CN202621480U - 一种对盒设备清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种对盒设备清洁装置，包括：用于通过改变空间位置来接触对盒设备，并对对盒设备进行清洁操作的滚轮；用于控制滚轮在空间的X、Y和Z三个轴方向上进行移动来改变空间位置的位置调整单元；用于存储清洁材料的储蓄盒；与储蓄盒连接，用于对滚轮喷洒清洁材料，以及采用洁净水对使用后的滚轮进行清洁的处理单元。在对滚轮喷洒了清洁材料之后，由于对盒设备的上定盘和下定盘在Z轴方向上高度不同，并且在Y轴方向上比滚轮本身的宽度更宽，因此调节滚轮的空间位置，使其能够直接接触对盒设备，并采用清洁材料通过滚轮自身的旋动擦拭对盒设备的定盘及SFC。
Description
ー种对盒设备清洁装置
技术领域
[0001] 本实用新型涉及液晶屏制造技木，特别是指ー种对盒设备清洁装置。
背景技术
[0002] 制造液晶显示器（LCD, Liquid Crystal Display)的过程中，采用真空对盒设备(VAS,Vacuum Alignment System)将阵列（Array)基板和彩膜（CF,Color Filter)基板贴合在一起。对盒设备的定盘采用粘性薄膜吸盘（SFC，Sticky Film Chuck)吸附基板（包括Array基板和CF基板，以下均简称为基板），定盘及SFC上沾染灰尘后会影响LCD的良品率；随着SFC黏着カ的下降，还存在吸附不住基板的风险，因此需要定期的清洁对盒设备。
[0003] 现有技术中，在对盒设备运行了一定的时间后停止其运行，人工清洁对盒设备的定盘与SFC。·
[0004] 现有技术存在如下问题：人工清洁消耗的时间较长，影响对盒设备的嫁动率；人为疏忽会损伤对盒设备，影响对盒设备的使用寿命；清洁过程需要打开对盒设备的安全门导致对盒设备的洁净度下降；并且人工接触清洁材料会对身体健康不利。
实用新型内容
[0005] 本实用新型要解决的技术问题是提供ー种对盒设备清洁装置，用于解决现有技术中，人工清洁消耗的时间较长，影响对盒设备的嫁动率的缺陷。
[0006] 为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供ー种对盒设备清洁装置，包括：
[0007] 用于通过改变空间位置来接触对盒设备，并对所述对盒设备进行清洁操作的滚轮；
[0008] 用于控制所述滚轮在空间的X、Y和Z三个轴方向上进行移动来改变空间位置的位
置调整单元；
[0009] 用于存储清洁材料的储蓄盒；
[0010] 与所述储蓄盒连接，用于对所述滚轮喷洒所述清洁材料，以及采用洁净水对使用后的所述滚轮进行清洁的处理单元。
[0011] 所述的装置中，还包括：与所述处理单元连接，用于对所述洁净水进行过滤的过滤器。
[0012] 所述的装置中，所述位置调整单元包括：用于控制所述滚轮在Y轴方向上进行移动的线性马达。
[0013] 所述的装置中，所述位置调整单元包括：用于控制所述滚轮在Z轴方向上进行移动的伺服电机。
[0014] 所述的装置中，所述位置调整单元包括：用于控制所述滚轮在X轴方向上进行移动的气缸。
[0015] 所述的装置中，所述位置调整单元包括：位于所述滚轮ー侧，用于控制所述滚轮按其轴向进行转动的步进马达。[0016] 所述的装置中，所述处理単元包括：用于控制向所述滚轮喷洒的所述洁净水的流速和流量的第一阀门。
[0017] 所述的装置中，所述处理単元包括：用于控制向所述滚轮喷洒的所述清洁材料的流速和流量的第二阀门。
[0018] 所述的装置中，所述处理単元包括：用于排出使用后的清洁材料和使用后的洁净水的排水孔。
[0019] 所述的装置中，还包括：
[0020] 用于为所述滚轮在空间的Y轴方向上进行移动提供轨道的导轨； [0021] 用于为所述滚轮在空间的Z轴方向上进行移动提供轨道的导轨；
[0022] 以及，连接所述气缸和伺服电机，用于将所述伺服电机产生的动カ传递至所述气缸，控制所述气缸在Z轴方向上进行移动的丝杠。
[0023] 本实用新型的上述技术方案的有益效果如下：在对滚轮喷洒了清洁材料之后，由于对盒设备的上定盘和下定盘在Z轴方向上高度不同，并且在Y轴方向上比滚轮本身的宽度更宽，因此调节滚轮的空间位置，使其能够直接接触对盒设备，并采用清洁材料通过滚轮自身的旋动擦拭对盒设备的定盘及SFC。解决了现有技术中，人工清洁消耗的时间较长，影响对盒设备的嫁动率的缺陷。
