CN118002546A - 一种硅片用自动清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种硅片用自动清洗装置，属于硅片清洗技术领域。该硅片用自动清洗装置，通过电机驱动转轴旋转，转轴通过皮带传动结构带动丝杆驱动螺纹座运动，使螺纹座带动齿段运动，齿段移动过程逐渐与两侧的齿轮进行啮合传动，使齿轮带动销轴盒限位框转动，使每个限位框依次进行翻转运动，使限位框翻向另一侧可保持与原排列的限位框相反设置，则可增加两个限位框之间的间距，增加对硅片的清洗面积，避免间距较小导致无法清洗，而且方便了硅片的清洗作业，提高清洗效果，其次在限位框翻转过程，上方的弹性气囊可将气囊头内部气体回收，而下方的弹性气囊通过受到限位框挤压将气体压入气囊头，使硅片的固定点可切换，实现对硅片的全面清洁作业。

Description

一种硅片用自动清洗装置

技术领域

本发明涉及硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片用自动清洗装置。

背景技术

随着社会的发展，硅片的应用越来越广泛，有的应用于太阳能发电，有的应用于制作半导体的材料，在半导体器件的制造过程中，硅片表面的清洁非常重要，这是由于硅片表面的任何污染物都可能会对所制造的器件的品质造成不良的影响，因此在半导体器件制造过程中，通常会利用含有离子水的清洗剂对其进冲洗。

在现有技术中，通常将承载有硅片的承载篮挂在悬臂式清洗机上清洗，然而该种清洗机在清洗过程中，通常是将整批硅片放在承载篮中同时进行冲洗，由于多个硅片之间的间距较小，使得部分表面不能被冲洗到，降低了清洁效果，而且放置在承载篮上方的硅片存在部分区域与承载篮始终接触，容易出现清洁不到的现象，难以实现彻底清洁，而且在清洗后将其取出时，其表面附着的清洗溶液较多，直接移动到下一区域时容易滴落从而对清洗设备造成污染，而且造成了溶液的浪费，因此，研究一种新的硅片用自动清洗装置来解决上述问题具有重要意义。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是在清洗过程中，通常是将整批硅片放在承载篮中同时进行冲洗，由于多个硅片之间的间距较小，使得部分表面不能被冲洗到，降低了清洁效果，而且放置在承载篮上方的硅片存在部分区域与承载篮始终接触，容易出现清洁不到的现象，难以实现彻底清洁，而且在清洗后将其取出时，其表面附着的清洗溶液较多，直接移动到下一区域时容易滴落从而对清洗设备造成污染，而且造成了溶液的浪费的问题。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种硅片用自动清洗装置，包括，

清洗机构，包括清洗设备及设在清洗设备中的多个清洗槽，所述清洗槽的内部设有两个网框，所述网框的内部装配有转动组件，所述转动组件的两侧均固定连接有两个用于对硅片固定的固定组件，两个网框的上方固定连接有同一支架；以及

辅助清洁机构，包括两个支撑板及装配在两个支撑板上的螺纹驱动组件，所述螺纹驱动组件位于网框的下方，两个支撑板固定连接在弹性组件的上方，所述网框卡合在弹性组件上，所述弹性组件的两侧均固定连接有限位组件，所述限位组件固定连接在清洗槽的底壁上，所述弹性组件固定连接在清洗槽的底壁上，所述弹性组件的两侧上方均固定连接有滑轮，所述滑轮的上方配合有抖动组件，所述抖动组件固定连接在支撑板上，两个抖动组件与螺纹驱动组件传动连接。

作为本发明的进一步方案：所述螺纹驱动组件包括丝杆，所述丝杆通过两个轴承分别转动连接在两个支撑板上，所述丝杆上螺纹连接有螺纹座，所述螺纹座的上方固定连接有齿段。

作为本发明的进一步方案：所述螺纹座滑动连接在导向条上，所述导向条的两端分别与两个支撑板固定连接，所述丝杆的两端连接有皮带传动结构。

作为本发明的进一步方案：所述抖动组件包括转轴，所述转轴通过轴承转动连接在支撑板上，所述转轴通过皮带传动结构与丝杆传动连接，所述转轴的一端固定连接有圆盘，所述圆盘外固定连接有三个凸起，三个凸起与滑轮交替配合，其中一个转轴与电机输出轴固定连接，所述电机通过支座固定连接在支撑板上。

