CN118556098A - 膜、眼镜片、组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供雾度低、与底涂层的密合性也优良的膜。本发明的膜是包含核壳粒子的膜，所述核壳粒子具有核部、包覆核部的第一壳部和包覆第一壳部的第二壳部，其中，核部包含无机氧化物粒子或倍半硅氧烷，第一壳部包含高分子链A，该高分子链A包含选自由丙烯酸酯类高分子链和甲基丙烯酸酯类高分子链组成的组中的一种以上，第二壳部包含使具有氧杂环丁基的化合物的氧杂环丁基进行阳离子聚合而得到的高分子链B。

Description

膜、眼镜片、组合物
技术领域
本公开涉及膜、眼镜片和组合物。
背景技术
在专利文献1中公开了一种硬涂层，其通过使包含无机氧化物粒子和有机系硅化合物等的组合物固化而形成。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2015/163465号
发明内容
本公开涉及一种膜，其是包含核壳粒子的膜，所述核壳粒子具有核部、包覆核部的第一壳部和包覆第一壳部的第二壳部，其中，核部包含无机氧化物粒子或倍半硅氧烷，第一壳部包含高分子链A，该高分子链A包含选自由丙烯酸酯类高分子链和甲基丙烯酸酯类高分子链组成的组中的一种以上，第二壳部包含使具有氧杂环丁基的化合物的氧杂环丁基进行阳离子聚合而得到的高分子链B。
附图说明
图1是示出核壳粒子的推定的截面结构的一例。
图2是示出眼镜片的截面的一例。
具体实施方式
以下，对本公开的膜进行详细说明。
本公开的膜例如优选用作眼镜片的硬涂层。
对于眼镜片的硬涂层，要求雾度低、与底涂层的密合性也优良。本公开的膜能够用作具有上述特性的硬涂层。
在本说明书中，“～”以包含其前后记载的数值作为下限值和上限值的含义使用。
在本说明书中，作为卤素原子，例如可以列举氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。
在本说明书中，作为卤化，例如可以列举氟化、氯化、溴化和碘化。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸和甲基丙烯酸两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”是包含丙烯酰基和甲基丙烯酰基两者的概念。
在本说明书中，固体成分为溶剂以外的成分，即使其成分的性状在常温常压(25℃、101.3kPa)下为液态，也作为固体成分计算。另外，固体成分可以是在固化处理的过程中发生化学变化的成分。
但是，在后述的组合物、活性聚合用混合物和阳离子聚合用混合物包含选自由常温常压下为液态的表面活性剂、常温常压下为液态的活性聚合催化剂和常温常压下为液态的助催化剂组成的组中的特定化合物的情况下，后述的组合物、活性聚合用混合物和阳离子聚合用混合物的固体成分中不包含上述特定化合物的量。例如，在由核壳粒子、常温常压下为液态的表面活性剂和溶剂构成的组合物中，仅核壳粒子的量相当于组合物的固体成分。
以下，对膜中所含的各种成分进行详细说明。
[膜]
＜核壳粒子＞
膜包含核壳粒子。
核壳粒子具有核部、第一壳部和第二壳部。
图1是核壳粒子的推定的截面结构的一例。
核壳粒子100为具有核壳结构的粒子，具有核部102、包覆核部的第一壳部104和包覆第一壳部的第二壳部106。需要说明的是，在图1中，各部的厚度的大小关系不限于图1所示的关系，可以适当调整。另外，在图1中，核部的整个表面被第一壳部包覆，第一壳部的整个表面被第二壳部包覆，但也可以是核部的一部分表面被第一壳部包覆，第一壳部的一部分表面被第二壳部包覆。
(核部)
核壳粒子具有核部。
核部包含无机氧化物粒子或倍半硅氧烷(以下，也称为“无机氧化物粒子等”)。
后述的倍半硅氧烷不包含在无机氧化物粒子中。
另外，如后所述，有时无机氧化物粒子等具有官能团和/或起始位点，在这些官能团和起始位点构成高分子链A的一部分的情况下，这些官能团和起始位点分类为第一壳部。即，核部可以实质上只由金属和金属氧化物构成。具体而言，金属和金属氧化物的含量相对于核部的总质量可以为90～100质量%，更优选为99～100质量%。
·无机氧化物粒子
作为无机氧化物粒子，优选金属氧化物粒子。
作为无机氧化物粒子，例如可以列举选自由Ti、Zr、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W和In组成的组中的一种以上金属的氧化物粒子、以及它们的复合氧化物粒子。复合氧化物粒子是包含两种以上金属(金属原子)的氧化物粒子。
无机氧化物粒子可以包含选自由SiO2(二氧化硅)、Al2O3(氧化铝)、SnO2(氧化锡)、ZrO2(氧化锆)和TiO2(氧化钛)组成的组中的一种以上，更优选包含选自由SiO2和ZrO2组成的组中的一种以上，进一步优选包含SiO2。
无机氧化物粒子可以使用市售品。作为市售品的无机氧化物粒子，例如可以列举选自由SiO2、Al2O3、SnO2、ZrO2、TiO2和它们的复合氧化物粒子组成的组中的一种以上无机氧化物粒子分散在水或有机溶剂中的溶胶。
无机氧化物粒子可以进行了表面处理。
作为表面处理，例如可以列举各种官能团的导入以及使用公知的表面修饰剂的处理。
作为进行了表面处理的无机氧化物粒子，例如可以列举后述在表面具有起始位点的无机氧化物粒子。
无机氧化物粒子的平均粒径可以为0.5～70nm，更优选为1～50nm。
作为测定上述平均粒径的方法，例如可以列举使用扫描电子显微镜测定任意100个无机氧化物粒子的各粒径并进行其算术平均的方法和使用动态光散射法在下述条件下进行测定的方法。
测定装置：Zeta电位·粒径测定系统ELS-Z2(大塚电子公司制造)
测定池：粒径池单元(散射角度165°)
测定温度：25℃
粒径分析法：Contin法
测定时，将测定对象的无机氧化物粒子或包含测定对象的无机氧化物粒子的分散液根据需要用稀释溶剂稀释。作为稀释溶剂，例如使用MEK(甲基乙基酮)，在由于使用MEK而产生无机氧化物粒子的凝集等问题的情况下，使用其它适当的稀释溶剂。
另外，在本公开中，只要没有特别说明，平均粒径是指基于体积分布基准的平均粒径。
·倍半硅氧烷
倍半硅氧烷是指通过将烷氧基硅烷、氯硅烷和硅烷醇等三官能性硅烷化合物水解而得到的具有式(Q)所示的基本骨架的硅烷化合物。
作为倍半硅氧烷的结构，例如可以列举无规结构等不规则形态、梯形结构、笼型(完全缩合笼型)结构和不完全笼型结构(为笼型结构的部分开裂结构体，为笼型结构中缺少硅原子中的一部分的结构和笼型结构的一部分硅-氧键被切断的结构)。
