CN1535087A - 显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法 - Google Patents

显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1535087A
CN1535087A CNA2004100318275A CN200410031827A CN1535087A CN 1535087 A CN1535087 A CN 1535087A CN A2004100318275 A CNA2004100318275 A CN A2004100318275A CN 200410031827 A CN200410031827 A CN 200410031827A CN 1535087 A CN1535087 A CN 1535087A
Authority
CN
China
Prior art keywords
display unit
substrate
aforesaid substrate
layer
mentioned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2004100318275A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100420065C (zh
Inventor
�ֺͷ�
三浦弘纲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Publication of CN1535087A publication Critical patent/CN1535087A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100420065C publication Critical patent/CN100420065C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
    • B43K—IMPLEMENTS FOR WRITING OR DRAWING
    • B43K27/00—Multiple-point writing implements, e.g. multicolour; Combinations of writing implements
    • B43K27/08—Combinations of pens
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
    • B43K—IMPLEMENTS FOR WRITING OR DRAWING
    • B43K23/00—Holders or connectors for writing implements; Means for protecting the writing-points
    • B43K23/06—Means for connecting two or more writing implements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/873—Encapsulations
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种不使质量下降，可以防止制造线的大型化以及伴随其的成本上升的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法。是在基板(501)上形成了具有电极(511)及光功能层(510)的元件层(20)的显示装置(10)，基板(501)由不可逆性的拉伸性材料构成，元件层(20)由伸缩性材料构成，且具有相对于基板(501)的粘接性。

Description

显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法。
背景技术
以往，人们已知采用通过喷出发光材料等的功能液体的喷墨方式，进行发光材料的图案形成的方法，形成了各像素的发光层及空穴注入层的彩色显示装置，尤其是作为发光材料，使用了有机发光材料的有机EL(Electro-Luminescence)显示装置(例如，参照专利文献1)。
(专利文献1)
特开平10-12377号公报
这种有机EL显示装置，在目标大小即最终作为产品利用的大小的基板上形成有元件层(开关元件、电极、空穴注入/输送层及发光层等)。因此，在要求显示板的大型化的近几年，不能避免制造这些有机EL显示装置的制造装置的大型化，制造线所需的成本高成为问题。另外，也有由于采用喷墨方式，如果基板大型化，则向整个基板喷出功能液体的时间也增多，存在产生喷嘴的干燥或喷射到基板上的功能液体的干燥不均匀，有机EL显示装置的制造困难的问题。
另一方面，在有机EL显示装置中，为了消除发光不均，也提高要求功能液体的膜厚的均匀化等对作为产品的质量提高的要求。因此，在制造装置侧，虽然有必要更高精度地进行喷出位置或功能液体的喷出量等的控制，但也存在与上述基板的大型化问题的平衡，成为大的课题。
发明内容
本发明鉴于上述问题点，其目的在于，提供一种通过使用能拉伸或收缩的基板，从而不使质量下降，可以防止制造线的大型化以及伴随其的成本上升的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法。
本本发明之一所述的显示装置，是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的显示装置，其特征在于，基板由不可逆性的拉伸性材料构成，元件层由伸缩性材料构成，且具有相对于基板的粘接性。
另外，本本发明之八所述的显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的显示装置，基板由不可逆性的拉伸性材料构成，元件层由伸缩性材料构成，且具有相对于基板的粘接性，其特征在于，具备：在基板上形成元件层的元件层形成工序；和形成元件层后，拉伸基板，以使显示装置成为目的大小的拉伸工序。
根据这些构成，由于基板由不可逆性的拉伸性材料构成，元件层由伸缩性材料构成，且具有相对于基板的粘接性，故通过在元件层形成后使基板拉伸，从而可以制造尺寸比最初的基板还大的显示装置。因此，即使在制造大的显示装置的情况下，也可以不大型化制造线且防止伴随其的成本上升。另外，由于在基板小的状态下形成元件层，故例如在利用喷墨方式的情况下，可以对1枚基板快速地进行涂敷，可以防止喷嘴的干燥。
在本本发明之八所述的显示装置的制造方法中，拉伸工序优选利用拉伸机构，同时向二维方向拉伸基板，而该拉伸机构由向X轴方向拉伸基板的X轴拉伸机构和向Y轴方向拉伸基板的Y轴拉伸机构构成，且该X轴拉伸机构与该Y轴拉伸机构互相连接。
根据该构成，由于向二维方向拉伸基板，故可以得到比最初的基板更二维地大型化了的显示装置。另外，由于拉伸基板的拉伸机构由X轴拉伸机构与Y轴拉伸机构构成，且这些机构互相连接着，故可以使基板同时且圆滑地向二维方向拉伸。
在本发明之八或之九所述的显示装置的制造方法中，显示装置为液晶显示装置，在元件层形成工序之后还具备向元件层间注入液晶的液晶注入工序，在拉伸工序中，优选在液晶注入工序之后拉伸基板。
根据该构成，由于在液晶显示中，液晶注入后才拉伸基板，故可以按照拉伸方向使液晶取向该方向。因此，可以省略使液晶取向用的液晶取向处理(rubbing处理等)。
在本发明之八、之九或之十所述的显示装置的制造方法中，优选还具备在收缩工序前形成由利用热能固化的热固化性材料或利用光能固化的光固化性材料构成，且密封基板的密封层的密封层形成工序；和拉伸工序后使密封层固化的密封层固化工序。
根据该构成，通过形成密封层，可以提高气体阻挡性(gas barrier)另外，由于在拉伸基板后使密封层固化，故密封层不会妨碍拉伸。
本发明之二所述的显示装置，在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层，其特征在于，基板由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料，或通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成，元件层由伸缩性材料构成，且具有相对于基板的粘接性。
再有，本发明之十二所述的显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，基板由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料构成，元件层由伸缩性材料构成且具有相对于基板的粘接性，其特征在于，具备：在基板上形成元件层的工序；和形成元件层之后，通过热能收缩上述基板的收缩工序。
还有，本发明之十三所述的显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，基板由通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成，元件层由伸缩性材料构成且具有相对于基板的粘接性，其特征在于，具备：在基板上形成元件层的工序；和形成元件层之后，通过光能收缩基板的收缩工序。
根据这些构成，由于基板由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料，或通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成，该基板上形成的元件层由伸缩性材料构成，且具有相对于基板的粘接性，故通过在元件层形成后使基板收缩，从而可以制造尺寸比最初的基板还小的显示装置。因此，元件层形成时，即使不那么提高制造装置的精度，也可以容易地制造优良质量的显示装置。例如，在通过喷墨方式形成元件层时，即使有必要精度优良地将所定量(所定次数)的功能液体喷在微小的像素区域内，但由于可以在像素区域大的状态下喷出功能液体，故可以掩饰这一部分的喷出精度的误差。
本发明之三所述的显示装置，在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层，其特征在于，基板及元件层都由伸缩性材料构成，元件层具有相对于基板的粘接性。
此外，本发明之十四所述的显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，基板及元件层均由伸缩性材料构成，且元件层具有相对于基板的粘接性，其特征在于，具备：在元件层的形成前拉伸基板的前拉伸工序；拉伸过基板后，在基板上形成元件层的工序；和形成了元件层后，收缩基板以使显示装置达到目的大小的收缩工序。
根据这些构成，由于基板及元件层都由伸缩性材料构成，且元件层具有相对于基板的粘接性，故通过在元件层形成后使基板拉伸或收缩，从而可以制造尺寸比最初还大或还小的显示装置。因此，不会使显示装置的质量降低，可以防止制造线的大型化及伴随其的成本上升。
在本发明之三所述的显示装置中，优选基板由能自己收缩的弹性材料构成。
在本发明之十四所述的显示装置的制造方法中，优选基板由能自己收缩的弹性材料构成，在前拉伸工序中，以通过沿X轴方向与/或Y轴方向拉伸的拉伸机构使其拉伸的状态固定基板，在收缩工序中撤除拉伸机构。
根据这些构成，由于基板由能自己收缩的弹性材料构成，故若预先以通过沿X轴方向与/或Y轴方向拉伸的拉伸机构使其拉伸的状态固定基板后形成元件层，然后撤除拉伸机构，则可以恢复到原来的基板尺寸。即，没有必要进行使基板材料产生化学变化等的处理，且不需要制造线的大型化即可制造显示装置。
在本发明之三所述的显示装置中，优选基板由通过热能或光能发挥不可逆性的伸缩性材料构成。
