CN202351589U - 干燥装置 - Google Patents

干燥装置 Download PDF

Info

Publication number
CN202351589U
CN202351589U CN 201120347765 CN201120347765U CN202351589U CN 202351589 U CN202351589 U CN 202351589U CN 201120347765 CN201120347765 CN 201120347765 CN 201120347765 U CN201120347765 U CN 201120347765U CN 202351589 U CN202351589 U CN 202351589U
Authority
CN
China
Prior art keywords
supporting
drying device
substrate
netting twine
mesh
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN 201120347765
Other languages
English (en)
Inventor
朱美娜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN 201120347765 priority Critical patent/CN202351589U/zh
Priority to US13/379,283 priority patent/US20130067761A1/en
Priority to PCT/CN2011/080564 priority patent/WO2013037147A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN202351589U publication Critical patent/CN202351589U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers

Abstract

本实用新型公开一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料。所述干燥装置包含：一加热台、一第一支撑网、数根支撑销及一第一升降机构。所述加热台用以对所述基板的一第二表面进行加热；所述第一支撑网包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；所述支撑销位于至少一部分的所述第一网孔内；所述第一升降机构控制所述支撑销进行升降，使所述支撑销高于或低于所述第一支撑网。因此，所述第一升降机构可决定在干燥步骤前后由所述支撑销支撑所述基板的所述第二表面；或在干燥过程中所述第一支撑网支撑所述基板的所述第二表面，以便避免所述基板的所述第一表面在干燥步骤后留下斑痕。

