN202738526U - 石斛离地栽培架 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种石斛离地栽培架,它由立柱、横梁、栽培槽、遮阳网、通风孔、排水孔等组成,立柱栽立于地面,立柱顶端固定住遮阳网,横梁两端固定在立柱上,栽培槽放置在横梁上,使栽培槽悬离地面,栽培槽两侧有很多通风孔,底部有很多排水孔,栽培基质置于栽培槽上,石斛种植于栽培基质上,为石斛人工栽培提供一种温暖、透气、产量高和管理方便的栽培环境。
Description
所属技术领域
本实用新型涉及石斛人工栽培,是一种石斛离地栽培架。
背景技术
石斛是一种极其珍贵的中药材,由于自然环境遭到破坏,野生资源已濒临灭绝,野生环境下石斛主要附生在高大的树干上,生长条件为温暖、湿润、透风的环境中,由于近年来石斛市场需求量大,各地积极开展野生石斛人工栽培技术研究,目前,石斛的人工种植方式主要有贴树放养种植和地面苗床种植两种,贴树放养种植虽然有节约土地的优点,但管理不便,施肥困难和产量低等缺点,地面苗床种植往往成本高,苗床排水不易,石斛根系透气困难,容易死苗。
发明内容
为了克服现有石斛人工栽培方法的不足,本实用新型提供了一种石斛离地栽培架,使石斛人工栽培环境接近野生状态,温暖湿润,半遮阳、通风透气、成本低、管理方便。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:立柱栽立于地面上,横梁两端固定在相邻的立柱上,栽培槽放置在横梁上,使栽培槽悬离于地面,栽培槽两侧有通风孔,底部有排水孔,立柱顶端固定住遮阳网,栽培槽与遮阳网构成一个通风、透气、排水容易的小型栽培床,栽培基质置于栽培槽中,石斛栽培在基质上,方便人员管理。
本实用新型的有益效果是,为石斛的生长提供了一种半遮阳、通风透气、排水良好、温暖湿润的栽培架,石斛长势好,产量高,管理方便。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型实施例主视示意图;
图2是本实用新型实施例右视示意图;
图3是本实用新型实施例栽培槽俯视示意图;
图4是图2中A-A剖视示意图;
图中1.地面,2.立柱,3.横梁,4.栽培槽,5.遮阳网,6.通风孔,7.排水孔,8.栽培基质,9.石斛。
具体实施方式
在图1、图2中,立柱(2)栽立于地面(1),横梁(3)两端固定在相邻的立柱(2)上,栽培槽(4)放置于横梁(3)的上面,横梁(3)与地面(1)的高度h为700~1000毫米,立柱(2)顶端固定有遮阳网(5),立柱(2)顶端与地面(1)的高度H为1700~2000毫米,立柱(2)之间横向距离B为1000~1400毫米,纵向距离L为2000~3000毫米。
在图3、图4中,栽培槽(4)的宽度b为600~800毫米,栽培槽(4)两侧 有很多通风孔(6),底部有很多的排水孔(7),通风孔(6)和排水孔(7)的宽度C为20~30毫米,栽培基质(8)用直径为200~300毫米的树干和碎树皮组成,置于栽培槽(4)中,石斛(9)种植于栽培基质(8)上。
Claims (2)
1.一种石斛离地栽培架,其特征是:立柱(2)栽立于地面(1),立柱(2)顶端固定住遮阳网(5),横梁(3)两端固定在立柱(2)上,栽培槽(4)放置在横梁(3)上,使栽培槽(4)悬离地面(1),栽培槽(4)两侧有很多通风孔(6),底部有很多排水孔(7),栽培基质(8)置于栽培槽(4)上,石斛(9)种植于栽培基质(8)上。
2.根据权利要求1所述的石斛离地栽培架,其特征是:横梁(3)离地面(1)的高度h为700~1000毫米。
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130220 Termination date: 20130616 |