另外，在本发明之十四所述的显示装置的制造方法中，优选基板由通过热能发挥不可逆性的伸缩性材料构成，在收缩工序中，在收缩基板的同时，向基板提供热能。
再有，在本发明之十四所述的显示装置的制造方法中，优选还具备在收缩工序后通过热能使基板固化的热固化工序。
还有，在本发明之十四所述的显示装置的制造方法中，优选还具备在收缩工序后通过光能使基板固化的光固化工序。
根据这些构成，由于基板由通过热能或光能发挥不可逆性的伸缩性材料构成，故通过提供这些能量，可以得到最终稳定了的状态的显示装置。
在本发明之一～之五中的任一项所述的显示装置中，优选与电极连接的配线是使金属微粒分散到导电性聚合物中而成的。
根据该构成，由于与上述电极连接的配线是使金属微粒分散到导电性聚合物中而成的，故可以一边确保导电率，一边防止由拉伸导致的断线。
本发明之七所述的电子机器，其特征在于，具备本发明之一～之六中的任一项所述的显示装置和驱动控制该显示装置的驱动控制机构。
根据该构成，不会使显示装置的质量降低，可以提供不需要制造线的大型化的电子机器。
在本发明之十二～十八中的任一项所述的显示装置的制造方法中，优选还具备：在收缩工序前形成由通过热能固化的热固化性材料或通过光能固化的光固化性材料构成，且密封基板的密封层的密封层形成工序；和拉伸工序后使密封层固化的密封层固化工序。
根据该构成，通过形成密封层，可以提高气体阻挡性。另外，由于在拉伸基板后使密封层固化，故密封层不会妨碍拉伸。
在本发明之十一或十九所述的显示装置的制造方法中，优选显示装置为有源显示板，具有由伸缩性材料构成的有源元件，还具备在基板上形成有源元件的有源元件形成工序。
根据该构成，由于有源元件由伸缩性材料构成，故即使在制造有源显示板的情况下，也可以拉伸或收缩基板。因此，在这种情况下，也不会使显示装置的质量降低，可以防止制造线的大型化所造成的成本升高。
本发明之二十所述的显示装置的制造方法中，优选电极、光功能层、密封层及有源元件的任一种或2种或以上，利用喷墨方式形成。
根据该构成，通过利用喷墨方式形成电极等，从而能由多种的材料构成基板。另外，可以低价且容易地制造高质量的显示装置。
附图说明
图1是表示本发明的一实施方式的显示装置的主要部分的图。
图2是实施方式的显示装置的俯视图及剖视图。
图3是实施方式的功能液滴喷出装置的俯视示意图。
图4是实施方式的拉伸装置的俯视示意图。
图5是实施方式的夹紧机构的立体图。
图6是表示实施方式的显示装置的拉伸状态的一例的图。
图7是表示与图6不同的显示装置的拉伸状态的一例的图。
图8是表示实施方式的有机EL显示装置的制造方法的流程图。
图9是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的贮存格部形成工序(无机物贮存格)的剖视图。
图10是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的贮存格部形成工序(有机物贮存格)的剖视图。
图11是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的等离子体处理工序(亲水化处理)的剖视图。
图12是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的等离子体处理工序(疏水化处理)的剖视图。
图13是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的空穴注入层形成工序(功能液滴喷出)的剖视图。
图14是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的空穴注入层形成工序(干燥)的剖视图。
图15是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的表面改性工序(功能液滴喷出)的剖视图。
图16是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的表面改性工序(干燥)的剖视图。
图17是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的B发光层形成工序(功能液滴喷出)的剖视图。
图18是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的B发光层形成工序(干燥)的剖视图。
图19是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的R·G·B发光层形成工序的剖视图。
图20是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的对向电极形成工序的剖视图。
图21是实施方式的有机EL显示装置的制造方法中的密封工序的剖视图。
图22是表示第2实施方式的液晶显示装置的制造方法的流程图。
图23是第2实施方式的液晶显示装置的立体分解图。
图24是第2实施方式的液晶显示装置的剖视图。
图25是表示第3实施方式的显示装置的收缩状态的一例的图。
图26是表示第4实施方式的拉伸机构的一例的图。
图中：1-功能液滴喷出装置，3-移动机构，4-Y轴工作台，5-X轴工作台，7-头单元，9-辅助拖板(sub-carriage)，10-有机EL显示装置，12-功能液体供给机构，20-元件层，30-密封层，60-拉伸装置，62a、62b-X轴拉伸机构，63a、63b-Y轴拉伸机构，65-夹紧机构，510-光功能层，501-基板，502-电路元件层，503-阴极(对向电极)，504-显示元件层，510a-空穴注入/输送层，510b-发光层，600-液晶显示素位置，611a、611b-基板，641a、641b-元件层，A-像素区域，H-功能液滴喷头，L-液晶，W-母板。
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法进行说明。由于喷墨式打印机(功能液滴喷出装置)的喷头(功能液滴喷头)可以精度优良地呈点状喷出微小的墨滴(功能液滴)，故期待着例如通过在功能液体(喷出对象液体)中使用特殊的墨或者发光性或感光性树脂等，从而应用到各种零件的制造领域中去。在本实施方式中，例如以在有机EL显示装置或液晶显示装置等的所谓平面显示器的制造方法中，从功能液滴喷出装置的功能液滴喷头喷出(喷墨方式)滤光片材料或发光材料等的功能液体，进行有机EL显示装置中的各像素的EL发光层及空穴注入层等的形成或液晶显示装置中的R·G·B的滤芯(filter element)等的形成的情况为例进行说明。而且，作为显示装置，例示各像素呈矩阵状配置，且具有有源元件的所谓有源矩阵型装置。
另外，本实施方式所示的显示装置，通过全部由能拉伸或收缩的材料做成构成其的构成要素，从而可以在尺寸比目的大小还小的基板上形成开关元件或元件层(电极、空穴注入/输送层及发光层等)，或相反在尺寸比目的大小还大的基板上形成这些构件。而且，根据该构成，达到在防止制造线的大型化及伴随其的成本上升的同时，使显示装置的质量提高的效果。
因此，首先在第1实施方式中，对有机EL显示装置10的制造方法，其在尺寸比目的大小还小的基板上形成元件层20的情况进行说明。如图1所示，本实施方式的显示装置10，编辑从外部输入的数据信号(图像信号)，同时具备：具有移位寄存器(shift register)、电平转换机构(level shifter)、视频线路及模拟开关的数据侧驱动电路104；与该数据侧驱动电路104连接的多条信号线102；具有移位寄存器及电平转换机构的扫描侧驱动电路105；与该扫面侧驱动电路105连接且沿相对信号线102垂直的方向延伸的多条扫描线101和设于信号线102及扫描线101的各交点附近的多个像素区域A。
另外，各像素区域A具备：开关用的薄膜晶体管112；保持通过该开关用薄膜晶体管112从信号线102供给的像素信号的保持电容罩(电容器)113；向栅电极供给由该保持电容罩113保持的像素信号的驱动用的薄膜晶体管123；在通过该驱动用晶体管123，与电源线103连接时，从电源线103流入驱动电流的像素电极511；成为该像素电极511的对向电极的阴极503；和夹持在像素电极511与阴极503之间的光功能层510。另外，由像素电极511、阴极503及光功能层510构成显示元件504，由开关用薄膜晶体管112、保持电容罩(电容器)113及驱动用薄膜晶体管123构成有源元件。
若驱动扫描线101，开关用的薄膜晶体管112成为接通状态，则该构成的显示装置10将此时的信号线102的电位保持在保持电容罩113内，同时根据保持在保持电容罩113内的电位，决定驱动用薄膜晶体管123的接通·断开。而且，通过驱动用薄膜晶体管123的沟道，从电源线103向像素电极511流入电流，电流通过光功能层510流向阴极503。即，在光功能层510中流经电流期间，发光层510b(参照图2)持续发光。
接着，参照图2，说明显示装置10的装置构成。该图(a)为显示装置10的俯视图，该图(b)为显示装置的剖视图。如这些图所示，显示装置10是由气体阻挡性高的透明树脂构成的基板501、具有电极503、511及光功能层510等的元件层20和密封基板501的密封层30层叠而构成的。
基板501，是将具有拉伸性及不可逆性的透明树脂(PC树脂、PET树脂、PAR树脂、PAN树脂、PES树脂、α-PO(降冰片烷系)树脂、PCTEE、其他透明氟树脂、其他PVA系挤压制品等)形成为薄膜状的构件，被划分为位于中央的显示区域20a和包围其的非显示区域20b。
这种情况下，显示区域20a由配置为矩阵状的显示元件504形成，R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)的像素按照所定的法则排列着。而且，在图示中，虽然示出了同色的像素排列成一列(带状)的带状排列，但其他同色的像素倾斜地排列的嵌镶(mosaic)排列等排列方式也可以。另外，在显示区域20a的该图(a)的上侧，在制造中或出厂时，配置有用来进行显示装置10的质量、缺陷检查的检查电路106。
另一方面，在非显示区域20b中设置与显示区域20a相邻的虚拟显示区域20d，在该虚拟显示区域20d中，在电路元件部502内配置有上述的扫描侧驱动电路105。再有，在非显示区域20b的电路元件部502内，在配线上述电源线103(103R、103G、103B)的同时，设有与扫描侧驱动电路105连接的驱动电路用控制信号配线105a、驱动电路用电源配线105b。
如该图(b)所示，元件层20大致区分为电路元件层502与显示元件层504。电路元件层502，在基板501上形成由氧化硅膜构成的底保护膜502a，再在其上形成由多晶硅构成的半导体膜502b。还有，电路元件层502中具备有上述的扫描线101、信号线102、保持电容罩113、开关用薄膜晶体管112、驱动用薄膜晶体管123等。另外，在显示元件层504中具有由像素电极511及光功能层510构成的发光元件140和阴极503。
阴极503，其一端连接基板501上形成的阴极用配线503a，该阴极用配线503a的一端连接着挠性基板50上的配线50a{参照该图(a)}。另外，配线50a同样与挠性基板50上具备的驱动IC(驱动电路)51连接着。
密封层30由通过光能固化的光固化性材料(紫外线固化树脂等)构成，防止水或氧的进入，防止阴极503或光功能层510上形成的发光层510b的氧化。此外，密封层30通过喷墨方式形成，在使基板501拉伸后，由光能(紫外线灯98，参照图4)固化。
而且，密封层30，也可以由通过热能固化的热固化性材料(环氧树脂等热固化树脂)构成。这种情况下，利用热能(加热)固化密封层30。再有，根据需要，也可以在密封层30的下侧(阴极503的上侧)形成气体阻挡用的薄膜。而且，作为薄膜，优选由SiO2、SiN等无机材料构成。
