CN201719131U - 足浴盆 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种足浴盆，包括具有喷水动力装置的足浴盆本体，其中，所述足浴盆本体于内部位于脚面上方的位置上设有用以在喷水动力装置作用下向脚面喷水的喷头，所述喷头设于所述足浴盆本体内部对应左右两脚间的位置上，且于对应左右两脚脚面的侧面位置上设有喷水孔，所述足浴盆本体于内部对应左右两脚跟腱的位置上设有用以在喷水动力装置作用下喷水的喷水口。本实用新型结构简单，通过对喷头及位于喷头两侧的喷水孔的设置，使其能够对双脚脚面进行喷水式按摩，提升足浴的放松保健效果，此外，通过在对应左右两脚跟腱的位置上设置喷水口，还使其能够有效按摩跟腱部位，更加强化了足浴的保健效果，非常实用。

Description

足浴盆
技术领域
本实用新型涉及一种足浴盆。
背景技术
现有技术中的足浴盆只是通过脚底喷水的方式对脚部进行按摩，而无法对脚面和跟腱部位进行按摩，不能最大限度的达到足浴按摩，放松保健的效果。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种能够更加全面的对双脚进行按摩、提升足浴按摩、放松保健效果的足浴盆。
为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案来实现的：
一种足浴盆，包括具有喷水动力装置的足浴盆本体，其中，所述足浴盆本体于内部位于脚面上方的位置上设有用以在喷水动力装置作用下向脚面喷水的喷头。
作为优选，所述喷头设于所述足浴盆本体内部对应左右两脚间的位置上，且于对应左右两脚脚面的侧面位置上设有喷水孔。
作为优选，所述足浴盆本体于内部对应左右两脚跟腱的位置上设有用以在喷水动力装置作用下喷水的喷水口。
由上述技术方案可知，本实用新型的有益效果是：
相比现有技术，本实用新型结构简单，通过对喷头及位于喷头两侧的喷水孔的设置，使其能够对双脚脚面进行喷水式按摩，提升足浴的放松保健效果，此外，通过在对应左右两脚跟腱的位置上设置喷水口，还使其能够有效按摩跟腱部位，更加强化了足浴的保健效果，非常实用。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
具体实施方式
为了使本领域技术人员能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图。
请参阅图1所示，本实用新型提供了一种足浴盆，包括具有喷水动力装置的足浴盆本体1，其中，所述足浴盆本体于内部位于脚面上方的位置上设有用以在喷水动力装置作用下向脚面喷水的喷头2，所述喷头设于所述足浴盆本体内部对应左右两脚间的位置上，且于对应左右两脚脚面的侧面位置上设有喷水孔3，所述足浴盆本体于内部对应左右两脚跟腱的位置上设有用以在喷水动力装置作用下喷水的喷水口4。
但以上所述仅为本实用新型的较佳可行实施例，并非用以局限本实用新型的专利范围，故凡运用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变化，均同理包含在本实用新型的范围内。

Claims (3)

1.一种足浴盆，包括具有喷水动力装置的足浴盆本体，其特征在于，所述足浴盆本体于内部位于脚面上方的位置上设有用以在喷水动力装置作用下向脚面喷水的喷头。
2.如权利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述喷头设于所述足浴盆本体内部对应左右两脚间的位置上，且于对应左右两脚脚面的侧面位置上设有喷水孔。
3.如权利要求1或2所述的足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本体于内部对应左右两脚跟腱的位置上设有用以在喷水动力装置作用下喷水的喷水口。
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