CN118287418A - 一种锻造轴承内圈的清洁装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及轴圈清洁技术领域，具体公开了一种锻造轴承内圈的清洁装置及方法，中心圆台安装于工作台上，外环台套置于中心圆台的外周侧，并与工作台连接，外环台与中心圆台之间形成环状间隙，环盘转动套设于中心圆台上，环盘上设有沿其周向间隔分布的多个叉杆，叉杆设有沿其周向间隔开的摩擦块和清洁块，中心圆台的外周壁设有多个清洁凸台，外环台的内周壁设有多个摩擦凸台，多个清洁凸台和多个摩擦凸台沿环状间隙的周向交错布置。本发明的锻造轴承内圈的清洁装置，通过清洁凸台和清洁块，实现了对轴圈内外周面的清洁，从而提升了轴圈的清洁范围，同时对轴圈的清洁也更加彻底。

Description

一种锻造轴承内圈的清洁装置及方法

技术领域

本发明涉及轴圈清洁技术领域，具体涉及一种锻造轴承内圈的清洁装置及方法。

背景技术

滚动轴承一般由套圈（内圈与外圈)、滚动体（球或滚子）及保持架组成。即在内圈和外圈间配置数个滚动体，由保持架使滚动体相互保持一定的间距，互不接触，实现平稳滚动运动的结构。内圈通常与轴配合，外圈则与轴承座配合。一般情况下，内圈也被叫作轴圈，外圈被称为座圈。轴圈在使用一段时间后，容易积满油污，为此需要定期清洁。

公告号为CN115350973B的中国专利，公开了一种轴承生产用轴承圈清洗装置，该装置包括超声波清洗池、毛刷板和冲洗组件。超声波清洗池的内壁通过升降机构连接有安装架，安装架上转动安装有转动筒，转动筒由安装于安装架上的旋转电机驱动。转动筒的外侧设有沿其周向间隔分布的四个固定板，固定板通过固定组件与转动筒连接。超声波清洗池的顶部固定有清洗架，毛刷板固定在清洗架上。冲洗组件有两组并相互间隔开，每组冲洗组件均包括冲洗管、多个倾斜管和冲洗喷头，冲洗管安装于清洗架上，倾斜管有多个并沿冲洗管的长度方向等间距分布，倾斜管的顶端与冲洗管连接，底端设置有冲洗喷头，两个冲洗管上的倾斜管的倾斜方向相反。

该装置使用时，先将同规格大小的多个轴圈依次套在四个固定板上。升降机构驱动安装架下降，安装架带动固定板及轴圈伸入超声波清洗池内的清洗水中，超声波清洗池对轴圈进行超声波清洗。接着，固定组件驱动固定板向外撑开，四个固定板压抵在轴圈的内周面上并将轴圈向外撑紧。然后，升降机构带动多个轴圈上升，直至轴圈的外周面接触到毛刷板。此时，每个轴圈的两侧均有倾斜管，换言之，轴圈夹在两个倾斜管之间。然后，旋装电机驱动转动筒转动，每个轴圈随之转动，毛刷板实现对轴圈的摩擦清洁。同时，外界水可通过冲洗管、倾斜管和冲洗喷头向轴圈的端面喷出，对轴圈的端面进行高压冲洗。

然而，在具体实施中，该装置仍旧存在如下缺陷：超声波清洗是利用超声波高频振荡来达到清洗目的，对轴圈的清洗不彻底；毛刷板对轴圈清洁时，轴圈的内壁作为了撑紧部位，大部分与固定板接触，从而轴圈虽然实现了外周面的清洁，但其内周面无法被清洁到，从而减少了清洁的区域，清洁不全面。

发明内容

本发明提供一种锻造轴承内圈的清洁装置及方法，旨在解决相关技术中超声波清洗容易对轴圈清洗不彻底，以及轴圈内周面无法得到清洁的问题。

本发明的锻造轴承内圈的清洁装置，包括工作台、中心圆台、外环台和环盘，中心圆台安装于工作台上，外环台套置于中心圆台的外周侧，并与工作台连接，外环台与中心圆台之间形成环状间隙，环状间隙内能够置入轴圈；环盘转动套设于中心圆台上，并能够对环状间隙的底部形成封闭，环盘上设有多个叉杆，叉杆能够插入轴圈内，叉杆设有摩擦块和用于清洁轴圈内周面的清洁块；中心圆台的外周壁设有多个用于清洁轴圈外周面的清洁凸台，外环台的内周壁设有多个摩擦凸台，多个清洁凸台和多个摩擦凸台沿环状间隙的周向交错布置。