接着，参照图3，说明除了上述密封层30以外，利用喷墨方式形成像素电极511、光功能层510等用的功能液滴喷出装置1。本实施方式的功能液滴喷出装置1备有：作为设置于机台上的移动机构3的X轴工作台5及与其垂直的Y轴工作台4；自由移动地安装于Y轴工作台4上的主拖板6和装载在主拖板6上的头单元7。在头单元7中，通过辅助拖板9，装载有排列了2个喷嘴列15a、15b的功能液滴喷头H。另外，作为工件的母板W装载在X轴工作台5上。在母板W上，配置多枚基板501(芯片)(图示中为9枚)，1个芯片的区域相当于1个显示装置10的显示区域20a。而且，多枚芯片的配置并未限于本方式。
进而，在功能液滴喷出装置1中，组装向功能液滴喷头H供给功能液体的功能液体供给机构12，同时组装有上述的移动机构3及控制功能液滴喷头H等的驱动的控制机构13。而且，在该控制机构13中，连接着用来生成功能液滴喷头H的驱动波形数据或喷出图案数据的主计算机14。
控制机构13具有在一并控制功能液滴喷出装置1的同时，与主计算机14连接的控制部31，控制X轴电动机19，驱动X轴工作台5，控制Y轴电动机17，驱动Y轴工作台4。另外，通过接口32，向功能液滴喷头H输入时钟信号、喷出信号、闩锁信号及驱动信号，驱动控制功能液滴喷头H。
再有，虽然在图示中省略，但在功能液滴喷出装置1中，除了组装接受功能液滴喷头H的定期冲洗(flushing)(功能恢复用的从全部喷嘴的功能液体废弃喷出)的冲洗单元或擦拭(wiping)功能液滴喷头H的喷嘴面的擦拭单元以外，还组装着进行功能液滴喷头H的功能液体吸引及保管的清洗单元(cleaning unit)等。
Y轴工作台4构成为具有构成Y轴方向的驱动系的电动机17驱动的Y轴滑块(slider)16，将上述主拖板6移动自由地装载在其上。同样，X轴工作台5构成为具有X轴方向的驱动系构成的电动机19驱动的X轴滑块18，其上移动自由地装载由吸附喷嘴等构成的固定工作台(set table)21。而且母板W在定位状态下被固定在固定工作台21上。
在本实施方式的功能液滴喷出装置1中，是与X轴工作台5的各功能液滴喷头10的移动同步，各功能液滴喷头10驱动(功能液滴的选择性喷出)的构成，功能液滴喷头10的所谓主扫描，是通过向X轴工作台5的X轴方向的往复动作而进行。另外，与此相对应，所谓的副扫描通过向Y轴工作台4的母板W的Y轴方向的往复动作而进行。而且，上述扫描中的各功能液滴喷头H的驱动，根据在上述主计算机14中已做成的驱动波形数据及喷出图案数据而进行。
一方面，功能液滴供给机构12，具备向功能液滴喷头H(各喷嘴列15a、15b)供给功能液体的副槽(sub-tank)23，同时虽然在图示中省略了，但还具有与副槽23连接的主槽及向副槽23输送主槽的功能液体的压力送液装置。主槽的功能液体被压力输送到副槽，在副槽23中被压力地断绝的功能液体，由功能液滴喷头H的泵作用，被送至功能液滴喷头H。而且，虽然在图示中省略了，但上述压力送液装置也由上述控制机构13控制。
头单元7由以不锈钢等的厚板构成的副拖板9和精度优良地定位于副拖板9上的功能液滴喷头H构成。另外，在副拖板9的左右中间位置上，作为头单元7的定位基准，设有一对基准销(印记)26、26。在各功能液滴喷头H中，180个喷嘴排列成列状，该喷嘴列平行地配置为2列(15a、15b)。另外，功能液滴喷头H以相对主扫描方向(X轴方向)倾斜了所定角度的状态配置，通过沿图示的θ轴方向调节倾斜角度，从而可以使喷嘴间距与像素间距对应。
接着，参照图4及图5，以用于对母板W(基板501)拉伸的拉伸装置60进行说明。如这些图所示，拉伸装置60由分别在台板61上相对向配置的一对X轴拉伸机构62a、62b与一对Y轴拉伸机构63a、63b构成。台板61的中央部，成为面对母板W的方形固定台(set stage)64，各X轴拉伸机构62a、62b分别与固定台64的一方的对边面对，各Y轴拉伸机构63a、63b则与另一方的对边面对。而且，由于X轴拉伸机构62a、62b与Y轴拉伸机构63a、63b具有完全相同的形态，故在这里，主要说明X轴拉伸机构62a、62b，省略Y轴拉伸机构63a、63b的说明。
各X轴拉伸机构62a、62b具有：把持母板W的1个边的多个夹紧机构(chuck)65；支撑多个夹紧机构65沿Y轴方向自由滑动的一对导轨67；使保持夹紧机构65的卡盘架(chuck holder)66沿X轴方向进退的齿轮传动马达(geared motor)68；和将齿轮传动马达68的旋转变换为进退动作，并向卡盘架66传达的圆头螺栓(丝杠)69。多个夹紧机构65靠紧间隔，横向且等间隔地配置。
如图5所示，各夹紧机构65具有：保持在卡盘架66上的基端台座71；从基端台座71向前方延伸的下把持片73；与下把持片73相对且转动自由地安装在下把持片73上的上把持片72；和相对下把持片73，使上把持片72转动的螺线管(solenoid)74。另外，在基端台座71上，设有与卡盘架66自由滑动地转接的上下各一对、共计4个的辊75、76。
上下相对的上把持片72及下把持片73，具有用来将母板W保持在相互对向面的前端侧半部上的防滑部72a、73a，另外在上把持片72及下把持片73的对向面的基端侧半部上隔设有一对压缩弹簧82。上把持片72弯曲成“L”字状，在该弯曲部上形成下把持片73插通的插通开口83，以该部分轴支撑着下把持片73自由转动。另外，在弯曲部的下端部位上，连接有安装在基端台座71上的螺线管74的铁心(plunger)84。
若励磁螺线管74，则上把持片72抵抗压缩弹簧82，向下转动，将面对边缘部的母板W牢固地把持在下把持片73的防滑部73a上。从该状态开始，若将螺线管74消磁，则利用压缩弹簧82的弹力，上把持片72向上转动，解除母板W的把持状态。
基端台座71，以凸缘部(flange)85与肋部86形成横“T”字状，在肋部86的上下两面上，分别自由旋转地安装有一对辊75、76。上下各一对的辊75、76分别构成为绕垂直轴周围自由旋转，在与凸缘部85的内面之间夹持后述的卡盘架66的上下导向片87，自由滑动地转接且保持在卡盘架66上。
而且，图中的标号88是拉伸弹簧，多个夹紧机构65以各自的基端台座71部分，利用该拉伸弹簧88相互连接着。而且，从位于最外端的2个夹紧机构65向外侧延伸的2根拉伸弹簧88，分别连接着一对Y轴拉伸机构63a、63b。即，若一对Y轴拉伸机构63a、63b分别后退，母板W向Y轴方向拉伸，则虽然各夹紧机构65被其拉着并向外侧移动，但同时通过被该拉伸弹簧88拉着，各夹紧机构65在被卡盘架66保持的状态下沿Y轴方向圆滑地滑动。
卡盘架66具有：滑动自由地保持多个夹紧机构65的卡座主体91；从卡座主体91的两外端部弯曲且向外侧延伸的一对滑动部92；位于一对滑动部92的内侧，并从卡座主体91向外侧延伸的“U”字状悬臂部93；和设于悬臂部93中央的内螺纹块94。而且，一对滑动部92的下面，滑动自由地与在台板61上沿X轴方向延伸的一对导轨90配合。
卡座主体91形成为截面呈“C”字状，在其狭缝状的开口部内插入基端台座的肋部，同时与构成开口部96的上下导向片87配合，以便夹持各夹紧机构65的凸缘部85及上下的辊75、76(参照图5的虚拟线)。由此，各夹紧机构65在接受了沿X轴方向拉伸力的状态下，沿Y轴方向自由地滑动。
齿轮传动马达68，通过联轴节97(coupling)与圆头螺栓69连接，该圆头螺栓69与卡盘架66的内螺纹块94螺纹配合。若通过齿轮传动马达68的正反旋转，圆头螺栓69正反旋转，则通过悬臂部93，卡盘架66由一对导轨90引导，进退。即，通过卡盘架66后退，由多个夹紧机构把持的母板W被拉向外侧，并拉伸。
一方面，在固定台64中，由十字状的隔板划分为4个，形成为凸部97。4个凸部97形成地大，以便面对固定在固定台64上的母板W的几乎整个下面，在各凸部97中分别收纳有紫外线灯98。通过该紫外线灯98的紫外线照射，可以使由紫外线固化树脂构成的密封层30固化。
图6(a)表示由拉伸装置60拉伸的母板W的状态，图6(b)表示由此拉伸的显示装置10(芯片)的状态。如上所述，显示装置10由X轴拉伸机构62a、62b及Y轴拉伸机构63a、63b，同时向X轴方向及Y轴方向(二维方向)拉伸。这种情况下，如该图(b)所示，基板501上形成的扫描线101、信号线102、电源线103、光功能层510及像素电极511等也与基板501一起，一边保持相同配置，一边被拉伸。因此，可以迅速地得到比处理前的基板501的尺寸还二维地大型化了的，即以相同倍率沿纵向即横向扩大了的显示装置10。
这样，根据本实施方式的拉伸装置60，由于拉伸母板W的拉伸机构由X轴拉伸机构与Y轴拉伸机构构成，这些机构互相连接，故可以使母板W圆滑地拉伸，可以迅速地得到比最初的母板W更二维大型化了的显示装置10。另外，由于拉伸切出各显示装置10前的母板W，故不需在各显示装置10上设置用来以夹紧机构65把持的把持区域。再有，由于可以同时使多枚显示装置10拉伸·收缩，故可以节省每个进行这些处理的工时。
而且，也可以不使母板W同时且圆滑地向二维方向拉伸，而如图7所示，只向一维方向(X轴方向或Y轴方向)拉伸。这种情况下，优选从位于X轴方向最外端的2个夹紧机构65开始延伸的拉伸弹簧88不与一对Y轴拉伸机构63a、63b连接，而是形成固定在卡盘架66上的状态。而且，可以只利用一对X轴方向拉伸机构62a、62b或一对Y轴方向拉伸机构63a、63b的任一个拉伸机构进行拉伸。
另外，如该图所示，若做成在向X轴方向一维拉伸后，向Y轴方向二维拉伸，则与图6所示的情况同样，可以得到二维地大型化了的显示装置10。这样，通过向一维方向拉伸母板W后，向二维方向拉伸(分为2个阶段进行拉伸)，可以容易且准确地使母板W(基板501)拉伸。
再有，在上述的示例中，虽然使切出前的母板W拉伸，但也可以使切出后的各基板501(芯片)拉伸。根据该构成，不会大型化拉伸装置60，且可以提高成品率。
还有，可以形成将上述拉伸装置60组装入图3所示的功能液滴喷出装置1中。根据该构成，不必另外设置拉伸装置60，另外可以节省向各装置1、60安装及拆卸母板W(基板501)的工时。
接着，参照图8～图21，说明有机EL显示装置10的制造方法。图8是表示有机EL显示装置10的制造方法的流程图，图9～图21表示有机EL显示装置10的制造工艺及其结构。如上所述，在尺寸比目的大小还小的基板501上形成元件层20，形成元件层20后，通过使基板501拉伸，而制造有机EL显示装置10。其制造工序，如图8所示，首先从在基板501上进行表面处理(等离子体处理)开始(S11)。而且，基板501由具有拉伸性及不可逆性的透明树脂构成。
表面处理工序大致分为预备加热工序、加工以使表面具有亲墨性的亲墨化工序与冷却工序。首先，在预加热工序中，将基板501加热到所定温度。加热例如通过在装载基板501的台面上安装加热器，用该加热器在该台面上加热基板501而进行。具体地讲，优选使基板501的预加热温度例如为70～80℃的范围。
接着，在亲墨化工序中，在大气气氛中进行以氧气为处理气体的等离子体处理(O2等离子体处理)。利用该O2等离子体处理，将羟基导入基板501的表面，从而付与亲墨性。接下来，在冷却工序中，将为了进行等离子体处理而加热过的基板501冷却到室温或喷墨工序(功能液滴喷出工序)的管理温度。通过将等离子体处理后的基板501冷却到室温或所定温度(例如进行功能液滴喷出工序的管理温度)，从而可以在恒定的温度下进行下述的工序。如上所述，通过进行表面处理(等离子体处理)，可以提高基板501与以下所示的元件层20的粘接性。
接着，形成元件层20(S12～S17)。而且，元件层20全部由伴随基板501的拉伸·收缩而能拉伸·收缩的伸缩性材料构成。因此，首先形成上述的电源线103及信号线102等(S12)。这些配线是利用喷墨方式涂敷使金属微粒分散到导电性聚合物(导电性高分子)中的功能液体的。通过使用这种功能液体，可以在确保导电率的同时防止拉伸所导致的断线。接下来，虽然形成有源元件{开关用薄膜晶体管112、保持电容罩(电容器)113及驱动用薄膜晶体管123等}，但在有机EL显示装置10为无源显示板时，该工序是不需要的(S13)。而且，有源元件的形成也利用喷墨方式即功能液滴喷出装置(参照图3)的功能液体的喷出(涂敷)而形成。