Description

干燥装置
【技术领域】
本实用新型是关于一种干燥装置，特别是有关于一种能避免基板在干燥之后产生外观不良缺陷的干燥装置。
【背景技术】
随着光电技术和半导体技术的不断发展，液晶面板(Liquid CrystalDisplay，LCD)已广范应用于社会的各个领域。其中，在将液晶密封到两玻璃基板之间的制作工艺中，所述两玻璃基板上的至少一液晶显示单元区域(简称显示区，其他区域简称非显示区，下同)会分别配置一层配向膜(AlignmentFilm)。
具体而言，所述配向膜的形成步骤主要包含：(1)涂膜步骤，将经一溶剂稀释过的配向膜材料通过印刷等工艺形成于所述玻璃基板的表面；(2)干燥步骤，以80℃至120℃范围内的温度使所述溶剂蒸发，只留下分布均一的配向膜；(3)焙烧步骤，以180℃以上的温度使所述配向膜固化。现有的干燥步骤主要是采用聚酰亚胺(polyimide，PI)溶液做为所述配向膜材料，并通过红外线辐射加热所述玻璃基板，使所述聚酰亚胺中的溶剂挥发，其缺点在于：在所述基板干燥的过程中，其表面会产生受热不均匀和所述溶剂挥发速度不一致的问题，使得所述基板的表面上留下不均匀的斑痕，进而影响最终的产品质量。
举例来说，在现有的干燥步骤中，常是将所述聚酰亚胺溶液涂布在所述基板的一第一表面上，并通过多个支撑销(Pin)支撑所述基板的一第二表面，使所述基板平躺在所述支撑销上。由于所述支撑销并非完全绝热，因而极容易导致所述支撑销与所述基板接触的区域以及没有接触的区域发生受热程度不一致的状况，进而使得在干燥步骤之后，所述第一表面上形成不均匀的压痕(Pin Mura)。
为减少所述第一表面上的压痕等斑痕，现有支撑销常采用邻近效应(proximity)的方式支撑所述基板，并选用绝热性较好的材质制作所述支撑销。其中，图1A及1B依序揭示现有的第一种支撑所述基板的作动示意图，以及2A至2E依序揭示现有的第二种支撑所述基板的作动示意图。
请参照图1A至1B所示，在一现有配向膜的干燥装置中同时设置两组所述支撑销30a及30b，并在干燥过程中以一定频率驱使所述支撑销30a及30b交替进行上升下降动作。如图1A所示，当所述支撑销30a向上支撑所述基板S时，所述支撑销30b即向下移动；再如图1B所示，于一定时间后，当所述支撑销30b向上支撑所述基板S时，所述支撑销30a即向下移动，如此依所述频率重复循环，直到完成干燥步骤。
请参照图2A至2E，在另一现有配向膜的干燥装置中同样设置两组所述支撑销30c及30d。在干燥过程中，所述支撑销30c保持不动，而所述支撑销30d以一定频率进行矩形顺时针路径的移动。如图2A所示，一开始由所述支撑销30c支撑所述基板S，而所述支撑销30d处于所述支撑销30c的下方；其后，如图2B所示，所述支撑销30d向上移动到所述支撑销30c的上方，同时抬起所述基板S；之后，如图2C所示，所述支撑销30d带动所述基板S一起向左移动；再如图2D所示，所述支撑销30d向下移动到所述支撑销30c的下方，进而带动所述基板S再次置于所述支撑销30c上；如图2E所示，所述支撑销30d向右移动复位，并再次重复图2A至2E的动作数次，直到完成干燥步骤。
虽然现有工艺可借助交替改变所述支撑销与所述基板的接触点位置来稍微减少所述基板上的外观不良问题。然而，仍无法将所述基板的外观问题完全消除。故，确实有必要对配向膜的干燥步骤提供一可有效消所述基板上的斑痕的加工装置，以解决现有技术所存在的产品外观不良问题。
【实用新型内容】
本实用新型的目的是提供一种干燥装置，即对配向膜提供一种可避免产生斑痕的配向膜干燥装置，以解决现有技术所存在的产品外观不良问题。
本实用新型公开一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料。所述干燥装置包含：一加热台、一第一支撑网、数根支撑销及一第一升降机构。所述加热台用以对所述基板的一第二表面进行加热；所述第一支撑网包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；所述支撑销位于至少一部分的所述第一网孔内；所述第一升降机构控制所述支撑销进行升降，使所述支撑销高于或低于所述第一支撑网。因此，所述第一升降机构可决定在干燥步骤前后由所述支撑销支撑所述基板的所述第二表面；或在干燥过程中所述第一支撑网支撑所述基板的所述第二表面，以便避免所述基板的所述第一表面在干燥步骤后留下斑痕。
本实用新型的次要目的在于提供一种干燥装置，包含一加热台、一第一支撑网、一第二支撑网、数根支撑销、一第一升降机构及一第二升降机构。所述第二支撑网包含数条第二网线，所述第二网线共同定义数个第二网孔；所述第二升降机构控制所述第一及第二支撑网交替进行升降，使所述第一支撑网高于或低于所述第二撑网，以决定由所述第一或第二支撑网来支撑所述基板的所述第二表面，使一基板在干燥过程中不与所述支撑销接触，进而避免所述基板的一第一表面在干燥步骤后留下斑痕。
本实用新型的另一目的在于提供一种干燥装置，其中所述第一支撑网及所述第二支撑网采用极细且承重力更佳的所述第一网线及所述第二网线来支撑所述基板，使所述基板在干燥过程中能平整且不弯曲地安置在所述第一支撑网或所述第二支撑网上，有助于确保所述基板在干燥步骤后不会弯曲变形。