作为本发明的进一步方案：所述转动组件包括限位框，所述限位框通过销轴转动连接在网框中，所述销轴的一端固定连接有齿轮，且限位框用于对硅片进行存放。

作为本发明的进一步方案：所述固定组件包括弹性气囊，所述弹性气囊固定连接在限位框中，所述弹性气囊的一侧连通有连接管，所述连接管的两端穿过限位框并与气囊头连通，所述气囊头固定连接在限位框的内壁两侧。

作为本发明的进一步方案：所述弹性组件包括支撑框，所述支撑框的四角均固定连接有滑套，所述滑套滑动连接在支撑杆上，所述滑轮固定连接在支撑框上。

作为本发明的进一步方案：所述支撑杆固定连接在清洗槽底壁上，所述滑套的下方固定连接有第一弹簧，所述第一弹簧的底端与支撑杆的下方固定连接。

作为本发明的进一步方案：所述支撑框的上方固定连接有四个伸缩杆和四个第二弹簧，四个伸缩杆和四个第二弹簧的顶端与底框固定连接，所述底框上开设有四个限位口，所述网框的下方设有四个卡套，卡套卡合在限位口中。

作为本发明的进一步方案：所述限位组件包括固定板，所述固定板固定连接在支撑框上，所述固定板上开设有异形槽和垂直槽，垂直槽的上方与异形槽连通，所述异形槽的上方卡合在限位杆上，所述限位杆固定连接在清洗槽的底壁上，所述垂直槽底部的开槽深度小于异形槽底部的深度，垂直槽上方深度与异形槽相同。

与现有技术相比，本发明提供了一种硅片用自动清洗装置，具备以下有益效果：

1、该硅片用自动清洗装置，通过电机驱动转轴旋转，转轴通过皮带传动结构带动丝杆旋转，丝杆驱动螺纹座运动，使螺纹座带动齿段运动，齿段移动过程逐渐与两侧的齿轮进行啮合传动，使齿轮带动销轴盒限位框转动，使每个限位框依次进行翻转运动，使限位框翻向另一侧可保持与原排列的限位框相反设置，则可增加两个限位框之间的间距，增加对硅片的清洗面积，避免间距较小导致无法清洗，而且方便了硅片的清洗作业，提高清洗效果，其次在限位框翻转过程，上方的弹性气囊可将气囊头内部气体回收，而下方的弹性气囊通过受到限位框挤压将气体压入气囊头，使硅片的固定点可切换，实现对硅片的全面清洁作业；

2、该硅片用自动清洗装置，通过电机驱动转轴旋转，转轴带动圆盘旋转，圆盘带动凸起旋转，使凸起可交替与滑轮之间进行挤压运动，使滑轮带动支撑框向下运动，使第一弹簧形变，当凸起脱离圆盘，使第一弹簧的弹性力带动支撑框复位，使凸起可配合第一弹簧带动支撑框震动，使底框进行震动，从而可保持网框处于震动状态，从而可提高硅片的清洗效果，使硅片清洁的更为彻底，提高清洗质量；

3、该硅片用自动清洗装置，通过向下按压网框，网框下压底框带动支撑框向下移动，支撑框带动固定板向下运动，固定板下移可通过异形槽的斜面挤压限位杆产生弹性弯曲，使限位杆滑动至垂直槽上方，此时通过第一弹簧的弹性复位即可带动支撑框向上复位，使支撑框带动底框向上运动，使网框向上顶出清洗槽，从而使网框中的硅片脱离清洗溶液，便于硅片的沥水，此时可通过电机驱动转轴带动圆盘旋转，使凸起交错与滑轮挤压，每次挤压，使第一弹簧形变，使第一弹簧配合凸起可保持支撑框震动，使网框震动可将硅片上残留的水分快速沥掉，其次转轴还通过皮带传动结构带动丝杆旋转，丝杆驱动螺纹座和齿段移动，齿段依次与齿轮传动，使销轴带动限位框旋转，限位框旋转可带动硅片进行转向，从而可增大硅片之间的间隙，提高硅片的干燥效果，而且利于清洗设备的快速烘干。