接下来，形成像素电极511(S14)。在这里，通过利用蒸镀法等使ITO(铟锡氧化物，Indium Tin Oxide)微粒分散了的功能液体涂敷·干燥，从而形成像素电极511。接着，根据基板501的拉伸率及功能液滴喷出装置1的喷出精度，在基板501的端部附近或整个面上进行贮存格(bank)部512(参照图9及图10)的形成(S15，在拉伸率高时或喷出精度高时不需要形成贮存格部)。这种情况下，疏墨处理贮存格部512。另外，根据需要进行表面处理。
进而，利用喷墨方式形成光功能层(空穴注入/输送层510a及发光层510b)510(S16)，然后形成对向电极(阴极)503(S17，参照图20等)。该对向电极503通过层叠多种材料而形成。而且，与像素电极511同样，可以通过利用蒸镀法等分散了ITO微粒的功能液体涂敷·干燥而形成。这样，利用S12～S17，在基板501上形成元件层20。
接下来，形成密封层30(S18)，以覆盖基板501及元件层20。这种情况下，密封层30通过涂敷利用光能(紫外线)固化的紫外线固化树脂而形成。然后，利用拉伸装置60(参照图4及图5)将基板501(有机EL显示装置10)拉伸到目的大小(S19)。而且，拉伸后，通过在有机EL显示装置10上照射紫外线，而固化密封层30(S20)。之后，切出(die sinking开模)母板W，经过连接(bonding)、精加工、特性检查等，有机EL显示装置10完成。
以下，按照上述制造工艺，参照并说明结构图。图9及图10表示形成像素电极511后形成贮存格部5112的工序。在贮存格部形成工序中，在预先形成于基板501的电路元件层502上及像素电极511的所定位置上，通过层叠无机物贮存格层512a与有机物贮存格层512b，从而形成具有开口部512g的贮存格部512。
首先，在形成无机物贮存格层512a的工序中，如图9所示，在电路元件部502的第2层间绝缘模544b上及像素电极511上形成无机物贮存格层512a。这种情况下，无机物贮存格层512a由SiO2、TiO2等无机物膜构成，利用CVD法、涂布法、溅射法、蒸镀法等形成。
接着，利用蚀刻等将该无机物膜进行图案形成，设置与电极511的电极面511a的形成位置对应的下部开口部512c。此时，必须将无机物贮存格层512a形成为与电极511的边缘部重叠的方式。这样，通过形成无机物贮存格层512a，以使电极511的边缘部(一部分)与无机物贮存格层512a重叠，从而可以控制发光层510b的发光区域。
接下来，在形成有机物贮存格层512b的工序中，如图10所示，在无机物贮存格层512a上形成有机物贮存格层512b。利用光刻法等蚀刻有机物贮存格层512b，形成有机物贮存格层512b的上部开口部512d。上部开口部512d设于和电极面511a及下部开口部512c对应的位置上。
上部开口部512d，如图10所示，优选形成得比下部开口部512c宽，比电极面511a窄。由此，包围无机物贮存格层512a的下部开口部512c的第1层叠部512e形成为比有机物贮存格层512b更向电极511的中央侧延伸而出的形状。这样，通过使上部开口部512d、下部开口部512c连通，从而形成贯通无机物贮存格层512a及有机物贮存格层512b的开口部512g。
而且，在这里，若需要，则也可以进行表面处理。在这里，作为表面处理工序，包含：预加热工序；亲墨化工序；疏墨化工序；和冷却工序，其中，所述亲墨化工序，对贮存格部512的上面(512f)及开口部512g的壁面以及像素电极511的电极面511a进行加工，使之具有亲墨性；所述疏墨化工序，对有机物贮存格层512b的上面512f及上部开口部512d的壁面进行加工，使之具有疏墨性。而且，在亲墨化工序中，如图11所示，像素电极511的电极面511a、无机物贮存格层512a的第1层叠部512e及有机物贮存格层512b的上部开口部512d的壁面以及上面512f被进行亲墨处理。
另外，在疏墨工序中，在大气气氛中进行以四氟化甲烷为处理气体的等离子体处理(CF4等离子体处理)。利用CF4等离子体处理，如图12所示，疏墨处理上部开口部512d的壁面及有机物贮存格层的上面512f。通过该疏墨处理，从而向这些面导入氟基，付与疏墨性。在图12中，用一点划线表示显示疏墨性的区域。而且，在这里所示的贮存格部形成工序及表面处理工序可以省略。
接着，在光功能层形成工序中，利用喷墨方式在像素电极511上形成空穴注入/输送层510a及发光层510b。而且，由像素电极511、空穴注入/输送层510a及发光层510b形成发光元件140。在光功能层形成工序中包括4个工序。即，包括：向各像素电极511上喷出用来形成空穴注入/输送层510a的第1组合物的第1功能液滴喷出工序；使喷出的第1组合物干燥，以在像素电极511上形成空穴注入/输送层510a的空穴注入/输送层形成工序；向空穴注入/输送层510a上喷出用来形成发光层510b的第2组合物的第2功能液滴喷出工序；使喷出的第2组合物干燥，以在空穴注入/输送层510a上形成发光层510b的发光层形成工序。
首先，在第1功能液滴喷出工序中，利用喷墨方式(功能液滴喷出法)，向电极面511a上喷出包含空穴注入/输送层形成材料的第1组合物。
如图13所示，在功能液滴喷头H中填充包含空穴注入/输送层形成材料的第1组合物，使功能液滴喷头H的喷嘴与位于下部开口部512c内的电极面511a相对向，一边使功能液滴喷头H与基板501相对移动，一边从喷嘴向电极面511a上喷出被控制为每滴液量的第1组合物滴510c。而且，空穴注入/输送层形成材料，相对R·G·B的各发光层510b，可以采用相同的材料，也可以相对每个发光层510b变化。
如图13所示，喷出的第1组合物滴510c，在电极面511a及第1层叠部512e上扩散，充满下部、上部开口部512c、512d内。向电极面511a上喷出的第1组合物量，由下部、上部开口部512c、512d的大小、要形成的空穴注入/输送层510a的厚度、第1组合物中的空穴注入/输送层形成材料的浓度等决定。另外，第1组合物滴510c并不只是喷出1次，也可以分为数次向相同的电极面511a上喷出。
接下来，在空穴注入/输送层形成工序中，如图14所示，通过干燥处理及热处理喷出后的第1组合物，并使第1组合物所含的极性溶剂蒸发，从而在电极面511a上形成空穴注入/输送层510a。若进行干燥处理，则第1组合物滴510c所含的极性溶剂的蒸发主要在接近无机物贮存格层512a及有机物贮存格层512b的地方发生，与极性溶剂的蒸发配合，浓缩并析出空穴注入/输送层形成材料。
由此，如图14所示，通过干燥处理，在电极面511a上也引起极性溶剂的蒸发，由此，在电极面511a上形成由空穴注入/输送层形成材料构成的平坦部510a。由于在电极面511a上，极性溶剂的蒸发速度几乎相同，故空穴注入/输送层形成材料在电极面511a上均匀地浓缩，由此形成均匀厚度的平坦部510a。
接着，在第2功能液滴喷出工序中，利用喷墨方式(功能液滴喷出法)，向空穴注入/输送层510a上喷出包含发光层形成材料的第2组合物。在该第2功能液滴喷出工序中，为了防止空穴注入/输送层510a的再溶解，作为发光层形成时使用的第2组合物的溶剂，相对空穴注入/输送层510a采用不溶的非极性溶剂。
然而，另一方面，空穴注入/输送层510a由于相对非极性溶剂的亲和性低，故即使向空穴注入/输送层510a上喷出包含非极性溶剂的第2组合物，也会有不能使空穴注入/输送层510a与发光层510b密接，或不能均匀地涂敷发光层510b的担忧。因此，为了提高空穴注入/输送层510a的表面相对非极性溶剂以及发光层形成材料的亲和性，优选在形成发光层510b之前进行表面改性工序。
因此，对表面改性工序进行说明。表面改性工序是通过利用旋转涂布法或浸渍法，在空穴注入/输送层510a上涂敷与发光层形成时使用的第1组合物的非极性溶剂相同的溶剂或类似于其的溶剂的表面改性用溶剂后，干燥而进行的。
例如，喷墨方式的涂敷，如图15所示，是通过在功能液滴喷头H中填充表面改性用溶剂，使功能液滴喷头H的喷嘴与基板501(即，已形成了空穴注入/输送层510a的基板)对向，一边使功能液滴喷头H与基板501相对移动，一边从喷嘴向空穴注入/输送层510a上喷出表面改性用溶剂510d而进行的。而且，如图16所示，使表面改性用溶剂510d干燥。
接下来，在第2功能液滴喷出工序中，利用喷墨方式(功能液滴喷出法)，向空穴注入/输送层510a上喷出包含发光层形成材料的第2组合物。如图17所示，在功能液滴喷头H中填充含有蓝色(B)发光层形成材料的第2组合物，使功能液滴喷头H的喷嘴与位于下部、上部开口部512c、512d内的空穴注入/输送层510a对向，一边使功能液滴喷头H与基板501相对移动，一边从喷嘴喷出作为被控制为每滴液量的第2组合物滴510e，并将该第2组合物滴喷在空穴注入/输送层510a上。而且，作为非极性溶剂，优选相对空穴注入/输送层510a不溶的物质。由此，可以不使空穴注入/输送层510a再溶解而涂敷第2组合物。
如图17所示，喷出的第2组合物510e，在空穴注入/输送层510a上扩散，充满下部、上部开口部512c、512d内。第2组合物510e不止喷出1次，也可以分为多次喷在相同的空穴注入/输送层510a上。这种情况下，每次的第2组合物的量可以相同，也可以每次变化第2组合物的量。
接下来，在发光层形成工序中，在喷出第2组合物后实施干燥处理及热处理，在空穴注入/输送层510a上形成发光层510b。干燥处理是通过干燥处理喷出后的第2组合物，而蒸发第2组合物所含的非极性溶剂，从而形成如图18所示的蓝色(B)发光层510b。
接着，如图19所示，与蓝色(B)发光层510b的情况同样，形成红色(R)发光层510b，最后形成绿色(G)发光层510b。而且，发光层510b的形成顺序并未限于本顺序，可以以任何顺序形成。
然后，在对向电极形成工序中，如图20所示，在发光层510b及有机物贮存格层512b的整个面上形成阴极(对向电极)503。而且，阴极503虽然可以涂敷ITO而形成，但也可以层叠多种材料而形成。
例如，优选在靠近发光层510b侧形成功函数小的材料，例如能使用钙、钡等，另外，有时也根据材料的不同在下层薄薄地形成LiF(氟化锂)等。再有，优选在上部侧(密封侧)形成功函数比下部侧还高的材料。这些阴极(阴极层)503，优选例如用蒸镀法、溅射法、CVD法等形成，尤其利用蒸镀法形成在可以防止发光层510b的热而导致的损伤方面是优选的。
另外，LiF可以只在发光层510b上形成，进而也可以只是在蓝色(B)发光层510b上形成。这种情况下，在其他的红色(R)发光层510b及绿色(G)发光层510b上，连接由LiF构成的上部阴极层503b。再有，优选在阴极503的上部之上使用由蒸镀法、溅射法、CVD法等形成的铝膜、银膜等。此外，为了防止氧化，可以在阴极503上设置SiO2、SiN等的保护层。
最后，在图21所示的密封层形成工序中，在氮气、氩气、氦气等惰性气体氛围中，在显示元件504上层叠由紫外线固化树脂构成的密封层30。密封工序优选在氮气、氩气、氦气等惰性气体氛围中进行。若在大气中进行，则由于有在阴极503上产生了气泡等缺陷时，水或氧等从该缺陷部分侵入阴极503中，氧化阴极503的可能性，故不是优选的。
而且最后，在挠性基板50的配线上连接阴极503，同时在驱动IC51上连接电路元件部502的配线。之后，通过由拉伸装置60进行母板W的拉伸，由紫外线灯98照射紫外线，使密封层30固化，从而可以得到本实施方式的有机EL显示装置10。这样，通过形成密封层30，可以提高防止气泡性。另外，由于使母板W收缩后固化密封层30，故密封层30不会妨碍基板501的拉伸。
而且，可以利用喷墨方式形成像素电极511、阴极(对向电极)503、贮存格部512(无机物贮存格层512a及有机物贮存格层512b)。即，将所定的功能液体分别导入功能液滴喷头H内，从功能液滴喷头H喷出这些液体，分别形成像素电极511等(包括干燥工序)。这样，通过利用喷墨方式形成各层，从而可以不需要经过采用光刻法时的复杂工序，另外不浪费材料，有效地制造有机EL显示装置10。