优选地，锻造轴承内圈的清洁装置还包括承载台和挤压单元，承载台有两个并均设置于环状间隙内，两个承载台沿环状间隙的径向间隔开，承载台的一侧设有斜台；挤压单元与承载台的数量相等并一一对应，挤压单元包括第一挤压板和第二挤压板，第一挤压板与相应承载台弹性滑动连接，第二挤压板位于第一挤压板的上方并与工作台弹性滑动连接，第一挤压板和第二挤压板相对的表面均铺设有绒布层，轴圈进入第一挤压板和第二挤压板之间的空间时，第一挤压板和第二挤压板上的绒布层分别与轴圈的两个端面接触。

优选地，所述外环台的内周壁设有沿环状间隙的周向延伸的摩擦条，摩擦条位于第一挤压板和第二挤压板之间，轴圈进入第一挤压板和第二挤压板之间的空间时，能够与摩擦条接触。

优选地，锻造轴承内圈的清洁装置还包括支撑板和推板，支撑板设于中心圆台上，并位于第一挤压板和第二挤压板之间，支撑板背离中心圆台的一侧设有柔性的清洁头，清洁头能够能够对轴圈的沟槽的中心区域进行清洁；推板有两个并分设于支撑板的上下两侧，推板背离中心圆台的部分与支撑板铰接，推板的中心部分与支撑板弹性连接，在弹性力的作用下，两个推板能够分别顶抵在第一挤压板和第二挤压板上；推板背离中心圆台的一侧设有柔性的洁净头，洁净头能够对沟槽的两侧区域进行清洁。

优选地，锻造轴承内圈的清洁装置还包括出料台和出料框，出料台设于环状间隙内，出料台具有沿环状间隙的径向间隔开的两个斜坡，第一挤压板背离斜台的一侧铰接有引导板，两个引导板与两个斜坡一一对应，引导板搭接于相应斜坡上；出料框自上而下倾斜，且其顶端连接在出料台的台面上。

优选地，锻造轴承内圈的清洁装置还包括中心轴、导流板和锁止组件，中心轴转动安装在中心圆台上，中心轴设有沿其周向间隔分布的多个弧形条；中心圆台的边缘设有呈环形的护板，导流板设于护板的内侧，且导流板与护板之间形成进料通道，进料通道的末端形成通料口，通料口与环状间隙连通；锁止组件设置于中心圆台与环盘之间，常态下，锁止组件封闭通料口，环盘转动时，锁止组件能够打开通料口，并使轴圈落入叉杆上。

优选地，所述锁止组件包括托板和推杆，托板封闭通料口，并与导流板铰接，托板与导流板之间还连接有卷簧；推杆与叉杆的数量相等并一一对应，推杆安装于环盘上并邻近相应叉杆，推杆随环盘转动的过程中，在经过托板时，推杆能够推动托板偏转，以使托板打开通料口。

优选地，所述弧形条包括第一弧条和第二弧条，第一弧条和第二弧条铰接，且第一弧条和第二弧条之间连接有避让扭簧。

优选地，锻造轴承内圈的清洁装置还包括外齿圈和电机，外齿圈套装于环盘上；电机安装于工作台上，电机的输出轴上套装有齿轮，齿轮与外齿圈啮合；中心圆台的内部为中空，中心轴的一端伸入中心圆台的内部，并与电机的输出轴传动连接。