RQ-SiO3/2 (Q)
式(Q)中，RQ表示一价有机基团。
作为倍半硅氧烷，例如可以列举SQ系列(例如，AC-SQ系列和MAC-SQ系列等，东亚合成公司制造)。
倍半硅氧烷的平均粒径可以为0.5～200nm，更优选为1～50nm。
上述平均粒径可以通过与无机氧化物粒子相同的方法来测定。
核部的含量相对于核壳粒子的总质量可以为10～90质量%，更优选为60～90质量%。另外，无机氧化物粒子的含量或倍半硅氧烷的含量相对于核壳粒子的总质量可以为上述优选范围。
(第一壳部)
核壳粒子具有包覆核部的第一壳部。
第一壳部包含高分子链A，包覆核部的一部分或全部。换言之，形成核部的无机氧化物粒子或倍半硅氧烷的表面的至少一部分被高分子链A修饰。
·高分子链A
第一壳部包含高分子链A。
高分子链A为包含选自由丙烯酸酯类高分子链和甲基丙烯酸酯类高分子链组成的组中的一种以上高分子链。
作为高分子链A包覆核部的形态，例如可以为共价键、配位键、离子键、氢键、范德华键和金属键等中的任一种形态，更优选为共价键。
丙烯酸酯类高分子链为具有来源于具有丙烯酰基的化合物X1的重复单元的高分子链，甲基丙烯酸酯类高分子链为具有来源于具有甲基丙烯酰基的化合物X2的重复单元的高分子链。
以下，也将化合物X1和化合物X2统称为“化合物X”。
化合物X可以是单官能的化合物X或多官能的化合物X，更优选为多官能的化合物X。
在使用多官能的化合物X的情况下，可以在形成的高分子链A中导入分支结构和/或网状结构(交联结构)，耐划伤性优良。
化合物X具有的(甲基)丙烯酰基的数量可以为1或2以上，更优选为2～5。
化合物X除了具有(甲基)丙烯酰基以外还可以具有其它官能团。作为其它官能团，例如可以列举羟基、以及乙烯基和苯乙烯基等烯键式不饱和基团。
作为化合物X，可以为式(X)所示的化合物。
式(X)中，RX表示氢原子或取代基。上述取代基可以为有机基团，更优选为甲基。两个以上存在的RX彼此可以相同，也可以不同。
k表示2以上的整数，可以为2～10的整数，更优选为2或3，进一步优选为3。
Z表示k价连接基团。其中，k为2时，Z可以为单键。
上述k价连接基团所具有的氢原子以外的原子的数量可以为1～500。
作为k价连接基团，例如可以列举醚基(-O-)、羰基(-CO-)、酯基(-COO-)、硫醚基(-S-)、氨基甲酸酯基(-NHCOO-)、-SO2-、-NRN-(RN表示氢原子或取代基)、亚烷基(优选碳原子数为1～10)、亚烯基(优选碳原子数为2～10)和亚炔基(优选碳原子数为2～10)等二价连接基团；具有以“-N＜”表示的基团的三价连接基团和具有以“-CH＜”表示的基团的三价连接基团；具有以“＞C＜”表示的基团的四价连接基团；具有芳香环基和脂环基等环基的k价连接基团(优选为k价环基)；将它们组合而成的基团。
构成具有上述环基的k价连接基团的环基可以具有杂原子。
作为上述芳香环基，例如可以列举苯环基、萘环基和从双酚A等双酚类化合物除去任意的氢原子而形成的环基等双酚环基。
作为上述脂环基，例如可以列举环己烷环基、环戊烷环基和三环癸烷环基等环烷烃环基、二烷环基和异氰脲酸酯环基，更优选为异氰脲酸酯环基。
上述亚烷基、上述亚烯基、上述亚炔基和上述环基可以根据需要进一步具有取代基。
Z为二价连接基团时，Z可以具有一个以上选自由亚烷基、(聚)氧亚烷基和氨基甲酸酯基组成的组中的基团。
另外，Z中的与k个存在的以“RX-C(=CH2)-CO-”表示的基团(式(A)中的括号内的基团)直接键合的原子可以为氧原子。
化合物X只要为具有(甲基)丙烯酰基的化合物就没有特别限制。
作为化合物X，例如可以列举三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、己内酯改性三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、丙烯酸2-羟基-3-甲基丙烯酸丙酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯。
高分子链A除了具有来源于化合物X的重复单元以外还可以具有其它重复单元。
在高分子链A包含来源于多官能的化合物X(优选为式(X)所表示的化合物)的重复单元的情况下，其含量相对于高分子链A的总质量可以为10～100质量%，更优选为50～100质量%。
第一壳部的含量相对于核壳粒子的总质量可以为5～80质量%，更优选为20～80质量%。
高分子链A的含量相对于第一壳部的总质量可以为30～100质量%，更优选为30～90质量%。
高分子链A可以为通过活性自由基聚合得到的高分子链。
作为活性自由基聚合，例如可以列举后述的工序1。
如果通过活性自由基聚合合成高分子链A，则能够使高分子链A的分子量分布变窄，在膜和组合物中核壳粒子能够均匀地分散，因此雾度更低，膜的硬度更优良。
(第二壳部)
核壳粒子具有包覆第一壳部的第二壳部。
第二壳部包含高分子链B，包覆第二壳部的一部分或全部。换言之，第一壳部的与核部侧相反一侧的表面的至少一部分被高分子链B修饰。
·高分子链B
第二壳部包含高分子链B。
高分子链B为使具有氧杂环丁基的化合物(以下，也称为“化合物Y”)的上述氧杂环丁基进行阳离子聚合而得到的高分子链B。
化合物Y通过阳离子聚合引发剂等生成来源于化合物Y所具有的氧杂环丁基的氧阳离子，通过该氧阳离子使化合物Y彼此阳离子聚合，得到高分子链B。即，高分子链B具有通过化合物Y所具有的氧杂环丁基开环而生成的聚醚结构。需要说明的是，如后所述，在使用具有阳离子聚合性基团的第一壳粒子的情况下，上述阳离子聚合性基团可以参与上述阳离子聚合。
作为高分子链B包覆第一壳部的形态，例如可以为共价键、配位键、离子键、氢键、范德华键和金属键等中的任一种形态，更优选为共价键。
··化合物Y
化合物Y为具有氧杂环丁基的化合物，通过使化合物Y进行阳离子聚合能够合成高分子链B。
高分子链B可以具有化合物Y所具有的氧杂环丁基发生阳离子聚合而形成的重复单元。
化合物Y可以为单官能的化合物Y或多官能的化合物Y，更优选为多官能的化合物Y。
在使用多官能的化合物Y的情况下，能够在形成的高分子链B中导入分支结构和/或网状结构(交联结构)，耐划伤性优良。
化合物Y具有的氧杂环丁基的数量可以为1或2以上，更优选为2～5，进一步优选为2或3。
化合物Y可以具有氧杂环丁基以外的其它官能团。作为上述其它官能团，例如可以列举羟基、以及(甲基)丙烯酰基、乙烯基和苯乙烯基等烯键式不饱和基团。