另外，作为基板501，可以使用以紫外线等光能发挥不可逆性的伸缩性材料或以热能发挥不可逆性的伸缩性材料。这种情况下，优选使母板W拉伸后提供光能或热能。
再有，密封层30，取代紫外线固化树脂，可以采用通过热能固化的热固化树脂(热固化薄膜)。这种情况下，使母板W拉伸后，取代紫外线，而是用加热器等加热密封层30。
还有，像素电极511虽然使用了ITO，但也可以使用在伸缩性材料中混合30体积％或以上的碳纳米管(carbon nano tube)的物质。根据该构成，可以确保导电性，同时可以作为透明电极使用。
如上所述，根据本实施方式，由于基板501由不可逆性的拉伸性材料构成，形成于该基板501上的元件层20由伸缩性材料构成且具有相对于基板501的粘接性，故通过在元件层20形成后使基板501拉伸，从而可以制造尺寸比最初的基板501还大的有机EL显示装置10。因此，即使在制造大的有机EL显示装置10的情况下，也不会大型化制造线或制造装置(功能液滴喷出装置)，可以防止伴随其的成本上升。另外，由于在基板501小的状态下形成元件层20，例如在采用喷墨方式时，可以对1枚基板501迅速地进行涂敷，可以防止喷嘴的干燥。还有，由于通过拉伸可以调整构成光功能层510的聚合物的排列，故可以改善电子或空穴的移动度。
接下来，参照图22～图25，对本发明的第2实施方式进行说明。在本实施方式中，是液晶显示装置(液晶显示板)600的制造方法，与第1实施方式同样，对在尺寸比目的大小还小的基板501上形成元件层20，通过拉伸而制造目的大小的显示装置的情况进行说明。而且，在本实施方式中，例示以简单矩阵方式进行全色显示的半透过反射方式的液晶显示装置600。另外，在本实施方式中，省略对显示装置600的制造工艺与详细的结构的说明。
图22是表示液晶显示装置600的制造方法的流程图，图23是液晶显示装置600的立体分解图，图24表示按照图22中的A-B线的液晶显示装置600的截面结构。如图22所示，液晶显示装置600是通过分别形成第1显示板607a与第2显示板607b，将这些粘贴而制造的。因此，首先从第1显示板形成工序开始说明。在第1显示板形成工序中，首先进行由紫外线固化树脂构成的第1显示板607a用的母板W的基板表面处理(等离子体处理)(S31)。关于表面处理，由于与第1实施方式同样，故省略说明。接着，采用光刻法等形成反射膜612，同时采用公知的成膜法形成绝缘膜613(S32)，在为有源显示板的情况下，采用喷墨法等形成有源元件(图示省略)(S33)。接下来，采用光刻法等形成第1电极及各种配线(引出配线614c及喷现614e、614f)(S34)，通过在第1电极614a上涂敷、印刷等，形成取向膜616a(S35)。
接着，例如利用网板印刷等将密封材料608形成为环状(S36)，接下来，在其上分散球状的隔离子119(S37)。如上所述，形成具有多个液晶显示板602的第1显示板607a上的显示板图案的大面积的第1显示板用母板W。
接下来，形成第2显示板607b。在第2显示板形成工序中，首先在由紫外线固化树脂构成的第2显示板607b用的母板W上形成液晶显示装置600的多个滤色片618(S38)。滤色片618虽然是用功能液滴喷出装置1形成R、G、B的各色滤光元件，但由于该利用喷墨方式的滤色片618的形成方法可以采用以外揭示的技术，故省略详细的说明。
接着，利用光刻法等形成第2电极614b(S39)，再通过涂敷、印刷而形成取向膜616b(S40)。如上所述，形成具有多个液晶显示板602的第2显示板607b上的显示板图案的大面积的第2显示板用母板W。而且，第1显示板、第2显示板并未限于这里所示的顺序，也可以同时进行而形成。
根据以上的工序，形成大面积的第1显示板607a用及第2显示板607b用的母板W后，将这些母板W夹持在密封材料608之间，在对准(alignment)即定位的基础上互相粘贴(S41)。由此，形成包含液晶显示板的多个显示板部分，且还未封入液晶状态的空的显示板结构体。
接下来，在完成的空显示板结构体的所定位置上形成划线(scribe)沟即切断用沟槽，再以该划线沟为基准，将显示板结构体断开(break)，即切断(S42，1次断开)。由此，形成各液晶显示板部分的密封材料608的液晶注入用开口610(参照图23)向外部露出的状态的，所谓的长方形的空显示板结构体。
然后，通过露出的液晶注入用开口610，向各液晶面板部分的内部注入液晶L，再用树脂等密封各液晶注入口610(S43)。通常的液晶注入处理，例如是通过在贮存容器内贮存液晶，将该贮存了液晶的贮存容器与长方形的空显示板置于容器(chamber)等中，使该容器等成为真空状态后，在该容器内部将长方形的空显示板浸渍于液晶之中，然后在大气压下开放容器而进行的。此时，由于空显示板的内部为真空状态，故由大气压加压的液晶通过液晶注入用开口，被导入显示板的内部。由于液晶附着在液晶注入后的液晶显示板结构体的周围，故液晶注入处理后的长方形显示板接受清洗处理(S44)。
之后，通过对液晶注入及清洗完成后的长方形母板W，再次在所定位置上形成划线沟，再以该划线沟为基准切断长方形显示板，从而分别切出多个液晶显示板(S45，2次断开)。接着，利用拉伸装置60分别拉伸制造出的每个液晶显示板602(S46)。通过该拉伸处理，液晶分子的初始取向被决定。然后通过照射紫外线，而使第1显示板607a及第2显示板607b的基板611a、611b固化。
而且，通过在紫外线照射后的液晶显示板602上安装液晶驱动用IC603a、603b，将照明装置606作为背光装置安装，再连接FPC604，从而完成液晶显示装置600(电子机器)。
接下来，对利用上述制造工艺制造的液晶显示装置600的结构进行说明。如图23所示，液晶显示装置600是通过在液晶显示板602上安装作为半导体芯片的液晶驱动用IC603a及603b，将作为配线连接要素的FPC(Flexible Printed Circuit)604与液晶显示板602连接，再将照明装置606作为背光装置设于液晶显示板602的背面侧而形成的。
另外，液晶显示板602是通过利用密封材料608将第1显示板607a与第2显示板607b粘贴而形成的。密封材料608，例如通过利用网板印刷等，使环氧系树脂呈环状地附着于第1显示板607a或第2显示板607b的内侧表面上而形成的。再有，在密封材料608的内部，如图24所示，由导电性材料形成为球状或圆筒状的导通材料609，以分散状态被包含。
第1显示板607a由具有拉伸性且通过紫外线发挥不可逆性的紫外线固化树脂构成。第1显示板607a的内侧表面(图24的上侧表面)上形成反射膜612，其上层叠绝缘膜613。
再有，在其上第1电极614a形成为从箭头C方向看呈带状(参照图23)，在其上形成取向膜616a。另外，在基板611a的外侧表面(图24的下侧表面)上通过粘着等安装偏振片617a。
而且，在第1显示板607a中，由反射膜612、绝缘膜613、第1电极614a、取向膜616a、液晶L等形成元件层641a，该元件层641a相对于基板611a具有足够的粘接性。另外，这些构成元件层641a的构成要素，均由伸缩性材料构成，伴随基板611a的拉伸，在保持相同配置的状态下直接拉伸。
第2显示板607b与第1显示板607a同样，由紫外线固化树脂构成，在基板611b的内侧表面(图24的下侧表面)上，利用功能液滴喷出装置1来形成滤色片618。另外，在其上沿与上述第1电极614a垂直的方向，且从箭头D方向看呈带状地形成第2电极614b，再于其上形成取向膜616b。
另外，在基板611b的外侧表面(图24的上侧表面)上通过粘着等安装偏振片617b。
而且，在第2显示板607b中，由滤色片618、第2电极614b、取向膜616b、液晶L等形成元件层641b，该元件层641b相对于基板611b具有足够的粘接性。另外，这些构成元件层641b的构成要素，均由伸缩性材料构成，伴随基板611b的拉伸，在保持相同配置的状态下直接拉伸。
如图24所示，在由第1显示板607a、第2显示板607b及密封材料608围成的间隙即单元间隙(cell gap)内封入液晶，例如STN(Super TwistedNematic)液晶L。在第1显示板607a或第2显示板607b的内侧表面上分散多个微小的球形隔离子619(直径3微米左右的球形树脂珠)，这些隔离子619通过存在于单元间隙内，而将该单元间隙的厚度保持均匀。
第1电极614a与第2电极614b以互相垂直的关系配置，这些交点从箭头C方向看呈点·矩阵状排列。而且，该点·矩阵状的各交点构成1个像素(pixel)。滤色片618是通过从箭头C方向看R(红)、G(绿)、B(蓝)的各色要素，使所定的图案例如以带状排列、三角形排列等的图案排列而形成的。上述的1个像素分别这些R、G、B的每一个对应，而且R、G、B的3色像素成为1个单元，构成1个像素。
而且，通过使排列为点·矩阵状的多个像素选择性地发光，从而在液晶显示板602的第2显示板607b的外侧显示所谓的文字、数字等像。这样，显示像的区域为有效像素区域，由箭头D表示的平面矩形区域成为有效显示区域。
反射膜612由APC合金、Al(铝)等光反射性材料形成，在与作为第1电极614a及第2电极614b的交点的各像素对应的位置上形成有开口621。而且，开口621从箭头C方向看，与像素相同，配列为点·矩阵状。
第1电极614a及第2电极614b，例如由作为透明导电材料的ITO形成。另外，取向膜616a、616b通过将聚酰亚胺系树脂附着为一样厚度的膜状而形成。这些取向膜616a及616b由拉伸方向决定第1显示板607a及第2显示板607b上的液晶分子的初始取向。因此，在本实施方式中，并不是如图6所示地同时向二维方向拉伸，而是优选如图7所示只向单方向拉伸或分为2个阶段拉伸。根据该构成，可以准确地使液晶分子取向。
第1显示板607a形成为比第2显示板607b还宽的面积，在利用密封材料608粘贴这些基板时，第1显示板607a具有向第2显示板607b的外侧突出的基板突出部607c。而且，在该基板突出部607c上以适当的图案形成各种配线，即形成为从第1电极614a延伸出的引出配线614c；通过存在于密封材料608内部的导通材料609，与第2显示板607b上的第2电极614b导通的引出配线614d；液晶驱动用IC603a的输入用突起(bump)即与输入用端子连接的配线614e；及与液晶驱动用IC603b的输入用突起连接的配线614f等。而且，引出配线614c、配线614e、配线614f是通过使金属微粒分散在导电性聚合物中而成的，由此可以确保导电率，且可以防止拉伸所导致的断线。
液晶驱动用IC603a及液晶驱动用IC603b是通过ACF(AnisotropicConductive Film各向异性导电膜)622，与基板突出部607c的表面粘接而安装的。即，利用ACF622内部所含的导电粒子导电连接液晶驱动用IC603a及603b的输入侧突起与配线614e及614f，导电连接液晶驱动用IC603a及603b的输出侧突起与引出配线614c及614d。
FPC604具有伸缩性的树脂薄膜623、包含芯片零件624而构成的电路626和配线端子627(参照图23)。电路626是利用焊接以外的导电连接方法直接装载在树脂薄膜623的表面上的。FPC604中的形成了配线端子627的部分通过ACF622与第1显示板607a中的形成了配线614e及配线614f的部分连接。而且，利用ACF622内部所含的导电粒子的作用，基板侧的配线614e及614f与FPC侧的配线端子627导通。
在FPC604的相反侧的边缘部上形成外部连接端子631，该外部连接端子631与图中未示出的外部电路连接。而且，根据从该外部电路传送来的信号，驱动液晶驱动用IC603a及603b，向第1电极614a及第2电极614b的一方供给扫描信号，向另一方供给数据信号。由此，在有效显示区域V内排列为点·矩阵状的像素的每个均被电压控制，结果液晶L的取向也在每个像素内被控制。