本发明的锻造轴承内圈的清洁方法，采用上述锻造轴承内圈的清洁装置，包括以下步骤：

将轴圈放入环状间隙内，并使轴圈套在叉杆上；

转动环盘，环盘带动叉杆绕其轴心转动，叉杆带着轴圈公转；

轴圈经过其中一个清洁凸台时，轴圈被夹在清洁凸台和摩擦块之间，在摩擦块和轴圈之间的摩擦作用下，摩擦块带动轴圈在清洁凸台上滑动，以使轴圈的外周面被清洁凸台所清洁；

轴圈经过其中一个摩擦凸台时，轴圈被夹在摩擦凸台和清洁块之间，在轴圈和摩擦凸台之间的摩擦作用下，轴承在公转的同时还发生自转，以使轴圈的内周面被清洁块所清洁。

采用了上述技术方案，本发明的有益效果为：

轴圈每经过一个清洁凸台时，轴圈的外周面的一小部分被清洁凸台所清洁。轴圈每经过一个摩擦凸台时，轴圈的内周面的一小部分被清洁块所清洁。同时在摩擦凸台作用下，轴圈转动适量的角度。如此反复，当轴圈通过多个清洁凸台和摩擦凸台后，轴圈的内外周面的全部区域均可以被清洁，由此提升了轴圈的清洁范围，使得清洁更加地全面。此外，利用清洁凸台和清洁块对轴圈清洁的方式，与超声波清洗相比，清洁更加彻底。

附图说明

图1是本发明的锻造轴承内圈的清洁装置的立体示意图。

图2是本发明的锻造轴承内圈的清洁装置隐藏护盖后的立体示意图。

图3是本发明的图2中A处的放大示意图。

图4是本发明的进料通道至锁止组件部分的结构示意图。

图5是本发明的偏转盒隐藏部分后的示意图。

图6是本发明的承载台至挤压单元部分的结构示意图。

图7是本发明的第一挤压板至第二挤压板部分的剖面示意图。

图8是本发明的推板的示意图。

图9是本发明的第一挤压板至出料台部分的结构示意图。

图10是本发明的中心轴至电机部分的剖面示意图。

附图标记：

100、轴圈；

1、工作台；11、环架；112、喷淋头；113、护盖；12、支杆；13、机壳；14、电机；141、齿轮；

2、中心圆台；21、清洁凸台；22、护板；221、导流板；23、进料通道；24、顶板；25、支撑板；251、清洁头；252、推板；2521、滑槽；2522、弹簧伸缩杆；2523、洁净头；

3、外环台；31、摩擦凸台；32、摩擦条；

4、环盘；41、叉杆；411、摩擦块；412、清洁块；42、外齿圈；

5、环状间隙；51、出料台；511、斜坡；512、出料框；

6、中心轴；61、弧形条；611、第一弧条；612、第二弧条；62、皮带机构；

7、锁止组件；71、托板；72、推杆；73、偏转盒；731、挡条；74、固定轴；75、卷簧；

8、承载台；81、斜台；82、凹槽；83、引导板；

9、挤压单元；91、第一挤压板；911、第一弹簧；912、防水塑料布；92、第二挤压板；921、第二弹簧；922、防污塑料布。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

下面结合图1至图10描述本发明的锻造轴承内圈的清洁装置。

实施例一，如图1至图10所示，本发明的锻造轴承内圈的清洁装置，包括工作台1、中心圆台2、外环台3和环盘4。

中心圆台2固定于工作台1上，外环台3套置于中心圆台2的外周侧。工作台1的上方设有与外环台3同轴连接的环架11，环架11通过多个支杆12与工作台1固定连接。

外环台3与中心圆台2之间形成环状间隙5，环状间隙5内能够置入轴圈100。环盘4转动套设于中心圆台2上，并能够对环状间隙5的底部形成封闭，环盘4上设有沿其周向等间隔分布的多个叉杆41，叉杆41能够插入轴圈100内，叉杆41设有沿其周向间隔开的摩擦块411和清洁块412，摩擦块411和清洁块412相互交叉。需要说明地，摩擦块411为橡胶块，用于增大与轴圈100之间的摩擦力。清洁块412为海绵块，用于擦拭轴圈100表面的污渍。在另一实施例中，摩擦块411也可以是硬质块，其材质可以是金属或塑胶等，摩擦块411的表面设有摩擦纹。

中心圆台2的外周壁设有多个清洁凸台21，外环台3的内周壁设有多个摩擦凸台31，多个清洁凸台21和多个摩擦凸台31沿环状间隙5的周向交错布置。需要说明地，清洁凸台21的两侧以及摩擦凸台31的两侧均具有过渡圆角，清洁凸台21的材质为可变形的软海绵，摩擦凸台31的材质为较硬的橡胶，具体可以是硫化硅橡胶或氟橡胶等。

锻造轴承内圈的清洁装置还包括中心轴6和导流板221，中心轴6转动穿设在中心圆台2上，中心轴6的上端凸出于中心圆台2的上方，并连接有多个弧形条61，多个弧形条61沿中心轴6的周向等间隔分布。中心圆台2的边缘设有呈环形的护板22，导流板221固定于护板22的内侧并位于弧形条61的上方，且导流板221与护板22之间形成进料通道23，进料通道23的末端形成通料口，通料口与环状间隙5连通。