化合物Y可以为式(Y)所表示的化合物。
式(Y)中，RY表示氢原子或烷基。LY表示nY价连接基团。nY表示2以上的整数。其中，nY为2时，LY可以为单键。两个以上存在的RY彼此可以相同，也可以不同。
RY表示氢原子或烷基。
上述烷基可以为直链状、支链状和环状中的任一种。
上述烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～5，进一步优选为1～3。
作为上述烷基，例如可以列举甲基、乙基、丙基和丁基，更优选为乙基。
LY表示nY价连接基团。
作为上述nY价连接基团，例如可以列举k价连接基团，可以为-O-、亚烷基、芳香环基和将它们组合而成的基团。
作为上述将它们组合而成的基团，例如可以列举-亚烷基-O-亚烷基-。
nY表示2以上的整数。其中，nY为2时，LY可以为单键。
nY可以为2～5的整数，更优选为2或3。
作为化合物Y，例如可以列举亚二甲苯基双氧杂环丁烷、后述的化合物S和3-乙基-3{[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧杂环丁烷。
化合物S中的LS表示苯环或亚烷基。上述苯环可以具有选自由烷基、氨基和羟基组成的组中的至少一个。上述亚烷基可以具有选自由氨基和羟基组成的组中的至少一个。上述烷基和上述亚烷基的碳原子数优选为1～3。
高分子链B除了具有化合物Y所具有的氧杂环丁基发生阳离子聚合而形成的重复单元以外还可以具有其它重复单元。
作为其它重复单元，例如可以列举高分子链A可具有的重复单元。
化合物Y(优选为式(Y)所表示的化合物)所具有的氧杂环丁基发生阳离子聚合而形成的重复单元的含量相对于高分子链B的总质量可以为50～100质量%，更优选为80～100质量%。
＜其它成分＞
膜除了包含核壳粒子以外还可以包含其它成分。
作为其它成分，例如可以列举核壳粒子以外的粒子；后述的组合物中所含的各种成分、其反应物及其分解物；高分子化合物。
作为高分子化合物，例如可以列举将化合物X和/或化合物Y进行聚合而得到的高分子化合物、以及包含高分子链A和/或高分子链B的高分子化合物。
＜核壳粒子的制造方法＞
作为核壳粒子的制造方法，例如可以通过公知的方法来制造。
具体而言，可以列举如下所述的核壳粒子的制造方法，其是具有核部、包覆核部的第一壳部和包覆第一壳部的第二壳部的核壳粒子的制造方法，其中，该制造方法依次包括：
使在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等与化合物X反应而形成第一壳部的工序1；和
使具有氧杂环丁基的化合物(化合物Y)的氧杂环丁基进行阳离子聚合而形成包覆第一壳部的第二壳部的工序2。
(工序1)
工序1例如为使无机氧化物粒子等所具有的起始位点与化合物X反应而合成高分子链A从而用包含高分子链A的第一壳部包覆核部的工序。
在工序1中，例如可以为使无机氧化物粒子等所具有的起始位点与化合物X进行活性聚合而合成高分子链A从而用高分子链A包覆核部的工序。
在工序1中，可以为使后述的活性聚合用混合物反应的工序。
活性聚合可以为活性自由基聚合，活性自由基聚合可以为原子转移自由基聚合。
活性聚合用混合物可以包含在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等、化合物X和活性聚合催化剂。
以下，作为工序1的一个方式，对使上述活性聚合用混合物反应的工序1进行详细说明。
·在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等
上述在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等是指在表面上具有成为活性自由基聚合的起点的基团的无机氧化物粒子等。
对于无机氧化物粒子等，如上所述。
作为上述起始位点，例如可以列举卤化有机基团。
起始位点例如可以为具有式(S1)所表示的基团的位点，更优选为式(S2)所表示的基团。
式(S1)中，表示键合位置。X表示卤素原子。
RS1和RS2各自独立地表示氢原子或取代基。
上述取代基可以为有机基团，更优选为烃基。上述取代基的碳原子数优选为1～20。
LS1表示二价连接基团。
作为上述二价连接基团，例如可以列举醚基、羰基、酯基、硫醚基、-SO2-、-NRN-(RN表示氢原子或取代基)、亚烷基(优选碳原子数为1～10)、亚烯基(优选碳原子数为2～10)、亚炔基(优选碳原子数为2～10)、芳香环基(例如，苯环基等)、脂环基和将它们组合而成的基团。
上述亚烷基、上述亚烯基、上述亚炔基、上述芳香环基和上述脂环基可以根据需要进一步具有取代基(例如，羟基等)。
式(S2)中，表示键合位置。X表示卤素原子。
RS1和RS2各自独立地表示氢原子或取代基。
上述取代基可以为有机基团，更优选为烃基。上述取代基的碳原子数可以为1～20。
LS2表示可以具有取代基的亚烷基。
上述亚烷基可以为直链状，也可以为支链状，碳原子数可以为1～12。
作为上述亚烷基可以具有的取代基，例如可以列举羟基。
作为在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等的制造方法，例如可以列举使在无机氧化物粒子等的表面固定有具有烯键式不饱和基团(例如，(甲基)丙烯酰基等)的基团的无机氧化物粒子等在三氯化铝的存在下与表卤代醇(例如，表氯醇等)反应的方法。
这种情况下，相对于在表面固定有具有烯键式不饱和基团的基团的无机氧化物粒子等、三氯化铝和表卤代醇的合计含量，在表面固定有具有烯键式不饱和基团的基团的无机氧化物粒子等的含量可以为70～99.9质量%，更优选为90～99质量%。
相对于上述合计含量，三氯化铝的含量可以为0.01～5质量%，更优选为0.05～1质量%。
相对于上述合计含量，表卤代醇的含量可以为0.05～30质量%，更优选为0.5～10质量%。
进行用于使用包含在表面固定有具有烯键式不饱和基团的基团的无机氧化物粒子等、三氯化铝和表卤代醇的组合物来制造在表面具有起始位点的无机氧化物粒子的反应后，可以将进行了上述反应的上述组合物直接用于制备活性聚合用混合物。
上述在表面固定有具有烯键式不饱和基团的基团的无机氧化物粒子等例如可以通过使无机氧化物粒子等与具有烯键式不饱和基团(例如，(甲基)丙烯酰基等)的硅烷偶联剂反应等来制作，也可以使用市售品。