为达成本实用新型的前述目的，本实用新型提供一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料，其中所述干燥装置包含：一加热台，用以对所述基板的一第二表面进行加热；一第一支撑网，包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；数根支撑销，位于至少一部分的所述第一网孔内；以及一第一升降机构，控制所述支撑销进行升降，使所述支撑销高于或低于所述第一支撑网，以决定由所述支撑销或所述第一支撑网来支撑所述基板的所述第二表面。
为达成本实用新型的前述目的，本实用新型又提供一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料，其中所述干燥装置包含：一加热台，用以对所述基板的一第二表面进行加热；一第一支撑网，包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；一第二支撑网，包含数条第二网线，所述第二网线共同定义数个第二网孔；数根支撑销，位于至少一部分的所述第一网孔及所述第二网孔内；以及一第二升降机构，控制所述第一及第二支撑网交替进行升降，使所述第一支撑网高于或低于所述第二撑网，以决定由所述第一或第二支撑网来支撑所述基板的所述第二表面。
在本实用新型的一实施例中，所述第一网线是碳纤维网线。
在本实用新型的一实施例中，所述第一网线是以纵向及横向的交错排列形成所述第一网孔。
在本实用新型的一实施例中，所述第一支撑网包含95条至2937条的所述第一网线，且两条平行且相邻的纵向(或横向)的所述第一网线的轴心之间的间距是3.8毫米至48毫米。
在本实用新型的一实施例中，所述第一网线是互为平行排列形成所述第一网孔，所述第二网线是互为平行排列形成所述第二网孔，其中所述第一网线位于所述第二网孔内进行升降，且所述第二网线位于所述第一网孔内进行升降。
在本实用新型的一实施例中，所述第一网线及所述第二网线是碳纤维网线。
在本实用新型的一实施例中，所述第一及第二网线的截面直径介于0.8毫米至3毫米之间。
在本实用新型的一实施例中，所述第一及第二支撑网共包含95至2937条的所述第一及第二网线，且两条平行且相邻的所述第一及第二网线的轴心之间的间距是3.8毫米至48毫米。
在本实用新型的一实施例中，所述第二升降机构以一前周期及一后周期控制所述第一及第二支撑网交替升降，且所述前周期小于所述后周期。
在本实用新型的一实施例中，所述支撑销的截面直径是2毫米。
与现有技术相比较，本实用新型的干燥装置可避免支撑销与基板接触，故能确保基板的表面在干燥步骤后不留下斑痕，且可使配向膜材料更均匀地分布，更能避免基板产生变形，以达到提高产品良率的目标。
【附图说明】
图1A及1B依序是现有的第一种支撑所述基板的作动示意图。
图2A至2E依序是现有的第二种支撑所述基板的作动示意图。
图3是本实用新型提供干燥装置的第一实施例的示意图。
图4是本实用新型干燥装置的第一实施例的第一支撑网的俯视图。
图5A及5B依序揭示本实用新型第一实施例的干燥装置的第一升降机构的作动示意图。
图6是本实用新型提供干燥装置的第二实施例的示意图。
图7是本实用新型干燥装置的第二实施例的第一支撑网及第二支撑网的俯视图。
图8A至8C依序是本实用新型第二实施例的干燥装置的第一升降机构及第二升降机构的作动示意图。
【具体实施方式】
为让本实用新型上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本实用新型较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。再者，本实用新型所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。
本实用新型所提出的干燥装置主要应用在一基板的加工领域，特别是半导体或光电的产品制造领域。主要是在所述基板涂布一配向膜溶液后的溶剂挥发干燥过程中，减少多个支撑销与所述基板接触的机会，避免所述基板的表面上形成斑痕。
请参照图3所示，图3是本实用新型提供干燥装置300的第一实施例的示意图。所述干燥装置300可以是一液晶显示器的一基板干燥装置，其主要包含一加热台10、一第一支撑网20、数根支撑销30及一第一升降机构40，用以干燥预涂布形成在一基板S的一第一表面S1上且经溶剂稀释过的一配向膜材料(未绘示)，所述配向膜材料通常是指聚酰亚胺(polyimide，PI)，但不限于此。本实用新型将于下文详细说明上述各组件。
图4是本实用新型第一实施例的第一支撑网20的俯视图。所述第一支撑网20包含数条第一网线21，且所述第一支撑网20的所述第一网线21是以纵向及横向的交错排列形成所述第一支撑网20的多个第一网孔22。其中，假设所述基板S的长、宽及高分别可以是2500毫米、2200毫米及0.5毫米，其重量大约是10公斤，则所述第一网线21可以选用碳纤维网线，其截面直径介于0.8毫米至3毫米之间，所述第一支撑网20约包含95条至2937条的所述第一网线21，且两条平行且相邻的纵向或横向的所述第一网线21的轴心之间的间距大约是3.8毫米至48毫米，但不以此为限。
请同时参照图3及图4所示，所述加热台10用以对所述基板S的一第二表面S2进行加热，使所述溶剂自所述第一表面S1挥发而留下分布均一的一配向膜(未绘示)；所述支撑销30的数量可以少于或等于所述第一网孔22的数量，使得所述支撑销30位于至少一部分的所述第一网孔22内；以及所述第一升降机构40控制所述支撑销30进行升降，使所述支撑销30高于或低于所述第一支撑网20，以决定由所述支撑销30或所述第一支撑网20来支撑所述基板S的所述第二表面S2。其中，所述支撑销30的截面直径可以是2毫米，但不以此为限。