锻造轴承内圈的清洁装置还包括外齿圈42和电机14，外齿圈42套装于环盘4上。工作台1的外侧固定有机壳13，电机14安装于机壳13内。电机14的输出轴上套装有齿轮141，齿轮141与外齿圈42啮合。中心圆台2的内部为中空，中心轴6的一端伸入中心圆台2的内部中空处，并与电机14的输出轴通过皮带机构62或链条机构连接。

初始状态时，向护板22的内侧投入若干个轴圈100。接着，启动电机14，电机14通过皮带机构62或链条机构带动中心轴6转动，中心轴6带动多个弧形条61同步转动，相邻两个弧形条61之间形成分隔区，若干个轴圈100被依次散落在各个分隔区内。弧形条61转动时，推动轴圈100移动，轴圈100逐渐移动至进料通道23内，之后，轴圈100在导流板221的限制下，沿着进料通道23移动，直至通料口处。

与此同时，电机14通过齿轮141和外齿圈42带动环盘4转动，环盘4带动叉杆41绕环盘4的轴心转动，即叉杆41公转，当叉杆41经过通料口时，由通料口排出的轴圈100套在叉杆41上，之后，叉杆41带着轴圈100一起公转。

然后，轴圈100依次经过多个清洁凸台21和摩擦凸台31，当轴圈100经过其中一个清洁凸台21时，在清洁凸台21的过渡圆角的引导下，轴圈100逐渐运动至清洁凸台21的外表面，在此时，轴圈100沿着环状间隙5的径向向外推移。接着，轴圈100被夹持在清洁凸台21和摩擦块411之间，在轴圈100和摩擦块411之间的挤压力和摩擦力作用下，摩擦块411会带动轴圈100在清洁凸台21上滑动，由于清洁凸台21材质为软海绵，清洁凸台21在轴圈100的挤压作用下会凹陷，凹陷的清洁凸台21对轴圈100的外周面的部分包覆起来，从而在轴圈100的滑动中，对这一部分进行擦拭，去除其上的污渍。

当轴圈100经过其中一个摩擦凸台31时，在摩擦凸台31的过渡圆角的引导下，轴圈100逐渐运动至摩擦凸台31的内表面上，在此时，轴圈100沿着环状间隙5的径向向内推移。接着，轴圈100被夹持在摩擦凸台31和清洁块412之间，在摩擦凸台31和轴圈100之间的挤压力和摩擦力作用下，轴圈100在公转时，还会发生自转，由海绵制成的清洁块412对轴圈100的内表面进行擦拭，去除内表面上的污渍。本实施例中，轴圈100的自转角度可以根据摩擦凸台31在环状间隙5的周向上的长度而设置，在此不做绝对地限制，通常情况下，此自转角度可设为60度至90度之间。

轴圈100在自转一定角度后，轴圈100上的各点位均发生了偏移，当轴圈100再经过下一清洁凸台21时，轴圈100上与清洁凸台21的接触位发生了调换，清洁凸台21将对轴圈100外周面的另一部分进行擦拭。以此类推，轴圈100在顺次经过各个清洁凸台21和摩擦凸台31时，轴圈100的外周面和内周面的各部分都能得到清洁，换言之，轴圈100的外周面和内周面在分段交替地进行清洁，当轴圈100在多个清洁凸台21和摩擦凸台31上通过后，轴圈100的外周面和内周面上的清洁区域构成一个闭合环，由此实现轴圈100内外周面的彻底清洁，这样提升了轴圈100清洁的范围。同时，利用柔性的清洁凸台21和清洁块412对轴圈100清洁的方式，与超声波清洗相比，清洁更加彻底。

需要说明地，环架11上安装有沿其周向间隔分布的多个喷淋头112，喷淋头112位于环状间隙5的上方并朝向环状间隙5，喷淋头112外接水源，该水源可以是水箱和水泵的组合，也可以为其它的现有形式。轴圈100公转并进行清洁时，水源向喷淋头112内供水，喷淋头112向环状间隙5内喷洒水，由此实现了对环状间隙5内轴圈100的润湿，提升了轴圈100的清洁效果。