在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等可以单独使用一种或使用两种以上。
在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等的含量相对于活性聚合用混合物的全部固体成分可以为20～99.5质量%，更优选为30～96质量%。
·化合物X
作为化合物X，例如可以列举第一壳部和高分子链A中所述的化合物X，优选方式也相同。
化合物X可以单独使用一种或使用两种以上。
化合物X的含量相对于活性聚合用混合物的全部固体成分可以为0.1～60质量%，更优选为0.2～50质量%。
化合物X的含量相对于在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等的总质量可以为0.01～110质量%，更优选为0.05～40质量%。
·活性聚合催化剂
作为活性聚合催化剂，例如可以列举过渡金属和过渡金属化合物。
作为上述过渡金属和过渡金属化合物中的过渡金属，例如可以列举铜、铁、钴、铬、锰、钼、银、锌、钯、铑、铂、钌、铱、镱、钐、铼和镍，也可以为铜、铁或钌。
上述过渡金属化合物可以为由上述过渡金属和配体构成的过渡金属络合物。
活性聚合催化剂可以为铁化合物(例如，二茂铁类等)。
上述铁化合物可以为式(F1)所表示的化合物或式(F2)所表示的化合物。
CP1-Fe-CP2 (F1)
CP1-Fe-(RQ)3 (F2)
式(F1)中，CP1和CP2各自独立地表示可以具有取代基的环戊二烯基环。
上述环戊二烯基环具有的取代基的数量可以为0～5，更优选为1。
上述环戊二烯基环可以具有的取代基可以为-P(RP)2。
上述“-P(RP)2”的P为磷原子，两个RP各自独立地表示氢原子或取代基。上述取代基可以为有机基团，更优选为烷基或苯基。上述烷基可以为直链状，也可以为支链状，碳原子数可以为1～3。
式(F2)中，CP1表示可以具有取代基的环戊二烯基环。式(F2)中的CP1与式(F1)中的CP1同样。
式(F2)中，3个RQ各自独立地表示-CO、卤素原子或-PPh3。
上述“-PPh3”的P为磷原子，Ph为可以具有取代基的苯基。上述苯基可以具有的取代基可以为烷基。上述烷基可以为直链状，也可以为支链状，碳原子数可以为1～3。
上述苯基具有的取代基的数量可以为0～5。
活性聚合催化剂可以为铜或铜化合物。
作为上述铜化合物，例如可以列举氯化亚铜、溴化亚铜、碘化亚铜、氰化亚铜、氧化亚铜和高氯酸亚铜。
活性聚合催化剂可以单独使用一种或使用两种以上。
活性聚合催化剂的含量相对于活性聚合用混合物的全部固体成分可以为0.0001～1质量%，更优选为0.005～0.1质量%。
·溶剂
活性聚合用混合物还可以包含溶剂。
作为溶剂，例如可以列举乙酸乙酯、甲苯、丙酮、二甲基甲酰胺、酮类、醇类和水。
溶剂可以单独使用一种或使用两种以上。
活性聚合用混合物包含在表面具有起始位点的无机氧化物粒子等，在活性聚合用混合物包含溶剂的情况下，溶剂的含量相对于活性聚合用混合物的总质量可以为20～90质量%，更优选为20～80质量%。
·助催化剂
活性聚合用混合物还可以包含助催化剂。
作为助催化剂，例如可以列举三嗪化合物、苯并三唑化合物和咪唑化合物。
上述三嗪化合物为具有至少一个三嗪环的化合物。
上述苯并三唑化合物为具有至少一个苯并三唑环的化合物。
上述咪唑化合物为具有至少一个咪唑环的化合物。
助催化剂可以为式(P1)所表示的化合物、式(P2)所表示的化合物或式(P3)所表示的化合物，更优选为式(P3)所表示的化合物。
式(P1)中，3个RT各自独立地表示氢原子或取代基，可以为氢原子、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的苯基。
上述烷基可以为直链状，也可以为支链状，碳原子数可以为1～15。作为上述烷基，可以为甲基或乙基，更优选为甲基。
上述苯基具有的取代基的数量例如可以为0～5个。
上述苯基可以具有的取代基可以为烷基(优选碳原子数为1～15)、羟基、羧基或将它们组合而成的基团。构成上述苯基可以具有的上述烷基的-CH2-(亚甲基)中的一个以上可以被酯基取代。
作为上述将它们组合而成的基团，例如可以列举可以具有羟基作为取代基的烷氧基。
式(P2)中，4个RB1各自独立地表示氢原子或取代基。
式(P2)中，RB2表示氢原子或取代基，可以为氢原子、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的苯基。
式(P2)中的RB2例如与式(P1)中的RT同样。
式(P3)中，3个RI1各自独立地表示氢原子或取代基，可以为氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的苯基、羟基或羧基。
作为上述烷基，例如与式(P1)中可由RT表示的上述烷基同样。
作为上述苯基，例如与式(P1)中可由RT表示的上述苯基同样。
式(P3)中，RI2表示氢原子或取代基，可以为氢原子、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的苯基。
式(P3)中的RI2例如与式(P1)中的RT同样。
作为式(P3)所表示的化合物，例如可以列举1-甲基咪唑。
作为助催化剂的市售品，例如可以列举Tinuvin400、Tinuvin384-2和Tinuvin477(均为BASF公司制造)。
助催化剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在活性聚合用混合物包含助催化剂的情况下，其含量相对于活性聚合用混合物的全部固体成分可以为0.0001～10质量%，更优选为0.0001～5质量%。
在活性聚合用混合物包含活性聚合催化剂的情况下，其含量相对于助催化剂和活性聚合催化剂的合计含量可以为50～99.99质量%，更优选为80～99.99质量%。
活性聚合的反应时间例如为1～10小时。
活性聚合的反应温度例如为25～60℃。
(工序2)
工序2为使化合物Y的氧杂环丁基进行阳离子聚合而合成高分子链B从而形成包覆第一壳部的第二壳部的工序。
在工序2中，可以为使后述的阳离子聚合用混合物反应的工序。
阳离子聚合可以为活性阳离子聚合。
阳离子聚合用混合物可以通过在工序1中使活性聚合用混合物反应后对得到的混合物添加后述的各种成分来制备。即，阳离子聚合用混合物可以包含活性聚合用混合物中所含的各种成分、其反应物及其混合物。