图5A及5B依序揭示本实用新型第一实施例的所述干燥装置300的所述第一升降机构40的作动示意图。其中图5A显示所述第一升降机构40将所述支撑销30抬升至高于所述第一支撑网20的位置，使所述支撑销30支撑所述基板S的所述第二表面S2；图5B显示所述第一升降机构40将所述支撑销30降低至低于所述第一支撑网20的位置，使所述第一支撑网20支撑所述基板S的所述第二表面S2。
请同时参照图3、图5A及图5B，当所述基板S未放置到所述干燥装置300之前，所述第一升降机构40先将所述支撑销30抬升至高于所述第一支撑网20的位置，此时所述支撑销30的顶端穿过部分所述第一网孔22；当所述基板S被放置在所述支撑销30上之后，所述第一升降机构40将所述支撑销30降低，使所述基板S被所述第一支撑网20所支撑；之后，启动所述加热台10的加热机制，使所述基板S在干燥过程中都安置在所述第一支撑网20上；在完成干燥步骤后，所述第一升降机构40再将所述支撑销30抬升至高于所述第一支撑网20的位置，进而带动所述基板S向上提升。
请参照图6所示，其是本实用新型提供干燥装置的第二实施例的示意图。本实用新型第二实施例相似于本实用新型第一实施例的干燥装置300，并大致沿用相同组件名称及图号。在本实用新型第二实施例中，所述干燥装置400另包含一第二支撑网50，以及一第二升降机构60。而第二实施例的差异特征在于：所述第二实施例的所述第二升降机构60是用以控制所述第一支撑网20及所述第二支撑网50交替进行升降，使所述第一支撑网20在干燥过程中高于或低于所述第二撑网50，以决定由所述第一支撑网20或第二支撑网50来支撑所述基板S的所述第二表面S2。
此外，图7是本实用新型第二实施例的所述第一支撑网20及所述第二支撑网50的俯视图。其中，所述第一网线21及所述第二网线51均是互为平行沿纵向交错排列，其中各二相邻所述第一网线21之间的空间可以视为是一第一网孔22，及各二相邻所述第二网线51之间的空间也可以视为是一第二网孔52。所述第二升降机构60可控制所述第一网线21于所述第二网孔52内相对所述第二网线51进行升降，及/或控制所述第二网线51于所述第一网孔22内相对所述第一网线21进行升降。其中，所述第二网线51也可以是碳纤维网线，其截面直径介于0.8毫米至3毫米之间，而所述第一支撑网20及所述第二支撑网50约共包含95条至2937条的所述第一网线21及所述第二网线51，且两条平行且相邻的所述第一网线21及所述第二网线51的轴心之间的间距大约是3.8毫米至48毫米，但不以此为限。
图8A至8C依序是本实用新型第二实施例的所述干燥装置400的所述第一升降机构40及所述第二升降机构60的作动示意图。请同时参照图6及图8A至8C，当所述基板S未放置到所述干燥装置400之前，所述第一升降机构40先将所述支撑销30抬升至高于所述第一支撑网20的位置，此时所述第二支撑网50低于所述第一支撑网20，且所述支撑销30的顶端同时穿过部分所述第一网孔22及部分所述第二网孔52；当所述基板S被放置在所述支撑销30上之后，所述第一升降机构40将所述支撑销30降低至低于所述第二支撑网50的位置，使所述基板S被所述第一支撑网20所支撑；之后，启动所述加热台10的加热机制，并通过所述第二升降机构60控制所述第一支撑网20及所述第二支撑网50以一预定周期交替升降，使所述基板S在干燥过程中轮流安置在所述第一支撑网20或所述第二支撑网50上，其中所述第二升降机构60可仅控制所述第一及第二支撑网20、50其中一个进行升降，或控制两者皆可进行升降；在完成干燥步骤后，所述所述第一升降机构40再将所述支撑销30抬升至高于所述第一支撑网20的位置，进而带动所述基板S向上提升。其中，所述预定周期包含一前周期及一后周期，并依所述溶剂挥发的状况设定所述前周期小于所述后周期。具体而言，在所述前周期中，所述第二升降机构60控制所述第一支撑网20及第二支撑网50于每5秒钟至10秒钟进行交替；而在所述后周期中，所述第二升降机构60控制所述第一支撑网20及第二支撑网50可于每20秒钟进行交替。
如图3、图4、图5A、图5B、图6、图7及图8A至8C所示，本实用新型第一及第二实施例上述特征的优点在于：所述干燥装置300及400分别借助所述第一升降机构40及所述第二升降机构60控制所述支撑销30、所述第一支撑网20及所述第二支撑网50的位置，使所述基板S在干燥过程中不与所述支撑销30接触，进而避免了所述基板S的所述第一表面S1在干燥步骤后留下斑痕，并可减少所述支撑销30的使用数目及磨耗率。此外，所述第一支撑网20及所述第二支撑网50采用极细且承重力更加的所述第一网线21及所述第二网线51来支撑所述基板S，使所述基板S在干燥过程中能平整且不弯曲地安置在所述第一支撑网20或所述第二支撑网50上，有助于确保所述基板S在干燥步骤后不会弯曲变形。再者，通过所述第二升降机构60轮流对所述第一支撑网20及所述第二支撑网50以所述预定周期进行升降，可进而使得所述第一表面S1上的所述溶剂能更均匀地挥发，故有助于确保所述第一表面S1在干燥步骤后留下斑痕，以达到提高产品良率的目标。
本实用新型已由上述相关实施例加以描述，然而上施例并未限制本实用新型的范围。相反的，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本实用新型的范围内。