其中，相邻两个喷淋头112之间连接有弧形的护盖113，护盖113与环状间隙5同心，并用于遮蔽相邻两个喷淋头112之间的空间，各个护盖113的组合可以实现对环状间隙5的整个的基本覆盖，既避免了外界灰尘进入环状间隙5内而对内污染；又避免了清洁水从环状间隙5中溅出而对外污染。

锻造轴承内圈的清洁装置还包括锁止组件7，锁止组件7设置于中心圆台2与环盘4之间。

具体地，锁止组件7包括托板71和推杆72，导流板221和中心圆台2之间设有偏转盒73，偏转盒73内转动穿设有固定轴74，固定轴74的上端伸出偏转盒73并与导流板221固定连接，偏转盒73内设有卷簧75，卷簧75套设于固定轴74上，且两端分别与固定轴74和偏转盒73固定连接。托板71与偏转盒73固定连接，并封闭通料口。推杆72与叉杆41的数量相等并一一对应，推杆72固定于环盘4上并邻近相应叉杆41。

环盘4转动时，带动推杆72公转，当推杆72经过托板71时，推杆72能够推动托板71偏转。托板71在偏转时，会通过偏转盒73带动卷簧75变形，实现卷簧75的蓄力。同时，托板71逐渐打开通料口。当通料口被完全打开后，紧跟推杆72后面的叉杆41刚好运动至通料口的正下方，此时，通料口处的轴圈100可以落入叉杆41上，并被叉杆41穿插其中，之后轴圈100被叉杆41带着一起公转。

当推杆72越过托板71后，托板71在卷簧75的弹力作用下复位，并重新封闭通料口，由此阻断后面的轴圈100的通过，这样可以将后面的轴圈100暂时保留于进料通道23内，直至下一叉杆41运动至通料口的正下方时，通料口被再次打开，轴圈100可以再次通过通料口落入该叉杆41上。由此，实现了轴圈100和叉杆41的一一匹配的关系，保证了每一轴圈100均可以落在一个叉杆41上，避免了轴圈100落空，从而保证了每个轴圈100后续的清洁过程。

需要说明地，偏转盒73上固定有挡条731，初始状态时，挡条731在进料通道23的外侧。当托板71打开通料口时，挡条731随偏转盒73和托板71偏转，挡条731逐渐伸入进料通道23内，并将通料口处的轴圈100和后面的轴圈100分隔开，挡条731用于阻挡后面的轴圈100继续向通料口处移动，保证每次只有一个轴圈100从通料口处下落，避免了后续轴圈100的干扰。

弧形条61包括第一弧条611和第二弧条612，第一弧条611的一端与中心轴6固定连接，第一弧条611的另一端与第二弧条612铰接，且第一弧条611和第二弧条612之间连接有避让扭簧。具体而言，避让扭簧可以与第一弧条611和第二弧条612的铰接轴同轴，避让扭簧的两端分别与第一弧条611和第二弧条612固定连接。

中心轴6转动时，第一弧条611和第二弧条612随之转动，并推动轴圈100在进料通道23内移动。当轴圈100因通料口的临时封闭，而逐渐堆积于通料口处时。第二弧条612在轴圈100的阻碍下会相对第一弧条611偏转，弧形条61呈现出弯折的姿态，之后弧形条61从堆积的轴圈100处越过，实现对轴圈100的避让。弧形条61越过轴圈100后，在避让扭簧的作用下，第二弧条612复位。

为了实现轴圈100端面和沟槽的清洁，本发明还提供了实施例二。

实施例二，在实施例一的基础上，继续参考图2至图9，锻造轴承内圈的清洁装置还包括承载台8和挤压单元9，承载台8有两个并均设置于环状间隙5内，两个承载台8沿环状间隙5的径向间隔开，承载台8为与环状间隙5同心的弧形。承载台8的一侧设有斜台81，斜台81用于将轴圈100引导至承载台8的台面上。

挤压单元9与承载台8的数量相等并一一对应，挤压单元9包括第一挤压板91和第二挤压板92，承载台8的台面上设有向下凹入的凹槽82，第一挤压板91沿环状间隙5的周向延伸，第一挤压板91竖直滑动配合在凹槽82内，并与承载台8之间连接有第一弹簧911。本实施例中，第一弹簧911可以有多个并沿第一挤压板91的延伸方向间隔分布。此外，第一挤压板91的边缘和承载台8的边缘通过防水塑料布912连接，防水塑料布912用于阻挡外界的污水和杂质进入第一挤压板91和承载台8之间的区域。