照明装置626作为背光装置动作，具有：由丙稀树脂等构成的导光体632；设于该导光体632的光出射面632b上的扩散板633；设于导光体632的光出射面632b的相反面上的反射板634；和作为发光源的LED(LightEmitting Diode)636。
LED636由LED基板637支撑，该LED基板637，例如安装在与导光体632一体形成的支撑部(图示省略)上。通过将LED基板637安装在支撑部的所定位置上，从而将LED636置于与作为导光体632的侧边端面的光入射面632a相对的位置上。而且，标号638表示用来缓冲施加在液晶显示板602上的冲击的缓冲材料。
若LED636发光，则该光从光入射面632a入射，被导入导光体632的内部，一边由反射板634或导光体632的壁面反射，一边在传播期间，通过扩散板633，作为平面光从光出射面632b向外部射出。
本实施方式的液晶显示装置600，根据以上构成，在太阳光、室内光等外部光非常明亮的情况下，外部光从第2显示板607b侧入射到液晶显示板602的内部，该光通过液晶L后由反射膜612反射，再次向液晶L供给。由此，进行反射型的显示。另一方面，在外部光的光量不能充分得到时，LED636发光，平面光从导光体632的光出射面632b出射，该光通过反射膜612上形成的开口621，向液晶L供给。由此，进行透过型的显示。
如上所述，由于在液晶显示装置600中，第1显示板607a及第2显示板607b也由不可逆性的拉伸性材料(紫外线固化树脂)构成，这些的基板611a、611b上形成的元件层641a、641b均由伸缩性材料构成，且分别具有相对于基板611a、611b的粘接性，故在第1显示板607a及第2显示板607b形成后，通过粘贴这些构件并使其拉伸，从而可以制造尺寸比最初的基板611a、611b还大的液晶显示板602。因此，即使在制造大的液晶显示板602(液晶显示装置600)的情况下，也不会大型化制造线，可以防止伴随其的成本上升。
另外，粘贴切出各芯片后的第1显示板607a与第2显示板607b，注入液晶后，通过拉伸显示装置600，从而可以使液晶分子取向。因此，在第1显示板607a及第2显示板607b形成时，不必在各取向膜616a及616b形成后进行个别的取向处理，而可以使其一起取向。
而且，可以利用喷墨方式形成第1电极614a、第2电极614b、引出配线614c、配线614e、614f等。即，可以将所定的功能液体分别导入功能液滴喷头H内，从功能液滴喷头H中喷出这些液体，从而分别形成第1电极614a等(包含干燥工序)。
接着，对本发明的第3实施方式进行说明。在上述实施方式中，虽然对在尺寸比目的大小还小的基板501、611a、611b(以下只表示参照号码501)上形成元件层20、641a、641b(以下只表示参照号码20)的情况进行了说明，但在本实施方式中，对在尺寸比目的大小还大的基板501上形成元件层20的情况，即通过收缩而制造尺寸比原来的基板501还小的显示装置10、600(以下只表示参照号码10)的情况进行说明。而且，本实施方式可以适用于有机EL显示装置10及液晶显示装置600的任一种。
这种情况下，基板501由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料或通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成。
另外，形成于该基板501上的元件层20与上述实施方式同样，由伸缩性材料构成，且具有相对于基板501的足够的粘接性。
因此，在元件层20形成后通过使基板501收缩，可以制造尺寸比最初的基板501还小的显示装置10。
图25虽然示出了显示装置10的收缩状态，但如该图所示，以相同的缩小比例尺向二维方向(X轴方向及Y轴方向)收缩。而且，可以构成为只向一维方向收缩，也可以构成为分2个阶段向二维方向收缩。这样，在元件层20形成后通过使基板501收缩，从而在元件层20形成时，即使不将制造装置(功能液滴喷出装置1)的精度提高，也可以容易地制造优良质量的显示装置10。即，在利用喷墨方式形成元件层20中的构成要素(例如光功能层510等)时，虽然需要向微小的像素区域内精度优良地喷出所定量(所定次数)的功能液体，但根据本实施方式，由于可以在像素区域宽的状态下喷出功能液体，故可以掩饰该部分的喷出位置(喷出精度)的误差。
接着，说明本发明的第4实施方式。在第3实施方式中，虽然说明了通过收缩而制造尺寸比原来的基板501还小的显示装置的情况，但在本实施方式中，是由能自己收缩的弹性材料(聚氨酯橡胶、硅橡胶等橡胶膜)构成基板501，在暂时由拉伸机构(能向X轴方向与/或Y轴方向拉伸，参照图4的拉伸装置)使基板501拉伸的状态下固定基板(前拉伸工序)，从而形成元件层20的。而且，元件层20形成后，解除拉伸机构，使基板501恢复到原来的大小。而且，本实施方式可以适用于有机EL显示装置10及液晶显示装置600的任一种。另外，在本实施方式中，构成元件层20的构成要素也均由伸缩性材料构成，且该元件层20具有相对于基板501的粘接性。
这种情况下，拉伸机构可以使用将图4所示的拉伸装置组装到图3所示的功能液滴喷出装置中的机构，例如，在有机EL显示装置10中，用压板(clip)等将母板W或基板501的上部及下部或者周围固定在固定台21上。而且，在母板W或基板501不动的状态下，形成元件层20，再于其上形成由紫外线固化树脂构成的密封层30后，解除拉伸机构并使其收缩。再有，最后通过照射紫外线，从而使密封层30固化。
而且，在用喷墨方式形成元件层20的情况下，优选在拉伸了基板501的状态下进行功能液体的干燥，之后使其收缩。根据该构成，可以更早地使功能液体干燥，可以防止干燥不均。
这样，根据本实施方式，由于基板501及元件层20均由伸缩性材料构成，形成于该基板501上的元件层20具有相对于基板501的粘接性，故在元件层20形成后通过使基板501收缩，从而可以制造尺寸比最初的基板501还小的显示装置10。因此，例如在利用喷墨方式形成元件层20时，由于可以在像素区域宽的状态下喷出功能液体，故不提高制造装置的精度即可制造优良质量的显示装置10。另外，由于由能自己收缩的弹性材料构成基板501，故不必进行使基板501材料发生化学变化等的处理，可以容易地使基板501收缩。
而且，在本实施方式中，虽然由能自己收缩的弹性材料构成基板501，但可以取代其，由能通过热能或光能收缩且通过这些能量发挥不可逆性的伸缩性材料构成基板501。根据该构成，最终通过提供热能或光能，从而可以使其收缩，同时最终可以得到稳定状态的显示装置10。尤其，在由与密封层30同样、能收缩的紫外线固化树脂构成了基板501的情况下，由于最终通过照射紫外线，而可以使基板501及密封层30双方同时固化，故处理是容易的。另外，可以由通过热能(加热)收缩及固化的热固化树脂构成基板501及密封层30。这种情况下也由于可以使基板501及密封层30双方同时固化，故处理是容易的。
另外，这种情况下，作为通过热能发挥不可逆性的伸缩性材料，优选使用热收缩薄膜等。这时，伸缩性材料优选在比较低的温度下收缩，且收缩率高，收缩或温度导致的强度下降小的材料。根据该构成，可以制造进一步制造简单且稳定的显示装置10。
再有，在本实施方式中，并不只是使用图4及图5所示的能拉伸整个基板501的拉伸装置60(拉伸机构)，也可以使用能部分拉伸基板501的拉伸机构。这种情况下，例如可以不拉伸有源元件部分，只拉伸配线部分，根据该拉伸(根据按照场所的变形率)，用功能液滴喷出装置1涂敷与配线部分对应的功能液体。
还有，这种情况下，优选使用如图26所示的拉伸机构。即，将基板501的端部分别卡定并缠绕在具有1处夹紧沟槽702a、702b的辊701a、701b上，通过向箭头方向拉辊701a、701b，从而使拉伸对象区域拉伸。而且，通过从功能液滴喷头H向作为拉伸对象区域的平坦部喷出功能液体，而涂敷配线等。再有，在这种情况下，在由基板501的卡定及缠绕而在拉伸对象区域上产生凹凸时，优选考虑该凹凸，控制从功能液滴喷头H的功能液体喷出时间。根据该构成，由于可以部分地拉伸基板501，故不需提高功能液滴喷出装置1的精度即可得到质量优良的显示装置10，同时可以达到装置的小型化的目的。
以上，如第1实施方式～第4实施方式中所说明的，根据本发明的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法，通过使构成显示装置10的构成要素均为能拉伸的材质，从而可以在尺寸比目的大小还小的基板501上形成元件层20(电极、空穴注入/输送层510a及发光层510b)(第1实施方式及第2实施方式)。而且，根据该构成，可以防止制造线的大型化及伴随其的成本上升。
另外，在这种情况下，由于与电极连接的各种配线采用使金属微粒分散到导电性聚合物中的材料，故在确保导电率的同时可以防止拉伸所导致的断线。
一方面，通过使构成显示装置10的构成要素均为能收缩的材质，从而也可以在尺寸比目的大小还大的基板501上形成这些(第3实施方式及第4实施方式)。而且，根据该构成，例如在利用喷墨方式形成元件层20时，由于不需提高制造装置的精度即可使喷出位置精度(喷射精度)提高，故可以制造质量高的显示装置10。
再有，这种情况下，在使利用喷墨方式喷出的功能液体干燥时，通过使基板501为拉伸状态(干燥后收缩)，从而可以使功能液体更早地干燥，可以防止干燥不均。
而且，在上述显示装置(有机EL显示装置10、液晶显示装置600)为有源显示板的情况下，虽然用喷墨方式形成有源元件，但也可以将用光刻法等形成的有源元件进行粘贴(mount安装)。关于有源元件的粘贴方法，在特开2001-51296号公报等中已有揭示。
此时，例如在每个像素的有源元件分离着的情况下，可以在基板501的拉伸处理或收缩处理之前进行粘贴。另外，即使在集结有多个像素的有源元件时，例如集结有4个像素的有源元件时，若在间隔开这4个像素的间隔线的交点上配置有源元件，则由于粘贴后的有源元件不妨碍拉伸或收缩，故可以在拉伸处理或收缩处理前粘贴。
然而，这种情况下，有源元件优选由伸缩性材料(有机薄膜晶体管)构成，且用具有伸缩性的导电性材料配线。再有，为了使与基板501的粘接性提高，优选用伸缩性的粘接剂将有源元件粘接在基板501上。而且，当然也可以在基板501的拉伸处理或收缩处理之后进行粘贴。根据该构成，由于不需考虑有源元件的伸缩性，故可以采用目前利用的有源元件。
还有，在上述的示例中，也可以利用光刻法等形成由喷墨方式形成的构成要素(例如，有机EL显示装置10的光功能层510等)。即，若各构成要素可以采用具有伸缩性的材料，则其形成方法可以是任意方法。
另外，在第1及第2实施方式中，虽然通过拉伸基板501而制造了目的大小的显示装置10，但在这种情况下，若拉伸率高，则有在无机薄膜(由ITO构成的像素电极511、阴极503的钙层、气体阻挡用的薄膜等)中产生龟裂的可能性。因此，在有这种不良现象产生的可能性的情况下，优选在涂敷无机薄膜前使其拉伸，或在利用由伸缩性材料构成的薄膜拉伸的状态下成膜，再次收缩后将其蒸镀。此外，也可以将这些无机薄膜置换为有机薄膜。根据该构成，不会产生上述的不良现象。
再有，本发明并未限于上述的有机EL显示装置10或液晶显示装置600，能适用于PDP(Plasma Display Panel)装置及电泳显示装置、FED(FieldEmission Display)装置等各种显示装置的制造方法。
如上所述，根据本发明的显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法，由于通过使构成显示装置的构成要素均为能拉伸或收缩的材质，从而可以在尺寸比目的大小还小的基板上形成元件层20(电极、空穴注入/输送层及发光层)，或与此相反，在尺寸比目的大小还大的基板上形成这些，故不会使质量下降，达到可以防止制造线的大型化及伴随其的成本上升等的效果。