阳离子聚合用混合物可以包含后述的具有阳离子聚合性基团的第一壳粒子和阳离子聚合引发剂。
以下，作为工序2的一个方式，对使上述阳离子聚合用混合物反应的工序2进行详细说明。
·具有阳离子聚合性基团的第一壳粒子
具有阳离子聚合性基团的第一壳粒子为通过工序1得到的粒子进一步具有阳离子聚合性基团的粒子，为具有核部和包覆核部的第一壳部的第一壳粒子进一步具有阳离子聚合性基团的粒子。
作为上述阳离子聚合性基团，例如可以为环氧基和氧杂环丁基等脂环式醚基、环状缩醛基、环状内酯基、环状硫醚基、螺环原酸酯基和乙烯氧基，更优选为环氧基或氧杂环丁基。
作为具有阳离子聚合性基团的第一壳粒子的制造方法，例如可以列举使第一壳粒子与具有阳离子聚合性基团的化合物反应的方法。
在工序2中，可以包含使具有上述阳离子聚合性基团的化合物反应的工序。具有阳离子聚合性基团的化合物还可以具有与阳离子聚合性基团不同的烯键式不饱和基团。作为烯键式不饱和基团，例如可以为(甲基)丙烯酰基。
作为具有阳离子聚合性基团的化合物，例如可以列举化合物T。
化合物T中的n表示1～10的整数。n可以为1或2。
相对于第一壳粒子和具有阳离子聚合性基团的化合物的合计含量，第一壳粒子的含量可以为1～90质量%，更优选为5～80质量%。
相对于上述合计含量，具有阳离子聚合性基团的化合物的含量可以为5～80质量%，更优选为5～50质量%。
·阳离子聚合引发剂
作为阳离子聚合引发剂，例如可以列举公知的阳离子聚合引发剂。
具体而言，可以为后述的组合物中可包含的聚合引发剂中的阳离子聚合引发剂。
阳离子聚合引发剂可以单独使用一种或使用两种以上。
相对于阳离子聚合用混合物的全部固体成分，阳离子聚合引发剂的含量可以为0.05～5.0质量%，更优选为0.1～3.0质量%。
阳离子聚合的反应时间和反应温度等反应条件可以适当调整。
上述膜可以用作后述的硬涂层，更优选用作配置在眼镜片基材上的硬涂层。
活性聚合用混合物或阳离子聚合用混合物中可包含的各种成分优选为以下的方式。
化合物Y的含量相对于化合物X的含量的质量比(化合物Y的含量/化合物X的含量)可以为0.01～2.00。
[组合物]
组合物包含上述核壳粒子，通过使用上述组合物能够形成上述膜。
组合物还可以包含聚合性化合物和/或聚合引发剂，更优选包含聚合性化合物和聚合引发剂。
以下，对组合物可包含的各种成分进行详细说明。
＜核壳粒子＞
组合物包含上述核壳粒子。
核壳粒子在膜中如上所述。
核壳粒子可以单独使用一种或使用两种以上。
核壳粒子的含量相对于组合物的全部固体成分可以为25～90质量%，更优选为30～85质量%。
＜聚合性化合物＞
组合物可以包含聚合性化合物。
作为聚合性化合物，例如可以列举具有聚合性基团的化合物，更优选为自由基聚合性基团和阳离子聚合性基团。作为自由基聚合性基团，例如可以列举(甲基)丙烯酰基。作为阳离子聚合性基团，例如可以为环氧基和氧杂环丁基等脂环式醚基、环状缩醛基、环状内酯基、环状硫醚基、螺环原酸酯基和乙烯氧基，更优选为环氧基或氧杂环丁基。
聚合性化合物可以为上述化合物X、上述化合物Y及上述工序2中的具有阳离子聚合性基团的化合物。
将进行了用于得到高分子链A的反应后的混合物用于制备本公开的组合物的情况下，本公开的组合物中所含的化合物X的一部分或全部可以为上述混合物中所含的化合物X的未反应部分。
将进行了用于得到高分子链B的反应后的混合物用于制备本公开的组合物的情况下，本公开的组合物中所含的化合物Y的一部分或全部可以为上述混合物中所含的化合物Y的未反应部分。
在工序2中，将进行了用于得到第一壳粒子的反应后的混合物用于制备本公开的组合物的情况下，本公开的组合物中所含的具有阳离子聚合性基团的化合物的一部分或全部可以为上述混合物中所含的具有阳离子聚合性基团的化合物的未反应部分。
聚合性化合物可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含聚合性化合物的情况下，聚合性化合物的含量相对于组合物的全部固体成分可以为0.01～50质量%，更优选为1～40质量%。
＜聚合引发剂＞
组合物可以包含聚合引发剂。
作为聚合引发剂，例如可以列举光聚合引发剂和热聚合引发剂，可以为自由基聚合引发剂或光聚合引发剂。
作为聚合引发剂，例如可以列举Omnirad127、184、907、651、1700、1800、819、369和TPO(IGM Resins B.V.公司制造)；DAROCUR1173(Sigma-Aldrich公司制造)；エザキュアーKIP150和TZT(日本シイベルヘグナー公司制造)；カヤキュアBMS和カヤキュアDMBI(日本化药公司制造)；Tinuvin400、Tinuvin405、Tinuvin460、Tinuvin477、Tinuvin479和Tinuvin1577(BASF公司制造)。
作为阳离子聚合引发剂，例如还可以列举由选自由芳香族锍、芳香族碘、芳香族重氮和吡啶组成的组中的一种以上的阳离子以及选自由BF4 -、PF6-、SbF6-、AsF6-、CF3SO3-、(CF3SO2)2N-和B(C6F5)4-组成的组中的一种以上阴离子构成的盐；氯化铝等铝络合物等热阳离子聚合引发剂。
聚合引发剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含聚合引发剂的情况下，其含量相对于组合物的全部固体成分可以为0.001～5质量%，更优选为0.01～5质量%。
＜敏化剂＞
组合物可以包含敏化剂。
在组合物包含聚合引发剂的情况下，优选组合物还包含敏化剂。
作为敏化剂，例如可以列举アントラキュアー系列(川崎化成工业公司制造)。
敏化剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含敏化剂的情况下，其含量相对于组合物的全部固体成分可以为0.001～5质量%，更优选为0.05～2质量%。
＜表面活性剂＞
组合物可以包含表面活性剂。
作为表面活性剂，例如可以列举硅油等聚硅氧烷化合物。
作为表面活性剂，例如可以列举DOWSIL系列(Dow公司制造)。
表面活性剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含表面活性剂的情况下，其含量相对于组合物的全部固体成分可以为0.001～5质量%，更优选为0.01～0.5质量%。
＜紫外线吸收剂＞
组合物可以包含紫外线吸收剂。
作为紫外线吸收剂，例如可以列举三嗪化合物和苯并三唑化合物。