中心圆台2和外环台3上均固定有顶板24，两个顶板24与两个挤压单元9一一对应。顶板24在第一挤压板91的上方，第二挤压板92沿环状间隙5的周向延伸并位于顶板24和第一挤压板91之间，第二挤压板92与顶板24之间连接有第二弹簧921。本实施例中，第二弹簧921可以有多个并沿第二挤压板92的延伸方向间隔分布。此外，第二挤压板92的边缘和顶板24的边缘通过防污塑料布922连接，防污塑料布922用于阻挡外界的污水和杂质进入第二挤压板92和顶板24之间的区域。

第一挤压板91和第二挤压板92相对的表面均铺设有绒布层。

当叉杆41和轴圈100一起运动至承载台8区域时，叉杆41会从两个承载台8之间的间隙中通过，而轴圈100会由斜台81滑入承载台8上。然后，轴圈100的两个端面分别与第一挤压板91和第二挤压板92上的绒布层接触，同时轴圈100可以向两侧挤压第一挤压板91和第二挤压板92，迫使两者相互远离，这样使得第一挤压板91和第二挤压板92能够适应不同轴向高度的轴圈100。接着，叉杆41带动轴圈100继续公转，在绒布层的刮擦下，轴圈100的端面得到清洁。

外环台3的内周壁固定有沿环状间隙5的周向延伸的摩擦条32，摩擦条32位于第一挤压板91和第二挤压板92之间。具体地，摩擦条32的材质可以是硬质橡胶。

叉杆41带着轴圈100在第一挤压板91和第二挤压板92之间的空间运动时，轴圈100的外周面能够接触到摩擦条32，在摩擦条32的摩擦作用下，轴圈100能够自转动，在自转动时，轴圈100上的各部分均可以依次接触到绒布层，从而实现轴圈100的端面的全面清洁。

锻造轴承内圈的清洁装置还包括支撑板25和推板252，支撑板25固定于中心圆台2的外周壁，并位于第一挤压板91和第二挤压板92之间，支撑板25背离中心圆台2的一侧设有柔性的清洁头251，该清洁头251的材质可直接采用软海绵。

推板252有两个并分设于支撑板25的上下两侧，推板252背离中心圆台2的部分与支撑板25铰接，推板252的中心部分设有滑槽2521，推板252与支撑板25之间设有弹簧伸缩杆2522，弹簧伸缩杆2522的一端滑动配合于滑槽2521内，另一端与支撑板25固定连接，在弹簧伸缩杆2522的弹性力的作用下，两个推板252能够分别顶抵在第一挤压板91和第二挤压板92上，可以理解地，弹簧伸缩杆2522的弹性力小于第一弹簧911和第二弹簧921的弹力，这样避免了两个推板252向两侧推开第一挤压板91和第二挤压板92，保证了第一挤压板91和第二挤压板92上的绒布层对轴承的挤压接触的效果。推板252背离中心圆台2的一侧设有柔性的洁净头2523，该洁净头2523的材质可为软海绵。

轴圈100在第一挤压板91和第二挤压板92之间的区域滑动时，清洁头251能够伸入轴圈100的沟槽中，接触到沟槽槽壁的中心区域，两个洁净头2523也能够伸入轴圈100的沟槽中，接触到沟槽槽壁的上下两侧区域。当轴圈100在摩擦条32的摩擦作用下自转时，清洁头251结合洁净头2523能够实现对沟槽槽壁的全面清洁。

当轴圈100的轴向高度较高时，沟槽的轴向尺寸也会随之等比例变大。同时轴圈100能够使第一挤压板91和第二挤压板92分开更长的距离。而推板252在弹簧伸缩杆2522的作用下，能够时刻顶抵在第一挤压板91或第二挤压板92上。从而，第一挤压板91和第二挤压板92相互远离时，推板252会跟随偏转，即两个推板252会向外呈交叉状展开。此时，洁净头2523上会有更多的部分接触到沟槽的槽壁，这样设置使得沟槽的轴向尺寸变大时，洁净头2523和清洁头251依旧可以大致全部覆盖到沟槽的槽壁，实现了对沟槽槽壁的充分清洁。推板252的可偏转设计，提升了清洁头251和洁净头2523对不同轴向高度的轴圈100的适应能力。