Claims (21)

1.一种显示装置，在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层，其特征在于，
上述基板由不可逆性的拉伸性材料构成，
上述元件层由伸缩性材料构成，且具有相对上述基板的粘接性。
2.一种显示装置，在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层，其特征在于，
上述基板由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料，或通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成，
上述元件层由伸缩性材料构成，且具有相对上述基板的粘接性。
3.一种显示装置，在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层，其特征在于，
上述基板及上述元件层都由伸缩性材料构成，
上述元件层具有相对上述基板的粘接性。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，上述基板由能自己收缩的弹性材料构成。
5.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，上述基板由通过热能或光能发挥不可逆性的伸缩性材料构成。
6.根据权利要求1～5中的任一项所述的显示装置，其特征在于，与上述电极连接的配线是使金属微粒分散到导电性聚合物中而成的。
7.一种电子机器，其特征在于，具备：
权利要求1～6中的任一项所述的显示装置；和
驱动控制该显示装置的驱动控制机构。
8.一种显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，上述基板由不可逆性的拉伸性材料构成，上述元件层由伸缩性材料构成且具有相对上述基板的粘接性，其特征在于，具备：
在上述基板上形成上述元件层的元件层形成工序；和
形成上述元件层后，拉伸上述基板，以使上述显示装置成为目的大小的拉伸工序。
9.根据权利要求8中所述的显示装置的制造方法，其特征在于，上述拉伸工序是利用拉伸机构，同时向二维方向拉伸上述基板，而该拉伸机构由向X轴方向拉伸上述基板的X轴拉伸机构和向Y轴方向拉伸上述基板的Y轴拉伸机构构成，且该X轴拉伸机构与该Y轴拉伸机构互相连接的。
10.根据权利要求8或9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
上述显示装置为液晶显示装置，在上述元件层形成工序之后还具备向上述元件层间注入液晶的液晶注入工序，
在上述拉伸工序中，在上述液晶注入工序之后拉伸上述基板。
11.根据权利要求8、9或10所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还具备：
在上述收缩工序前形成由利用热能固化的热固化性材料或利用光能固化的光固化性材料构成，且密封上述基板的密封层的密封层形成工序；和
上述拉伸工序后使上述密封层固化的密封层固化工序。
12.一种显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，上述基板由通过热能发挥收缩性的热收缩性材料构成，上述元件层由伸缩性材料构成且具有相对上述基板的粘接性，其特征在于，具备：
在上述基板上形成上述元件层的元件层形成工序；和
形成上述元件层之后，通过上述热能收缩上述基板的收缩工序。
13.一种显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，上述基板由通过光能发挥收缩性的光收缩性材料构成，上述元件层由伸缩性材料构成且具有相对上述基板的粘接性，其特征在于，具备：
在上述基板上形成上述元件层的元件层形成工序；和
形成上述元件层之后，通过上述光能收缩上述基板的收缩工序。
14.一种显示装置的制造方法，该显示装置是在基板上形成了具有电极及光功能层的元件层的装置，上述基板及上述元件层均由伸缩性材料构成，且上述元件层具有相对上述基板的粘接性，其特征在于，具备：
在上述元件层的形成前拉伸上述基板的前拉伸工序；
拉伸过上述基板后，在上述基板上形成上述元件层的元件层形成工序；和
形成了上述元件层后，收缩上述基板以使上述显示装置达到目的大小的收缩工序。
15.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
上述基板由能自己收缩的弹性材料构成，
在上述前拉伸工序中，以通过沿X轴方向与/或Y轴方向拉伸的拉伸机构使其拉伸的状态固定上述基板，
在上述收缩工序中撤除上述拉伸机构。
16.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
上述基板由通过热能发挥不可逆性的伸缩性材料构成，
在上述收缩工序中，在收缩上述基板的同时，向上述基板提供上述热能。
17.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还具备在上述收缩工序后通过热能使上述基板固化的热固化工序。
18.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还具备在上述收缩工序后通过光能使上述基板固化的光固化工序。
19.根据权利要求12～18中的任一项所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还具备：
在上述收缩工序前形成由通过热能固化的热固化性材料或通过光能固化的光固化性材料构成，且密封上述基板的密封层的密封层形成工序；和
上述拉伸工序后使上述密封层固化的密封层固化工序。
20.根据权利要求11或19所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
上述显示装置为有源显示板，具有由伸缩性材料构成的有源元件，
还具备在上述基板上形成上述有源元件的有源元件形成工序。
21.根据权利要求20所述的显示装置的制造方法，其特征在于，上述电极、上述光功能层、上述密封层及上述有源元件的任一种或2种以上，利用喷墨方式形成。
CNB2004100318275A 2003-04-01 2004-03-30 显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法 Expired - Fee Related CN100420065C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003-098436 2003-04-01
JP2003098436A JP4269748B2 (ja) 2003-04-01 2003-04-01 表示装置の製造方法
JP2003098436 2003-04-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1535087A true CN1535087A (zh) 2004-10-06
CN100420065C CN100420065C (zh) 2008-09-17

Family

ID=33307903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100318275A Expired - Fee Related CN100420065C (zh) 2003-04-01 2004-03-30 显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20040218127A1 (zh)
JP (1) JP4269748B2 (zh)
KR (1) KR20040088346A (zh)
CN (1) CN100420065C (zh)
TW (1) TWI277023B (zh)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105514117A (zh) * 2015-12-23 2016-04-20 昆山国显光电有限公司 柔性基板制作方法
CN106463081A (zh) * 2014-06-13 2017-02-22 巴科股份有限公司 用于瓦块式显示器的可调整显示器瓦块
CN108898953A (zh) * 2018-07-04 2018-11-27 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示面板的制备方法、柔性显示面板和显示装置
CN110268462A (zh) * 2019-05-10 2019-09-20 京东方科技集团股份有限公司 可拉伸显示设备和图像显示驱动方法
CN112017552A (zh) * 2019-05-29 2020-12-01 群创光电股份有限公司 电子装置
CN113096608A (zh) * 2019-12-19 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 一种电泳显示面板及其驱动方法、显示装置
CN113124273A (zh) * 2021-04-21 2021-07-16 京东方科技集团股份有限公司 显示屏拉伸装置及显示系统

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005013985A (ja) * 2003-05-30 2005-01-20 Seiko Epson Corp 膜パターン形成方法、デバイス及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器、アクティブマトリクス基板の製造方法、アクティブマトリクス基板
US7521292B2 (en) 2004-06-04 2009-04-21 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Stretchable form of single crystal silicon for high performance electronics on rubber substrates
JP2008502151A (ja) 2004-06-04 2008-01-24 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ 印刷可能半導体素子を製造して組み立てるための方法及びデバイス
JP4363319B2 (ja) * 2004-12-14 2009-11-11 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP2007027588A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Seiko Epson Corp 膜パターンの形成方法、デバイス、電気光学装置、及び電子機器
GB0516278D0 (en) * 2005-08-08 2005-09-14 Xaar Technology Ltd Device and method of forming a device
JP2007123240A (ja) * 2005-09-28 2007-05-17 Sony Corp 表示装置の製造方法および表示装置
KR100734058B1 (ko) * 2006-04-03 2007-07-02 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 이에 사용되는 편광판의 제조방법