附图说明
[0024] 图I表示对盒设备的结构示意图；
[0025] 图2表示ー种对盒设备清洁装置的结构示意图；
[0026] 图3表示清洁装置的局部结构示意图；
[0027] 图4表不清洁装置的局部俯视不意图；
[0028] I 第一阀门；
[0029] 2 第二阀门；
[0030] 3 排水孔；
[0031] 4 储蓄盒；
[0032] 5 过滤器；
[0033] 6 伺服电机；
[0034] 7 线性马达；
[0035] 8 气缸；
[0036] 9 步进马达；
[0037] 10 滚轮；
[0038] 11 导轨；
[0039] 12 丝杠；
[0040] 13 导管。
具体实施方式
[0041] 为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。[0042] 生产液晶屏的过程中需要定期对对盒设备的定盘和位于定盘上的对基板进行吸附的SFC进行清洁。如图I所示，对盒设备的结构包括：定盘和SFC，定盘又包括上定盘和下定盘，SFC固定于上定盘和下定盘上，用于吸附基板，具体分布在上定盘与下定盘相対的两个工作面上，图I中以多个椭圆形示意。不失一般性，采用XYZ坐标系描述对盒设备所处的空间，其中，定盘的长度所在的方向作为Y轴方向，对盒设备的高度所在的方向作为Z轴方向，Y轴与Z轴构成ー个YZ平面，X轴方向垂直于这ー YZ平面。
[0043] 上定盘和下定盘在Z轴方向上高度不同。
[0044] 本实用新型实施例为实现对对盒设备的定盘和SFC进行自动清洁，提供一种对盒设备清洁装置，如图2所示，包括：
[0045] 用于通过改变空间位置来接触对盒设备，并对所述对盒设备进行清洁操作的滚轮10 ； [0046] 用于控制所述滚轮10在空间的X、Y和Z三个轴方向上进行移动来改变空间位置的位置调整单元；
[0047] 用于存储清洁材料的储蓄盒4 ；
[0048] 与所述储蓄盒4连接，用于对所述滚轮10喷洒所述清洁材料，以及采用洁净水(DIff, Deionized Water,又称去离子水）对使用后的所述滚轮10进行清洁的处理单元。
[0049] 采用本方案之后的优势是：在对滚轮10喷洒了清洁材料之后，由于对盒设备的上定盘和下定盘在Z轴方向上高度不同，并且在Y轴方向上比滚轮10本身的宽度更宽，因此采用位置调整单元调节滚轮10的空间位置，使滚轮10能够直接接触对盒设备，并采用清洁材料通过滚轮10的旋动擦拭对盒设备的定盘及SFC。
[0050] 图2中，为方便标识位置调整单元所包括的部件，将滚轮10放置在位置调整单元的外侧，在实际的装置中，滚轮10应当与位置调整单元中的部件衔接在一起。
[0051] 滚轮10的外观呈现圆柱状，与对盒设备接触的面是柱状面；滚轮10的侧面与位置调整单元的步进马达9设置在一起。
[0052] 在一个优选实施例中，储蓄盒4在装置的上方，在储蓄盒4中存放清洁材料，当清洁材料的量小于设定值时发生报警（Warning),提醒向储蓄盒4中加入清洁材料。
[0053] 清洁材料具体可以是IPA试剂（ニ甲基甲醇，Iso-Propyl Alcohol),但不限于IPA试剂。
[0054] 在一个优选实施例中，还包括：与处理单元连接，用于对输入所述处理単元的所述洁净水进行过滤的过滤器5。
[0055] 清洁滚轮用的水必须是洁净水，为了防止エ厂提供的清洁用水达不到要求，需要通过添加一个过滤器5对取自エ厂的清洁用水预先进行过滤，以保证洁净水对滚轮10的清洁效果。
[0056] 如图3所示，在一个优选实施例中，位置调整单元包括：用于控制所述滚轮10在Y轴方向上进行移动的线性马达7，与具体的对盒设备的尺寸实现配套。
[0057] 在一个优选实施例中，位置调整单元包括：用于控制所述滚轮10在Z轴方向上进行移动的伺服电机6，与具体的对盒设备的尺寸实现配套。
[0058] 在一个优选实施例中，位置调整单元包括：用于控制所述滚轮10在X轴方向上进行移动的气缸8 ;所述气缸8可以采用多级结构，与具体的对盒设备的尺寸实现配套。[0059] 在一个优选实施例中，位置调整单元包括：位于滚轮10 —侧，用于控制所述滚轮10按其轴向进行转动的步进马达9。其中，滚轮10与对盒设备接触的面是柱状面，为保证柱状面的每ー个部分均能够用于清洁操作，因此，步进马达9应当能够将滚轮10的柱状面进行转动，使其每ー个部分均可以接触对盒设备。