锻造轴承内圈的清洁装置还包括出料台51和出料框512，出料台51架设于环状间隙5的上部区域，出料台51分别与中心圆台2和外环台3固定连接。出料台51具有沿环状间隙5的径向间隔开的两个斜坡511，第一挤压板91背离斜台81的一侧铰接有引导板83，两个引导板83与两个斜坡511一一对应，引导板83搭接于相应斜坡511上。出料框512自上而下倾斜，且其顶端连接在出料台51的台面上。

叉杆41带动轴圈100由承载台8上滑出时，轴圈100的两边搭在两个引导板83上，并由引导板83滑入斜坡511上，再由斜坡511运动至出料台51的台面上。而在此过程中，叉杆41依次由两个斜坡511的中间区域、出料台51的下方空间通过。之后，滑入出料台51的台面上的轴圈100，在后面轴圈100的连续挤压下，会被挤入出料框512中，并在重力作用下顺着出料框512向下滑动，直至滑出出料框512，由此实现清洁后的轴圈100的外排。

如图1至图10所示，本发明还提供一种锻造轴承内圈的清洁方法，采用上述实施例中的锻造轴承内圈的清洁装置，包括以下步骤：

将轴圈100放入环状间隙5内，并使轴圈100套在叉杆41上。

转动环盘4，环盘4带动叉杆41绕其轴心转动，叉杆41带着轴圈100公转。

轴圈100经过其中一个清洁凸台21时，轴圈100被夹在清洁凸台21和摩擦块411之间，在摩擦块411和轴圈100之间的摩擦作用下，摩擦块411带动轴圈100在清洁凸台21上滑动，以使轴圈100的外周面被清洁凸台21所清洁。

轴圈100经过其中一个摩擦凸台31时，轴圈100被夹在摩擦凸台31和清洁块412之间，在轴圈100和摩擦凸台31之间的摩擦作用下，轴承在公转的同时还发生自转，以使轴圈100的内周面被清洁块412所清洁。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个、三个等，除非另有明确具体的限定。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种锻造轴承内圈的清洁装置，包括工作台（1），其特征在于，还包括：

中心圆台（2）和外环台（3），中心圆台（2）安装于工作台（1）上，外环台（3）套置于中心圆台（2）的外周侧，并与工作台（1）连接，外环台（3）与中心圆台（2）之间形成环状间隙（5），环状间隙（5）内能够置入轴圈（100）；

环盘（4），环盘（4）转动套设于中心圆台（2）上，并能够对环状间隙（5）的底部形成封闭，环盘（4）上设有多个叉杆（41），叉杆（41）能够插入轴圈（100）内，叉杆（41）设有摩擦块（411）和用于清洁轴圈（100）内周面的清洁块（412）；中心圆台（2）的外周壁设有多个用于清洁轴圈（100）外周面的清洁凸台（21），外环台（3）的内周壁设有多个摩擦凸台（31），多个清洁凸台（21）和多个摩擦凸台（31）沿环状间隙（5）的周向交错布置。

2.根据权利要求1所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，锻造轴承内圈的清洁装置还包括：

承载台（8），承载台（8）有两个并均设置于环状间隙（5）内，两个承载台（8）沿环状间隙（5）的径向间隔开，承载台（8）的一侧设有斜台（81）；

挤压单元（9），挤压单元（9）与承载台（8）的数量相等并一一对应，挤压单元（9）包括第一挤压板（91）和第二挤压板（92），第一挤压板（91）与相应承载台（8）弹性滑动连接，第二挤压板（92）位于第一挤压板（91）的上方并与工作台（1）弹性滑动连接，第一挤压板（91）和第二挤压板（92）相对的表面均铺设有绒布层，轴圈（100）进入第一挤压板（91）和第二挤压板（92）之间的空间时，第一挤压板（91）和第二挤压板（92）上的绒布层分别与轴圈（100）的两个端面接触。

3.根据权利要求2所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，所述外环台（3）的内周壁设有沿环状间隙（5）的周向延伸的摩擦条（32），摩擦条（32）位于第一挤压板（91）和第二挤压板（92）之间，轴圈（100）进入第一挤压板（91）和第二挤压板（92）之间的空间时，能够与摩擦条（32）接触。

