CN202136912U - 还原氧化钨用氢气净化干燥塔 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层或分子筛层。本实用新型摒弃了现有技术干燥塔内仅采用一层高度超过1.5米的干燥氢气用吸附剂层的结构。本实用新型是在干燥塔内间隔设置三层的硅胶层或分子筛层，且每高度小于1.5米。经上述结构改造后的干燥塔净化干燥后氢气露点明显降低，状态稳定。并且生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均匀，细颗粒粉末也较均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种净化氢气用干燥塔，尤其指还原氧化钨用氢气的净化干燥塔。
背景技术
在钨钢产业中，还原氧化钨用的氢气净化干燥塔，是将一层干燥氢气用吸附剂层3设置于所述的进气口1与出气口间2，该层干燥氢气用吸附剂层3高度超过1.5米。经测试，净化后的氢气露点高，并且不稳定，所以生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细不均，细颗粒粉末则无法生产。
实用新型内容
针对现有技术中存在的不足之处，本实用新型提供一种还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均匀，且生产出的细颗粒粉末也较均匀。
为实现上述目的，本实用新型技术方案为：
还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。
所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层或分子筛层。
上述技术方案的有益之处在于：
本实用新型摒弃了现有技术干燥塔内仅采用一层高度超过1.5米的干燥氢气用吸附剂层的结构。由于超过1.5米的硅胶层再生时间短，再生不完全，常达不到最佳的氢气净化干燥效果，故，本实用新型是在干燥塔内间隔设置三层的硅胶层或分子筛层，且每高度小于1.5米。经上述结构改造后的干燥塔净化干燥后氢气露点明显降低，状态稳定。并且生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均匀，细颗粒粉末也较均匀。
附图说明
图1是现有技术还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图；
图2是本实用新型还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图。
具体实施方式
现结合附图和实施例说明本实用新型。
如图1所示的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口1、于下端部设有氢气出气口2。本实用新型在现有技术的干燥塔内增加两层隔板41，硅胶层或分子筛层42堆放于三层隔板41上，且每层高度小于1.5米，每层硅胶层或分子筛层42间具有一定的间隙。于进气口与出气口间间隔设置的，所述的干燥氢气用吸附剂层设为，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。
经测试，吸附剂采用硅胶的干燥塔，其净化干燥的氢气露点为-20℃，状态稳定。而吸附剂采用分子筛的干燥塔，其净化干燥的氢气露点为-35℃，状态非常稳定。
Claims (3)
1.还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，其特征在于：所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。
2.如权利要求1所述的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其特征在于：所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层。
3.如权利要求1所述的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其特征在于：所述的干燥氢气用吸附剂层为分子筛层。
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Publications (1)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103495331A (zh) * | 2013-10-11 | 2014-01-08 | 苏州竞立制氢设备有限公司 | 混床氢气干燥器 |
| CN114273664A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-05 | 株洲硬质合金集团有限公司 | 一种粒度可控的均质化钨粉的制备方法及氢气露点自动控制系统 |
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2011
- 2011-06-17 CN CN201120204685U patent/CN202136912U/zh not_active Expired - Lifetime
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| CN114273664A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-05 | 株洲硬质合金集团有限公司 | 一种粒度可控的均质化钨粉的制备方法及氢气露点自动控制系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: CB-CERATIZIT HARD ALLOY (XIAMEN) CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: CHUNBAO MATERIAL TECHNOLOGY (XIAMEN) CO., LTD. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Jimei Xinglin West District of Xiamen City, Fujian Province, No. 69 361000 Patentee after: Spring Baosenla days hard alloy (Xiamen) Co., Ltd. Address before: Jimei Xinglin West District of Xiamen City, Fujian Province, No. 69 361000 Patentee before: Chun Bao materials technology (Xiamen) Co., Ltd. |
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| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20120208 |
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| CX01 | Expiry of patent term |