[0060] 在一个优选实施例中，处理单元包括：用于控制向所述滚轮10喷洒的所述洁净水的流速和流量的第一阀门I (Vl)。
[0061] 在一个优选实施例中，处理单元包括：用于控制向所述滚轮10喷洒的所述清洁材料的流速和流量的第二阀门2(V2)。
[0062] 在一个优选实施例中，处理单元包括：用于排出使用后的清洁材料和使用后的洁净水的排水孔3。
[0063] 清洁装置上装有处理槽，处理槽位于清洁装置的恰当位置，该恰当位置是指，在滚 轮10处于工作状态时，不会妨碍滚轮10的清洁动作；滚轮10初始状态下位于处理槽中；由第二阀门2控制对滚轮10喷洒清洁材料，使得滚轮10能够利用沾有清洁材料的柱状面来清洁对盒设备；
[0064] 由第一阀门I控制，利用DIW对滚轮进行清洁，以便滚轮10的重复利用，排水孔3用来排除清洁操作后产生的废水。
[0065] 在一个优选实施例中，装置还包括：用于为所述滚轮10在空间的Y轴方向上进行移动提供轨道的导轨11;用于为所述滚轮10在空间的Z轴方向上进行移动提供轨道的导轨11 ;以及，连接气缸8和伺服电机6，用于将所述伺服电机6产生的动カ传递至所述气缸8，控制所述气缸8在Z轴方向上进行移动的丝杠12。
[0066] 由于气缸8与滚轮10是连接在一起的，因此，两者在空间中同步实现各种移动；包括在伺服电机6产生的动カ的作用下，由丝杠12带动，在Z轴方向上沿着导轨11进行Z轴方向上的滑动，以使得滚轮10能够处于上定盘或者下定盘的工作面所在的高度。
[0067] 应用各个实施例提供的技术方案，在滚轮10对对盒设备进行清洁的过程中，包括：
[0068] 步骤I，滚轮10初始状态下位于处理槽中，处理槽通过导管13连接储蓄盒4，导管13上具有ー个第二阀门2，第二阀门2用于控制向滚轮10喷洒的清洁材料的流速和流量。
[0069] 步骤2，打开第二阀门2，向滚轮10喷洒清洁材料，完成之后再关闭第二阀门2。
[0070] 步骤3，非工作状态下的滚轮10卡在处理槽中。
[0071] 在需要取出滚轮10吋，Z向上运行一段距离后，气缸8进行抽气，将滚轮10从处理槽中移出。
[0072] 步骤4，滚轮10在Z轴方向上移动到上定盘所在的位置，具体需要移动的距离由滚轮10的现在位置到上定盘之间的距离长度决定；具体包括：
[0073] 伺服电机6通过旋转丝杠12来移动滚轮10，使得滚轮10到达上定盘在Z轴方向上所处的位置。
[0074] 步骤5，气缸8开始充气，滚轮10的柱状面延X轴方向对对盒设备的上定盘进行清洁，上定盘包含两个面，如图I所示，其中，与下定盘相向的面是上定盘的工作面，清洁上定盘的过程中，应当是对上定盘的工作面进行清洁；
[0075] 滚轮IOX轴的定向移动以实现对这一片区域的清洁。清洁的过程中，通常是将滚轮10朝着一个方向移动实现单方向清洁，不需要反复来回地在工作面上移动滚轮10。
[0076] 步骤6，伺服电机6控制滚轮10在Z轴方向向下运动，使滚轮10与上定盘的工作面脱离。
[0077] 步骤7，气缸8进行抽气，将滚轮10从上定盘抽出，以方便滚轮10在空间中进行其他动作调整。
[0078] 步骤8，上定盘的长度大于滚轮10的宽度，线性马达7控制滚轮10延Y轴方向移动滚轮10宽度的距离，并且，由于滚轮10的柱状面上一定角度的面已经被使用过了，因此可以将滚轮10旋转过上述角度的面，为清洁上定盘的工作面的其他区域做好准备。
[0079] 转步骤4，持续循环，直至滚轮10的柱状面上位于不同角度的面均被用于对上定盘进行过清洁操作。
[0080] 步骤9，清洁完上定盘之后，需要对下定盘进行清洁，因此，将Z轴下降到下定盘的位置。
[0081] 步骤10，气缸8充气，滚轮10的柱状面延X轴方向对对盒设备的下定盘进行清洁，下定盘包含两个面，如图I所示，其中，与上定盘相向的面是下定盘的工作面，清洁下定盘的过程中，应当是对下定盘的工作面进行清洁；
[0082] 滚轮10在X轴方向上定向移动以实现对这一片区域的清洁。清洁的过程中，通常是将滚轮10朝着一个方向移动实现单方向清洁，不需要反复来回地在工作面上移动滚轮10。
[0083] 步骤11，伺服电机6控制滚轮10在Z轴方向向上运动，使滚轮10与下定盘的工作面脱离。
[0084] 步骤12，气缸8进行抽气，将滚轮10从下定盘处抽出，以方便滚轮10在空间中进行其他动作调整。