4.根据权利要求2所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，锻造轴承内圈的清洁装置还包括：

支撑板（25），支撑板（25）设于中心圆台（2）上，并位于第一挤压板（91）和第二挤压板（92）之间，支撑板（25）背离中心圆台（2）的一侧设有柔性的清洁头（251），清洁头（251）能够能够对轴圈（100）的沟槽的中心区域进行清洁；

推板（252），推板（252）有两个并分设于支撑板（25）的上下两侧，推板（252）背离中心圆台（2）的部分与支撑板（25）铰接，推板（252）的中心部分与支撑板（25）弹性连接，在弹性力的作用下，两个推板（252）能够分别顶抵在第一挤压板（91）和第二挤压板（92）上；推板（252）背离中心圆台（2）的一侧设有柔性的洁净头（2523），洁净头（2523）能够对沟槽的两侧区域进行清洁。

5.根据权利要求2所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，锻造轴承内圈的清洁装置还包括：

出料台（51），出料台（51）设于环状间隙（5）内，出料台（51）具有沿环状间隙（5）的径向间隔开的两个斜坡（511），第一挤压板（91）背离斜台（81）的一侧铰接有引导板（83），两个引导板（83）与两个斜坡（511）一一对应，引导板（83）搭接于相应斜坡（511）上；

出料框（512），出料框（512）自上而下倾斜，且其顶端连接在出料台（51）的台面上。

6.根据权利要求1所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，锻造轴承内圈的清洁装置还包括：

中心轴（6），中心轴（6）转动安装在中心圆台（2）上，中心轴（6）设有沿其周向间隔分布的多个弧形条（61）；

导流板（221），中心圆台（2）的边缘设有呈环形的护板（22），导流板（221）设于护板（22）的内侧，且导流板（221）与护板（22）之间形成进料通道（23），进料通道（23）的末端形成通料口，通料口与环状间隙（5）连通；

锁止组件（7），锁止组件（7）设置于中心圆台（2）与环盘（4）之间，常态下，锁止组件（7）封闭通料口，环盘（4）转动时，锁止组件（7）能够打开通料口，并使轴圈（100）落入叉杆（41）上。

7.根据权利要求6所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，所述锁止组件（7）包括：

托板（71），托板（71）封闭通料口，并与导流板（221）铰接，托板（71）与导流板（221）之间还连接有卷簧（75）；

推杆（72），推杆（72）与叉杆（41）的数量相等并一一对应，推杆（72）安装于环盘（4）上并邻近相应叉杆（41），推杆（72）随环盘（4）转动的过程中，在经过托板（71）时，推杆（72）能够推动托板（71）偏转，以使托板（71）打开通料口。

8.根据权利要求6所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，所述弧形条（61）包括第一弧条（611）和第二弧条（612），第一弧条（611）和第二弧条（612）铰接，且第一弧条（611）和第二弧条（612）之间连接有避让扭簧。

9.根据权利要求1所述的锻造轴承内圈的清洁装置，其特征在于，锻造轴承内圈的清洁装置还包括：

外齿圈（42），外齿圈（42）套装于环盘（4）上；

电机（14），电机（14）安装于工作台（1）上，电机（14）的输出轴上套装有齿轮（141），齿轮（141）与外齿圈（42）啮合；中心圆台（2）的内部为中空，中心轴（6）的一端伸入中心圆台（2）的内部，并与电机（14）的输出轴传动连接。

10.一种锻造轴承内圈的清洁方法，其特征在于，采用如权利要求1所述的锻造轴承内圈的清洁装置，包括以下步骤：

将轴圈（100）放入环状间隙（5）内，并使轴圈（100）套在叉杆（41）上；

转动环盘（4），环盘（4）带动叉杆（41）绕其轴心转动，叉杆（41）带着轴圈（100）公转；

轴圈（100）经过其中一个清洁凸台（21）时，轴圈（100）被夹在清洁凸台（21）和摩擦块（411）之间，在摩擦块（411）和轴圈（100）之间的摩擦作用下，摩擦块（411）带动轴圈（100）在清洁凸台（21）上滑动，以使轴圈（100）的外周面被清洁凸台（21）所清洁；

轴圈（100）经过其中一个摩擦凸台（31）时，轴圈（100）被夹在摩擦凸台（31）和清洁块（412）之间，在轴圈（100）和摩擦凸台（31）之间的摩擦作用下，轴承在公转的同时还发生自转，以使轴圈（100）的内周面被清洁块（412）所清洁。