US8785939B2 (en) 2006-07-17 2014-07-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Transparent and conductive nanostructure-film pixel electrode and method of making the same
WO2008010850A2 (en) * 2006-07-17 2008-01-24 Unidym Transparent and conductive nanostructure-film pixel electrode and method of making same
US20080224951A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Motorola, Inc. Visual interface with configurable viewing area for electronic device
US8253654B2 (en) * 2007-03-16 2012-08-28 Motorola Mobility Llc Visual interface control based on viewing display area configuration
US8049747B2 (en) * 2007-12-14 2011-11-01 Motorola Mobility, Inc. Light diffuser for a stretchable display
US20100097330A1 (en) * 2008-10-16 2010-04-22 Lee James Y Methods and apparatus for improving optical performance for touch screens and related devices
JP5529835B2 (ja) 2011-11-22 2014-06-25 富士フイルム株式会社 導電性パターン形成方法及び導電性パターン形成システム
US10749123B2 (en) 2014-03-27 2020-08-18 Universal Display Corporation Impact resistant OLED devices
US10910590B2 (en) * 2014-03-27 2021-02-02 Universal Display Corporation Hermetically sealed isolated OLED pixels
JP6434717B2 (ja) 2014-05-13 2018-12-05 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN105225628B (zh) * 2014-06-19 2017-10-24 元太科技工业股份有限公司 显示装置、显示模块及其像素结构
TWI548083B (zh) * 2014-06-19 2016-09-01 元太科技工業股份有限公司 顯示裝置、顯示模組及其畫素結構
KR102269134B1 (ko) * 2014-09-29 2021-06-25 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 유기 발광 표시 장치용 증착 마스크
JP6310379B2 (ja) * 2014-10-16 2018-04-11 株式会社フジクラ 基板の製造方法及び基板製造装置
US11751426B2 (en) 2016-10-18 2023-09-05 Universal Display Corporation Hybrid thin film permeation barrier and method of making the same
KR102656842B1 (ko) * 2016-10-24 2024-04-17 엘지디스플레이 주식회사 플렉서블 표시장치
KR102373443B1 (ko) * 2017-09-14 2022-03-14 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102554048B1 (ko) 2018-07-20 2023-07-10 엘지디스플레이 주식회사 스트레쳐블 표시 장치
KR102530672B1 (ko) 2018-07-20 2023-05-08 엘지디스플레이 주식회사 스트레쳐블 표시 장치
EP3608964B1 (en) 2018-08-08 2022-05-11 LG Display Co., Ltd. Stretchable display device
KR20200017336A (ko) * 2018-08-08 2020-02-18 엘지디스플레이 주식회사 스트레쳐블 표시 장치
KR102664207B1 (ko) 2018-10-08 2024-05-07 엘지디스플레이 주식회사 스트레쳐블 표시 장치 및 그 제조 방법
JP7436772B2 (ja) * 2018-12-27 2024-02-22 日亜化学工業株式会社 半導体装置の製造方法
JP7464837B2 (ja) 2020-07-01 2024-04-10 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法
CN114141153B (zh) * 2021-12-03 2024-02-23 合肥市艺蓝电子科技有限公司 一种锁屏可控的led显示屏组装装置及其远程锁屏系统

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0375686A (ja) * 1989-08-17 1991-03-29 Alps Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス素子
TW439308B (en) * 1998-12-16 2001-06-07 Battelle Memorial Institute Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making
JP4214660B2 (ja) * 2000-04-11 2009-01-28 ソニー株式会社 直視型表示装置
JP4686063B2 (ja) * 2001-07-02 2011-05-18 パイオニア株式会社 画像表示パネル

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106463081A (zh) * 2014-06-13 2017-02-22 巴科股份有限公司 用于瓦块式显示器的可调整显示器瓦块
CN106463081B (zh) * 2014-06-13 2019-07-23 巴科股份有限公司 用于瓦块式显示器的可调整显示器瓦块
CN105514117A (zh) * 2015-12-23 2016-04-20 昆山国显光电有限公司 柔性基板制作方法
CN105514117B (zh) * 2015-12-23 2019-04-05 昆山国显光电有限公司 柔性基板制作方法
CN108898953A (zh) * 2018-07-04 2018-11-27 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示面板的制备方法、柔性显示面板和显示装置
CN110268462A (zh) * 2019-05-10 2019-09-20 京东方科技集团股份有限公司 可拉伸显示设备和图像显示驱动方法
CN110268462B (zh) * 2019-05-10 2022-12-09 京东方科技集团股份有限公司 可拉伸显示设备和图像显示驱动方法
CN112017552A (zh) * 2019-05-29 2020-12-01 群创光电股份有限公司 电子装置
CN113096608A (zh) * 2019-12-19 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 一种电泳显示面板及其驱动方法、显示装置
CN113096608B (zh) * 2019-12-19 2022-08-19 京东方科技集团股份有限公司 一种电泳显示面板及其驱动方法、显示装置
CN113124273A (zh) * 2021-04-21 2021-07-16 京东方科技集团股份有限公司 显示屏拉伸装置及显示系统

Also Published As

Publication number Publication date
US20040218127A1 (en) 2004-11-04
JP4269748B2 (ja) 2009-05-27
CN100420065C (zh) 2008-09-17
KR20040088346A (ko) 2004-10-16
TW200424981A (en) 2004-11-16
TWI277023B (en) 2007-03-21
JP2004302392A (ja) 2004-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1535087A (zh) 显示装置、电子机器以及显示装置的制造方法
CN1264678C (zh) 滤色片、液晶装置、和el装置的制造方法及制造装置
CN1311281C (zh) 彩色滤光器、液晶装置、el装置的制造方法和制造装置
CN1365891A (zh) 材料的喷出装置和方法及滤色器等的制造装置和方法
CN1217794C (zh) 液滴喷出装置、电光装置的制造方法、电光装置及电子仪器
CN2695122Y (zh) 成膜装置、液滴吐出装置、具有滤色片的显示装置
CN1229655C (zh) 滤色膜层及电光学装置
CN1236362C (zh) 材料去除方法、基体材料再生方法及显示器件制造方法
CN1215939C (zh) 喷出图案数据生成方法和装置及应用其的诸装置和诸方法
CN1221389C (zh) 液滴喷出装置、电光装置的制造方法、电光装置和电子仪器
CN1422746A (zh) 喷出方法及其装置
CN1762708A (zh) 液滴喷出装置、电光学装置的制造方法、电光学装置及电子设备
CN1496824A (zh) 液滴喷出装置、电光装置及其制造方法、电子仪器
CN1658719A (zh) 电光学装置的制造方法、电光学装置及电子器械
CN1483576A (zh) 喷头盖及具备喷头盖的液滴喷出装置、电光装置制造方法
CN1266515C (zh) 膜形成方法、膜形成装置、液晶的配置方法、液晶的配置装置、液晶装置、液晶装置的制造方法、和电子设备
CN1755404A (zh) 头单元、液滴喷射装置、从基部制造面板的方法、图像显示装置和电子装置
CN1530227A (zh) 电光面板、电子仪器的制造方法及电光面板、电光装置和电子仪器
CN1565010A (zh) 布线结构、显示器件及主动元件基板
CN1695945A (zh) 液滴喷吐装置、电光学装置、电子设备以及液滴喷吐方法
CN1762705A (zh) 液滴喷出装置及其所适用的工件及电光学装置的制造方法
CN1575054A (zh) 薄膜图案的制造方法、有机场致发光元件的制造方法
CN1301192C (zh) 薄膜形成装置、电光学装置及电子仪器
CN1216311C (zh) 液晶显示用基板、液晶器件、电子装置及它们的制造方法
CN1816254A (zh) 膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080917

Termination date: 20120330