[0085] 步骤13，由于下定盘的长度大于滚轮10的宽度，线性马达7控制滚轮10延Y轴方向移动滚轮10宽度的距离，并且，由于滚轮10的柱状面上一定角度的面已经被使用过了，因此可以将滚轮10旋转过上述角度的面，为清洁下定盘的其他部分做好准备。
[0086] 转步骤9，持续循环，直至滚轮10的柱状面上位于不同角度的面均被用于对下定盘进行过清洁操作。
[0087] 步骤14，清洁完毕后将滚轮10移动到处理槽中，打开第一阀门I对其进行清洁，以便下次利用。
[0088] 进一步地,在清洁过程中可以设计给滚轮10喷洒清洁材料的频率,例如7个循环喷洒一次清洁材料，一共有14次循环，因此在清洁过程中，实际上给滚轮10喷洒过2次清洁材料。
[0089] 清洁材料可以选择一种可以重复使用的清洁材料，在使用一定的次数后进行更换，更换过程中应当保证盛装在储蓄盒4中的清洁材料不出现溢出，以减少对设备清洁度的影响。
[0090] 采用自动清洁模式对定盘和SFC进行清洁的有益效果包括：根据设定定时对对盒设备清洁，清洁耗时短，提高了对盒设备的嫁动率；并且，可以很好的控制对盒设备上被清洁的区域以及清洁力度，减少对对盒设备的损害，提高了清洁效果；且由于全部过程自动进行，因此对人体没有伤害。[0091] 以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术 人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1. ー种对盒设备清洁装置，其特征在于，包括： 用于通过改变空间位置来接触对盒设备，并对所述对盒设备进行清洁操作的滚轮； 用于控制所述滚轮在空间的x、Y和Z三个轴方向上进行移动来改变空间位置的位置调整単元； 用于存储清洁材料的储蓄盒； 与所述储蓄盒连接，用于对所述滚轮喷洒所述清洁材料，以及采用洁净水对使用后的所述滚轮进行清洁的处理单元。
2.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，还包括： 与所述处理单元连接，用于对所述洁净水进行过滤的过滤器。
3.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，所述位置调整单元包括： 用于控制所述滚轮在Y轴方向上进行移动的线性马达。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述位置调整单元包括： 用于控制所述滚轮在Z轴方向上进行移动的伺服电机。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述位置调整单元包括： 用于控制所述滚轮在X轴方向上进行移动的气缸。
6.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，所述位置调整单元包括： 位于所述滚轮ー侧，用于控制所述滚轮按其轴向进行转动的步进马达。
7.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，所述处理単元包括： 用于控制向所述滚轮喷洒的所述洁净水的流速和流量的第一阀门。
8.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，所述处理単元包括： 用于控制向所述滚轮喷洒的所述清洁材料的流速和流量的第二阀门。
9.根据权利要求I所述的装置，其特征在于，所述处理単元包括： 用于排出使用后的清洁材料和使用后的洁净水的排水孔。
10.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，还包括： 用于为所述滚轮在空间的Y轴方向上进行移动提供轨道的导轨； 用于为所述滚轮在空间的Z轴方向上进行移动提供轨道的导轨； 以及，连接所述气缸和伺服电机，用于将所述伺服电机产生的动カ传递至所述气缸，控制所述气缸在Z轴方向上进行移动的丝杠。
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| Date | Code | Title | Description |
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20121226 Termination date: 20210601 |
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