CN202116861U - 雕轮轧压凹凸布 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种雕轮轧压凹凸布，包含一布料及设置于该布料的一表面的多个微/纳米级凸凹部图案。本实用新型提出的雕轮轧压凹凸布中，该微/纳米级凸凹部可以实现散射光线、产生疏水效应，使得水滴难以附着于该雕轮轧压凹凸布以及于皮肤上产生较佳触感的效果。

Description

雕轮轧压凹凸布

技术领域

本实用新型涉及一种雕轮轧压凹凸布，特别涉及一种具有微/纳米级凸凹部图案的雕轮轧压凹凸布。

背景技术

一般现有的布料是在纺织成形的布匹上以染色机浸染色彩或以印刷的方式在布匹上形成印制花纹，使布料具有缤纷的色彩花纹。然而在布匹上的色彩花纹仅具有一般平面的色泽。

另，传统布料的防泼水处理是仅以试剂浸渍织物或将试剂涂布在织物表面形成薄膜而达到防泼水效果，然而该薄膜不耐水洗，例如仅能在家庭式洗衣机中(水温40℃)清洗25回。超过该水洗次数的织物的防泼水效果明显降低。此外，传统用以产生防泼水效果的试剂并不环保，且长期使用对人体亦可能产生危害。

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的是提出一种雕轮轧压凹凸布。

本实用新型提出一种雕轮轧压凹凸布，该雕轮轧压凹凸布包含一布料及设置于该布料的一表面的多个微/纳米级凸凹部图案。在本实用新型的一实施例中，该微/纳米级凸凹部图案呈V形或倒梯型。在本实用新型一实施例中，该布料为聚酯纤维或聚酰胺纤维的纤维织物。在本实用新型一实施例中，该布料包含一上表面及一下表面，该微/纳米级凸凹部图案设置于该上表面，该下表面没有微/纳米级凸凹部图案。在本实用新型一实施例中，该微/纳米级凸凹部图案直接形成于该布料上。

本实用新型提出的雕轮轧压凹凸布的凸凹部图案散射光线，且产生疏水效应，水滴难以附着于该雕轮轧压凹凸布上，同时不会产生粘贴的不适感，能在皮肤上产生较佳的触感。

上文已相当广泛地概述本实用新型的技术特征，以使下文的本实用新型详细描述得以获得较佳了解。构成本实用新型的权利要求范围标的的其它技术特征将描述于下文。本实用新型所属技术领域中普通技术人员应了解，可相当容易地利用下文揭示的概念与特定实施例可作为修改或设计其它结构或工艺而实现与本实用新型相同的目的。本实用新型所属技术领域中普通技术人员亦应了解，这类等效建构无法脱离所附的权利要求范围所界定的本实用新型的精神和范围。

附图说明

图1例示本实用新型一实施例的雕轮轧压凹凸布的制作方法；

图2例示本实用新型一实施例的上雕轮的局部放大图；

图3为未经过轧压的布料的局部剖示图；

图4为雕轮轧压凹凸布的局部剖示图；

图5例示该布料与水珠的作用示意图；

图6例示该雕轮轧压凹凸布与水珠的作用示意图；

图7例示该未经过轧压的布料与皮肤的作用示意图；以及

图8例示该雕轮轧压凹凸布与皮肤的作用示意图。

其中，附图标记说明如下：

10     雕轮轧压凹凸布

11     布料

11A    上表面

11B    下表面

13     凸凹部图案

15     凸部

17     凹部

23     上雕轮

25     下雕轮

27     凹凸图案

29     皮肤

31     水珠

θ1    接触角

θ2    接触角

具体实施方式

图1例示本实用新型一实施例的雕轮轧压凹凸布10的制作方法。在本实用新型的一实施例中，该雕轮轧压凹凸布10的制作是将一布料11通过一轧压机台21(图未示)，将布料进行绞压。该轧压机台21包含一支上雕轮23及一支下雕轮25，较佳地该上雕轮23为一支具有雕刻图纹的不锈钢雕轮，该下雕轮25为一支橡胶雕轮。该布料为聚酯纤维或聚酰胺纤维的纤维织物。在本实用新型的一实施例中，轧压条件如下：温度为约20℃至约230℃，较佳约25℃至约190℃；压力为约5吨至约100吨，较佳约30吨至约60吨；雕轮机速度为约5米/分钟至约80米/分钟，较佳约10米/分钟至约50米/分钟。