作为三嗪化合物和苯并三唑化合物，例如可以列举上述活性聚合用混合物中可包含的三嗪化合物(式(P1)所表示的化合物等)和苯并三唑化合物(式(P2)所表示的化合物等)。
因此，在将活性聚合用混合物用于制备组合物的情况下，可以将活性聚合用混合物中所含的三嗪化合物和苯并三唑化合物作为组合物中的紫外线吸收剂使用。
紫外线吸收剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含紫外线吸收剂的情况下，其含量相对于组合物的全部固体成分可以为0.01～5质量%，更优选为0.1～3质量%。
＜溶剂＞
组合物可以包含溶剂。
作为溶剂，例如可以为水或有机溶剂。
作为有机溶剂，例如可以列举醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、烃类溶剂、卤代烃类溶剂、酰胺类溶剂、砜类溶剂和亚砜类溶剂。
溶剂可以单独使用一种或使用两种以上。
在组合物包含溶剂的情况下，其含量相对于组合物的总质量可以为10～90质量%，更优选为20～60质量%。
＜其它成分＞
可以将活性聚合用混合物和阳离子聚合用混合物用于制备组合物。
组合物可以包含活性聚合用混合物和阳离子聚合用混合物可包含的各种成分、其反应物及其分解物。
组合物根据需要除了包含上述各种成分以外还可以包含抗老化剂、涂膜调整剂、光稳定剂、抗氧化剂、抗着色剂、染料、填充剂和内脱模剂等添加剂。
＜组合物的制造方法＞
作为组合物的制造方法，例如可以将上述组合物中可包含的各种成分一次性地混合，也可以分批地阶段性地混合各种成分。
组合物优选作为用于在基材上形成硬涂层(上述膜)的组合物(硬涂层形成用组合物)使用。基材可以为塑料基材。
作为塑料基材，例如可以列举塑料眼镜片基材和塑料膜。
后段中，作为一例，对在塑料眼镜片基材上应用上述硬涂层形成用组合物的方式进行详细说明。
[眼镜片]
膜可以用于眼镜片。
作为制造的眼镜片，例如可以列举包含眼镜片基材(例如，塑料眼镜片基材等)和配置在上述眼镜片基材上的上述膜(硬涂层)的眼镜片。
图2为眼镜片的一个实施方式的截面图。
图2所示的眼镜片10包含塑料眼镜片基材12和配置在塑料眼镜片基材12的双面上的膜14。膜(硬涂层)14为使用上述组合物形成的层。
在图2中，膜14配置成与塑料眼镜片基材12直接接触，但不限于该方式，也可以在塑料眼镜片基材12与膜14之间配置其它层(例如，底涂层等)。即，膜14可以直接配置在塑料眼镜片基材12上，也可以隔着其它层间接地配置在塑料眼镜片基材12上。
另外，在图2中，在塑料眼镜片基材12的双面上配置膜14，但也可以仅在塑料眼镜片基材12的单面上配置膜14。
以下，对眼镜片10中可包含的各构件进行详细说明。
＜塑料眼镜片基材＞
作为塑料眼镜片基材的种类，例如可以列举对凸面和凹面均进行光学精加工并按照所期望的度数成形的精加工镜片。
构成塑料眼镜片基材的塑料(所谓的树脂)的种类例如可以列举(甲基)丙烯酸类树脂、硫代氨基甲酸酯类树脂、烯丙基类树脂、环硫化物类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚氨酯类树脂、聚酯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚醚砜类树脂、聚4-甲基戊烯-1类树脂、二甘醇双烯丙基碳酸酯类树脂(CR-39)和聚氯乙烯类树脂。
从操作性的方面出发，塑料眼镜片基材的厚度多为1～30mm。
塑料眼镜片基材的折射率没有特别限制。
塑料眼镜片基材只要具有透光性，则可以为不透明，也可以着色。
＜膜＞
膜可以作为所谓的硬涂层发挥功能。
硬涂层为配置在塑料眼镜片基材上的层，为对塑料眼镜片基材赋予耐划伤性的层。
硬涂层为上述膜，为由组合物形成的层。
作为硬涂层的形成方法，例如可以列举将上述组合物涂布在塑料眼镜片基材上形成涂膜并对涂膜实施光照射处理等固化处理的方法。
需要说明的是，形成涂膜后，根据需要，为了从涂膜除去溶剂，可以实施加热处理等干燥处理。
将组合物涂布在塑料眼镜片基材上的方法可以列举公知的方法(例如，浸涂法、旋涂法、喷涂法、喷墨涂布法和流涂法等)。
例如，在使用浸涂法的情况下，将塑料眼镜片基材浸渍在组合物中，然后将塑料眼镜片基材提起并干燥，由此能够在塑料眼镜片基材上形成预定膜厚的涂膜。
在塑料眼镜片基材上形成的涂膜的膜厚可以适当调整。
光照射处理的条件可以根据所使用的聚合引发剂的种类选择适当的条件。
光照射时的光的种类例如可以列举紫外线和可见光。作为光源，例如可以列举高压汞灯。
从生产率和涂膜的固化性的方面出发，光照射时的累积光量可以为100～3000mJ/cm2，更优选为100～1500mJ/cm2。
硬涂层的膜厚可以为1μm以上，更优选为5μm以上，进一步优选为10μm以上。上限可以为30μm以下。
上述膜厚为平均膜厚，其测定方法通过测定硬涂层的任意5点的膜厚并将它们进行算术平均而求出。
＜底涂层＞
眼镜片还可以包含配置在基材与硬涂层之间的底涂层。
底涂层是提高硬涂层对基材的密合性的层。
作为构成底涂层的材料，例如可以列举树脂。
具体而言，可以列举氨基甲酸酯类树脂、环氧类树脂、酚醛类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酯类树脂、双马来酰亚胺类树脂和聚烯烃类树脂。
作为底涂层的形成方法，例如可以列举公知的方法。
具体而言，可以列举将包含规定的树脂的底涂层形成用组合物涂布在基材上并根据需要实施固化处理而形成底涂层的方法。
底涂层的厚度可以为0.3～2μm。
塑料眼镜片还可以包含配置在硬涂层上的抗反射膜。
抗反射膜是具有防止入射的光的反射的功能的层。具体而言，可以在400～700nm的整个可见光区具有低反射特性(宽带低反射特性)。
＜抗反射膜＞
眼镜片可以包含抗反射膜。
抗反射膜的结构可以为单层结构或多层结构。
作为抗反射膜，优选为无机抗反射膜。无机抗反射膜是指由无机化合物构成的抗反射膜。
作为多层结构的抗反射膜，可以为将低折射率层与高折射率层交替层叠的结构。
作为构成高折射率层的材料，例如可以列举钛、锆石、铝、铌、钽和镧氧化物。作为构成低折射率层的材料，例如可以列举二氧化硅氧化物。
作为抗反射膜的制造方法，例如可以列举真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、离子束辅助法和CVD法等干法。
实施例
以下，通过实施例和比较例对本公开的膜进一步进行详细说明，但不受这些实施例任何限制。