Claims (10)

1.一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料，其特征在于：所述干燥装置包含：
一加热台，用以对所述基板的一第二表面进行加热；
一第一支撑网，包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；
数根支撑销，位于至少一部分的所述第一网孔内；以及
一第一升降机构，控制所述支撑销进行升降，使所述支撑销高于或低于所述第一支撑网，以决定由所述支撑销或所述第一支撑网来支撑所述基板的所述第二表面。
2.如权利要求1所述的干燥装置，其特征在于：所述第一网线是碳纤维网线。
3.如权利要求1所述的干燥装置，其特征在于：所述第一网线是以纵向及横向的交错排列形成所述第一网孔。
4.如权利要求2所述的干燥装置，其特征在于：所述第一网线的截面直径介于0.8毫米至3毫米之间，两条平行且相邻的所述第一网线的轴心之间的间距是3.8毫米至48毫米。
5.一种干燥装置，用于干燥预形成在一基板的一第一表面上的一配向膜材料，其特征在于：所述干燥装置包含：
一加热台，用以对所述基板的一第二表面进行加热；
一第一支撑网，包含数条第一网线，所述第一网线共同定义数个第一网孔；
一第二支撑网，包含数条第二网线，所述第二网线共同定义数个第二网孔；
数根支撑销，位于至少一部分的所述第一网孔及所述第二网孔内；以及
一第二升降机构，控制所述第一及第二支撑网交替进行升降，使所述第一支撑网高于或低于所述第二撑网，以决定由所述第一或第二支撑网来支撑所述基板的所述第二表面。
6.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于：所述第一网线是互为平行排 列形成所述第一网孔，所述第二网线是互为平行排列形成所述第二网孔，其中所述第一网线位于所述第二网孔内进行升降，且所述第二网线位于所述第一网孔内进行升降。
7.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于：所述第一网线及所述第二网线是碳纤维网线。
8.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于：所述第一及第二网线的截面直径介于0.8毫米至3毫米之间，两条平行且相邻的所述第一及第二网线的轴心之间的间距是3.8毫米至48毫米。
9.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于：所述第二升降机构以一前周期及一后周期控制所述第一及第二支撑网交替升降，且所述前周期小于所述后周期。
10.如权利要求5所述的干燥装置，其特征在于：所述支撑销的截面直径是2毫米。 
CN 201120347765 2011-09-16 2011-09-16 干燥装置 Expired - Lifetime CN202351589U (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201120347765 CN202351589U (zh) 2011-09-16 2011-09-16 干燥装置
US13/379,283 US20130067761A1 (en) 2011-09-16 2011-10-09 Drying apparatus
PCT/CN2011/080564 WO2013037147A1 (zh) 2011-09-16 2011-10-09 干燥装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201120347765 CN202351589U (zh) 2011-09-16 2011-09-16 干燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202351589U true CN202351589U (zh) 2012-07-25

Family

ID=46540581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201120347765 Expired - Lifetime CN202351589U (zh) 2011-09-16 2011-09-16 干燥装置