图2例示本实用新型一实施例的上雕轮23的局部放大图，图3为一未经过轧压的布料的局部剖示图，图4该雕轮轧压凹凸布10的局部剖示图。在通过该轧压机台21之前，该未经过轧压的布料的上表面11A及下表面11B均呈平坦状，如图3所示。在本实用新型的一实施例中，该上雕轮23具有微/纳米级凹凸的雕刻图纹，较佳地为微/纳米级凹凸图案27，例如其宽度为微米级或者纳米级，高度较佳地介于数微米至数纳米之间。在本实用新型的一实施例中，在通过该轧压机台21之前，该布料11的上表面11A并无涂层，且在经轧压工艺的雕轮轧压凹凸布10的上表面11A具有约数微米至数纳米的V形或倒梯型凸凹部图案13(凸部15及凹部17)，如图4所示。

参考图3，当光线照射于未经过轧压的平坦布料11上，该未经过轧压的布料11的平坦表面反射(refe1ct)光线，使得该未经过轧压的布料11呈现光亮色；相对地，当光线照射于该雕轮轧压凹凸布10时，该雕轮轧压凹凸布10的凸凹部图案13散射(scatter)光线，如图4所示。

图5例示该未经过轧压的布料11与水珠31的作用示意图，图6例示该雕轮轧压凹凸布10与水珠31的作用示意图。当水珠31滴落于该未经过轧压的布料11的平坦上表面11A时，接触角θ1小于特定角度，水珠摊平于该未经过轧压的布料11的平坦上表面11A。换言之，该未经过轧压的布料11的平坦上表面11A呈亲水性。相对地，当水珠31滴落于该雕轮轧压凹凸布10的凸凹部图案13时，接触角θ2大于特定角度。由于该雕轮轧压凹凸布10的凸凹部图案13的凹部17充满空气，空气与凸部15合力支撑水珠31，加上水本身的表面张力，使得水珠31无法摊平于该雕轮轧压凹凸布10上。换言之，该凸凹部图案13使得该雕轮轧压凹凸布10产生疏水效应，水滴难以附着于该雕轮轧压凹凸布10上。

图7例示该未经过轧压的布料11与皮肤29的作用示意图，图8例示该雕轮轧压凹凸布10与皮肤29的作用示意图。特别地，该未经过轧压的布料11的上表面11A及下表面11B均呈平坦状，其与皮肤29呈全面性贴合接触，产生黏贴的不适感；相对地，该微/纳米级凸凹部图案13经配置以使得该雕轮轧压凹凸布10仅有该凸凹部图案13的凸部15局部接触皮肤29，该凸凹部图案13的凹部17充满空气，因而在皮肤29上产生较佳的触感。

本实用新型的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本实用新型所属技术领域中普通技术人员应了解，在不背离所附权利要求范围所界定的本实用新型精神和范围内，本实用新型的教示及揭示的内容可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多工艺可以通过不同的方法实施或以其它工艺予以取代，或者采用上述二种方式的组合。

此外，本实用新型的权利要求范围并不局限于上文揭示的特定实施例的工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤。本实用新型所属技术领域普通技术人员应了解，基于本实用新型教示及揭示的工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤，无论现在已存在或日后开发者，其与本实用新型实施例揭示的内容以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本实用新型。因此，以下的权利要求范围用以涵盖用以此类工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤。

Claims (8)

1.一种雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该雕轮轧压凹凸布包含一布料及多个设置于该布料的表面的微/纳米级凸凹部图案。

2.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该微/纳米级凸凹部图案呈V形。

3.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该微/纳米级凸凹部图案呈倒梯型。

4.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该微/纳米级凸凹部图案的宽度为微米级或者纳米级。

5.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该微/纳米级凸凹部图案的高度为微米级或者纳米级。

6.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其中该布料为聚酯纤维或聚酰胺纤维的纤维织物。

7.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该布料包含一上表面及一下表面，该微/纳米级凸凹部图案设置于该上表面，该下表面没有微/纳米级凸凹部图案。

8.根据权利要求1所述的雕轮轧压凹凸布，其特征在于，该微/纳米级凸凹部图案直接形成于该布料上。

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