＜实施例1＞
(底涂层的形成)
·底涂层形成用组合物的制作
在纯水(289质量份)中添加作为表面活性剂的Silwet L-77(Momentive公司制造)(0.2质量份)和DOWSIL L-7604(Dow公司制造)(0.2质量份)、丙二醇单甲醚(10.6质量份)、水系氨基甲酸酯分散体(エバファノールHA170、日华化学公司制造、固体成分37质量%)(200质量份)并搅拌，制作了固体成分为14.8质量%的底涂层形成用组合物1。
·底涂层的形成
作为塑料眼镜片基材，使用折射率1.60的镜片(尼康依视路公司制造：ニコンライト3AS坯件 S-2.00D)或折射率1.74的镜片(尼康依视路公司制造、S-7.00)。
具体而言，制作用于进行后述雾度评价的带硬涂层的塑料眼镜片基材时，作为塑料眼镜片基材，使用上述折射率1.60的镜片，制作用于进行后述铅笔硬度评价的带硬涂层的塑料眼镜片基材时，作为塑料眼镜片基材，使用上述折射率1.74的镜片。
将上述塑料眼镜片基材以90mm/分钟浸渍在底涂层形成用组合物1中，在90℃下烧成20分钟，形成底涂层。
(膜的形成)
·组合物的制作
··SiO2粒子的氯加成
将丙烯酰基被覆SiO2纳米粒子分散液(MEK-AC-4130Y)(日产化学公司制造)(232.00质量份、固体成分为69.60质量份)、AlCl3(东京化成工业公司制造)(0.12质量份)和表氯醇(东京化成工业公司制造)(1.24质量份)依次混合，在40℃下搅拌4小时。将得到的溶液作为SiO2溶液A1。通过上述反应，得到具有Cl基的SiO2纳米粒子(更具体而言，具有X为Cl的式(S1)所表示的基团的SiO2纳米粒子)。
需要说明的是，MEK-AC-4130Y的固体成分(纳米粒子的含量)为30质量%。
··活性自由基聚合
将得到的SiO2溶液A1(总质量份)、80质量%A9300溶液(13.88质量份、固体成分为11.10质量份)、1质量%Fe溶液(3.1质量份、固体成分为0.31×10-1质量份)和0.02质量%MeIm溶液(3.1质量份、有效成分为0.62×10-3质量份)混合，在40℃下搅拌2小时。将得到的溶液作为LRP-SiO2溶液A1。
···80质量%A9300溶液的制作
将NK酯A-9300(新中村化学工业公司制造)(80质量份)和MEK(甲基乙基酮)(20质量份)混合，充分搅拌。将得到的溶液作为80质量%A9300溶液。
···1质量%Fe溶液的制作
将1,1-双(二异丙基膦基)二茂铁(东京化成工业公司制造)(1.0质量份)和MEK(99.0质量份)混合，充分搅拌。将得到的溶液作为1质量%Fe溶液。
···0.02质量%MeIm溶液的制作
将1-甲基咪唑(东京化成工业公司制造)(2质量份)和MEK(98质量份)混合，充分搅拌。对其进行两次10倍稀释。将得到的溶液作为0.02质量%MeIm溶液。
··环氧基的加成反应
在得到的LRP-SiO2溶液A1(总质量份)中加入1,2-环氧-5-己烯(0.80质量份)，在30℃下搅拌2小时。
··氧杂环丁基的加成反应
在环氧基的加成反应后的溶液中加入アロンオキセタンOXT-221(Aron OxetaneOXT 221，东亚合成公司制造)(15.19质量份)，在40℃下搅拌1小时。将得到的溶液作为Оx-SiO2溶液A1。
··溶剂置换
使用蒸发器(NE-1101、东京理化器械公司制造)，从得到的Оx-SiO2溶液A1(总质量份)中除去MEK(151.1质量份)。
接着，将残渣物放入容器中，进而将烧瓶中残留的残渣物用丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)共清洗3次，移至容器中。此时，使用合计24.1质量份的PGMEA。将该容器中的溶液充分搅拌。
··其它成分的添加
在进行了溶剂置换的溶液中，进一步加入Ominirad819(IGM Resins B.V.公司制造)(0.70质量份)、Ominirad127(IGM Resins B.V.公司制造)(0.06质量份)、Tinuvin400(BASF公司制造)(1.00质量份)、SP-172(ADEKA公司制造)(0.58质量份)和10质量%L7604溶液(0.58质量份)(Dow公司制造)，制作组合物A1。
···10质量%L7604溶液的制作
使用PGMEA将DOWSILL-7604(Dow公司制造)以质量基准稀释10倍。将得到的溶液作为10质量%L7604溶液。
·膜的形成
在上述得到的形成有底涂层的塑料眼镜片基材的底涂层上滴加组合物A1(2.0mL)后，进行旋涂。旋涂中，使涂布有组合物A1的塑料眼镜片基材依次以400rpm旋转10秒钟、以2000rpm旋转0.5秒钟、最后用时1秒钟变为0rpm。接着，将得到的塑料眼镜片基材在100℃加热20分钟后，使用高压汞灯(100mW/cm2)作为光源，对使用组合物A1形成的涂膜进行UV照射(累积光量：0.8J/cm2)。
需要说明的是，对塑料眼镜片基材的另一个表面也实施与上述同样的处理。对双面进行UV照射后，在100℃下烧成10分钟，形成膜A1，得到带膜的塑料眼镜片基材。
＜实施例2＞
实施例1中的SiO2粒子的氯加成时，将UV聚合性基团被覆SiO2纳米粒子分散液(MEK-AC-4130Y)(日产化学公司制造)(232.00质量份、固体成分为69.60质量份)、80质量%含(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷溶液(AC-SQ TA-100)(东亚合成公司制造)(16.70重量份、固体成分为13.36质量份)、AlCl3(东京化成工业公司制造)(0.10质量份)和表氯醇(东京化成工业公司制造)(0.98质量份)依次混合，在40℃下搅拌4小时。将得到的溶液作为SiO2-TA100溶液A1。上述以外与实施例1的步骤同样地进行，形成实施例2的膜。
需要说明的是，上述UV聚合性基团为烯键式不饱和基团(丙烯酰基)。另外，MEK-AC-4130Y的固体成分(纳米粒子的含量)为30质量%。
·80质量%含(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷溶液的制作
将AC-SQ TA-100(东亚合成公司制造)(80质量份)和MEK(20质量份)混合，充分搅拌。将得到的溶液作为80质量%含(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷溶液。