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN202351589U (zh)
WO (1) WO2013037147A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103278966A (zh) * 2013-04-22 2013-09-04 合肥京东方光电科技有限公司 一种取向膜预固化设备
CN103454810A (zh) * 2013-09-09 2013-12-18 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶配向膜的烘烤装置
WO2014107921A1 (zh) * 2013-01-09 2014-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 聚酰亚胺溶液涂布方法及装置
CN105080803A (zh) * 2015-08-21 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 基板承载结构、减压干燥设备及减压干燥方法
CN108089378A (zh) * 2018-01-03 2018-05-29 惠科股份有限公司 一种烘烤方法、装置及烘烤炉

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3249765B2 (ja) * 1997-05-07 2002-01-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP4770041B2 (ja) * 2001-03-26 2011-09-07 東レ株式会社 基板搬送用ハンドおよびカラーフィルター製造装置
CN100430803C (zh) * 2003-01-30 2008-11-05 日本写真印刷株式会社 加热装置
JP2010238716A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Mitsubishi Electric Corp 基板加熱処理方法、該基板加熱処理方法を用いた表示装置の製造方法、及び基板加熱処理装置
CN102085511A (zh) * 2010-11-22 2011-06-08 深圳市华星光电技术有限公司 配向膜干燥装置及干燥方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014107921A1 (zh) * 2013-01-09 2014-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 聚酰亚胺溶液涂布方法及装置
CN103278966A (zh) * 2013-04-22 2013-09-04 合肥京东方光电科技有限公司 一种取向膜预固化设备
WO2014173089A1 (zh) * 2013-04-22 2014-10-30 合肥京东方光电科技有限公司 取向膜预固化设备
CN103454810A (zh) * 2013-09-09 2013-12-18 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶配向膜的烘烤装置
WO2015032183A1 (zh) * 2013-09-09 2015-03-12 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶配向膜的烘烤装置
CN103454810B (zh) * 2013-09-09 2016-06-08 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶配向膜的烘烤装置
CN105080803A (zh) * 2015-08-21 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 基板承载结构、减压干燥设备及减压干燥方法
US9903650B2 (en) 2015-08-21 2018-02-27 Boe Technology Group Co., Ltd. Substrate support structure, vacuum drying device and vacuum drying method
CN108089378A (zh) * 2018-01-03 2018-05-29 惠科股份有限公司 一种烘烤方法、装置及烘烤炉
WO2019134582A1 (zh) * 2018-01-03 2019-07-11 惠科股份有限公司 一种烘烤方法、装置及烘烤炉

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013037147A1 (zh) 2013-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN202351589U (zh) 干燥装置
CN102085511A (zh) 配向膜干燥装置及干燥方法
CN103529599B (zh) 一种气浮式液晶基板的配向设备以及方法
US20130067761A1 (en) Drying apparatus
JP5611572B2 (ja) 応力制御領域
KR20130111970A (ko) 이동하는 유리 시트의 적외선 가열 및/또는 냉각을 위한 방사 시준기
KR101644670B1 (ko) 유리판의 제조 방법
CN202111064U (zh) 一种热烘/冷却基板装置
CN102863147A (zh) 对基板进行烤焙处理的装置及方法
CN105586568A (zh) 一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板
CN1472148A (zh) 用于使玻璃板弯曲和回火的设备
CN105080803A (zh) 基板承载结构、减压干燥设备及减压干燥方法
CN100572311C (zh) 用于平板显示器玻璃基板成型的均温装置及均温方法
CN105328896A (zh) 一种碳纤维球棒模具的多层加热成型控制系统
WO2015032181A1 (zh) 对基板进行烤焙处理的装置及方法
US9809491B2 (en) Device and method for baking substrate
CN105321428A (zh) 一种柔性显示器件的离型方法
US20100003629A1 (en) Substrate firing device
CN204803215U (zh) 一种浮法玻璃生产装置
CN103323978A (zh) 配向膜制作装置及制作方法
KR20120084248A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN212560416U (zh) 基材可分离的真空镀膜设备
CN109031725A (zh) 配向膜预固化方法及装置
CN104078384A (zh) 直列式热处理装置
CN204536687U (zh) 一种单面ito结构产品的生产线

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20120725

CX01 Expiry of patent term