实施例3～6和比较例1中，使用下述表的各种成分并参考上述实施例1制作各组合物，形成各膜。另外，实施例7～13和比较例2中，使用下述表的各种成分并参考上述实施例2制作各组合物，形成各膜。
需要说明的是，比较例1和比较例2在环氧基的加成反应和氧杂环丁基的加成反应的任一者中都没进行加热处理。即，比较例1和比较例2中，虽然各组合物包含1,2-环氧-5-己烯和アロンオキセタンOXT-221，但在环氧基的加成反应和氧杂环丁基的加成反应中的任一者中都没进行加热处理，因此未形成第二壳部，比较例1和比较例2的膜不包含规定的核壳粒子。
表中，各记载的含义如下所示。
“(A)/(B)”栏表示化合物X(A9300)的含量相对于化合物Y(アロンオキセタンOXT-221)的含量的质量比。
“(A)/(C1+C2)”栏表示化合物X(A9300)的含量相对于无机氧化物粒子(MEK-AC-4130Y)和倍半硅氧烷(AC-SQ TA-100)的合计含量的质量比。
“(D1)：(D2)”栏表示Ominirad819：Ominirad127的质量比。
“(F)：(E)”栏表示AlCl3：表氯醇的质量比。
“(G)/(E)”栏表示Fe的含量相对于表氯醇的含量的质量比。
“(B)：(H)：(I)”栏表示化合物Y(アロンオキセタンOXT-221)：具有阳离子聚合性基团的化合物(1,2-环氧-5-己烯)：SP-172的质量比。
表中的数值表示各种成分的固体成分的质量份。
·MEK-AC-4130Y：上述30质量%丙烯酰基被覆SiO2纳米粒子分散液。其中，表中的数值表示“MEK-AC-4130Y”的固体成分(质量份)，不是分散液的质量份。
·AC-SQ TA-100：上述80质量%含(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷溶液。其中，表中的数值表示“80质量%含(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷溶液”的固体成分(质量份)，不是溶液的质量份。
·表氯醇：上述表氯醇
·AlCl3：上述AlCl3
·A9300：上述80质量%A9300溶液。其中，表中的数值表示“80质量%A9300溶液”的固体成分(质量份)，不是溶液的质量份。
·Fe：上述1质量%Fe溶液。其中，表中的数值表示“1质量%Fe溶液”的固体成分(质量份)，不是溶液的质量份。
·MeIm：上述0.02质量%MeIm溶液。其中，表中的数值表示“0.02质量%MeIm溶液”的固体成分(质量份)，不是溶液的质量份。
·1,2-环氧-5-己烯：上述1,2-环氧-5-己烯
·アロンオキセタンOXT-221：上述アロンオキセタンOXT-221
·Ominirad819：上述Ominirad819
·Ominirad127：上述Ominirad127
·Tinuvin400：上述Tinuvin400
·SP-172：上述SP-172
·L7604：上述10质量%L7604溶液。其中，表中的数值表示“10质量%L7604溶液”的固体成分(质量份)，不是溶液的质量份。
＜评价＞
使用上述实施例和上述比较例中得到的带膜的塑料眼镜片基材，实施以下的评价。
(雾度)
在雾度计(NDH7000II、日本电色工业)的受光器侧放置带膜的塑料眼镜片基材，测量3次，计算出测量值的平均值，将其作为雾度值。
A：雾度值小于1.0
B：雾度值为1.0以上
(耐划伤性(铅笔硬度))
使用带膜的塑料眼镜片基材，利用铅笔测量膜的硬度。一边依次提高铅笔的硬度，一边使铅笔相对于膜倾斜地陷入，将发生损伤的硬度之前的硬度作为该膜的硬度。例如，在6H下没有损伤但在7H下损伤的情况下，其硬涂层的硬度设为6H。
A：硬度为6H以上
B：硬度小于5H
(密合性)
依据JIS-K5600，通过交叉切割胶带试验评价膜与底涂层的密合性。
即，使用刀在带膜的塑料眼镜片基材的膜表面以1mm间隔划出到达塑料眼镜片基材的切缝，形成100个网格。接着，将Scotch胶带(3M公司制造)强力地按压在形成有切缝的硬涂层上。然后，以4kg载荷从膜表面向45°方向快速地拉Scotch胶带，使其剥离后，数出残留在塑料眼镜片基材上的网格的数量。
AA：残留的网格的数量为85个以上
A：残留的网格的数量为70个以上且小于85个
B：残留的网格的数量小于70个
“SiO2”表示形成核部的二氧化硅(SiO2)。
“SQ”表示形成核部的倍半硅氧烷。
“评价结果”的各评价中的括号内的数值或表述表示各自的评价结果。
如表1所示，确认到本公开的膜得到了期望的效果。
符号说明
100 核壳粒子
102 核部
104 第一壳部
106 第二壳部
10 眼镜片
12 塑料眼镜片基材
14 膜(硬涂层)

Claims (8)

1.一种膜，其是包含核壳粒子的膜，所述核壳粒子具有核部、包覆所述核部的第一壳部和包覆所述第一壳部的第二壳部，其中，
所述核部包含无机氧化物粒子或倍半硅氧烷，
所述第一壳部包含高分子链A，所述高分子链A包含选自由丙烯酸酯类高分子链和甲基丙烯酸酯类高分子链组成的组中的一种以上，
所述第二壳部包含使具有氧杂环丁基的化合物的所述氧杂环丁基进行阳离子聚合而得到的高分子链B。
2.根据权利要求1所述的膜，其中，所述无机氧化物粒子包含选自由SiO2、Al2O3、SnO2、ZrO2和TiO2组成的组中的一种以上。
3.根据权利要求1或2所述的膜，其中，所述膜还包含高分子化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的膜，其中，所述高分子链A为通过活性自由基聚合得到的高分子链。
5.一种眼镜片，其包含：
眼镜片基材；和
配置在所述眼镜片基材上的权利要求1～4中任一项所述的膜。
6.一种组合物，其是包含核壳粒子的组合物，所述核壳粒子具有核部、包覆所述核部的第一壳部和包覆所述第一壳部的第二壳部，其中，
所述核部包含无机氧化物粒子或倍半硅氧烷，
所述第一壳部包含高分子链A，所述高分子链A包含选自由丙烯酸酯类高分子链和甲基丙烯酸酯类高分子链组成的组中的一种以上，
所述第二壳部包含具有氧杂环丁基的化合物的所述氧杂环丁基进行阳离子聚合而得到的高分子链B。
7.根据权利要求6所述的组合物，其中，所述组合物还包含聚合性化合物。
8.根据权利要求6或7所述的组合物，其中，所述组合物还包含聚合引发剂。
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