附图说明

图1为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中立体的结构示意图。

图2为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中清洗槽俯视的结构示意图。

图3为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中辅助清洁机构与网框连接的结构示意图。

图4为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中辅助清洁机构立体的结构示意图。

图5为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中网框与支架连接的结构示意图。

图6为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中网框与转动组件连接的结构示意图。

图7为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中螺纹驱动组件立体的结构示意图。

图8为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中图7中A处放大的结构示意图。

图9为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中转动组件立体的结构示意图。

图10为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中固定组件立体的结构示意图。

图11为本发明提供的实施例所述的一种硅片用自动清洗装置中弹性组件立体的结构示意图。

图中：100、清洗机构；101、清洗设备；102、清洗槽；103、网框；104、转动组件；1041、限位框；1042、销轴；1043、齿轮；105、固定组件；1051、弹性气囊；1052、连接管；1053、气囊头；106、支架；200、辅助清洁机构；201、弹性组件；2011、支撑框；2012、滑套；2013、支撑杆；2014、第一弹簧；2015、第二弹簧；2016、伸缩杆；2017、底框；2018、限位口；202、限位组件；2021、固定板；2022、垂直槽；2023、异形槽；2024、限位杆；203、螺纹驱动组件；2031、丝杆；2032、螺纹座；2033、导向条；2034、皮带传动结构；2035、齿段；204、抖动组件；2041、转轴；2042、圆盘；2043、凸起；205、滑轮；206、电机；207、支撑板。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

实施例1：如图1-7和图9-10所示，本发明提供一种技术方案：一种硅片用自动清洗装置，包括，

清洗机构100，包括清洗设备101及设在清洗设备101中的多个清洗槽102，清洗槽102的内部设有两个网框103，通过网框103可对硅片存放，而且网框103为网孔设置，可确保溶液浸入网框103中，网框103的内部装配有转动组件104，转动组件104包括限位框1041，通过限位框1041可对硅片定位支撑，防止硅片错位，限位框1041通过销轴1042转动连接在网框103中，限位框1041可通过销轴1042顺利实现转向的作用，使硅片可进行角度翻转，从而可实现硅片两面切换进行清洗作业，销轴1042的一端固定连接有齿轮1043，且限位框1041用于对硅片进行存放，转动组件104的两侧均固定连接有两个用于对硅片固定的固定组件105，固定组件105包括弹性气囊1051，弹性气囊1051具有弹性力，使弹性气囊1051可进行弹性复位，使气囊头1053内部的空气可回抽，从而可松脱对硅片的定位，弹性气囊1051固定连接在限位框1041中，弹性气囊1051的一侧连通有连接管1052，连接管1052的两端穿过限位框1041并与气囊头1053连通，通过连接管1052可起到输气的作用，从而气体可在弹性气囊1051和气囊头1053中回流，气囊头1053固定连接在限位框1041的内壁两侧，两个网框103的上方固定连接有同一支架106，通过支架106可连接两个网框103，从而使清洗设备101的机械手可通过支架106转移网框103移动至下一工位；

辅助清洁机构200，包括两个支撑板207及装配在两个支撑板207上的螺纹驱动组件203，螺纹驱动组件203包括丝杆2031，丝杆2031通过两个轴承分别转动连接在两个支撑板207上，丝杆2031上螺纹连接有螺纹座2032，丝杆2031旋转可带动螺纹座2032运动，使螺纹座2032可沿着丝杆2031实现远距离位移，使螺纹座2032可带动齿段2035依次与齿轮1043进行传动，螺纹座2032的上方固定连接有齿段2035，螺纹座2032滑动连接在导向条2033上，通过导向条2033可以对螺纹座2032导向，使螺纹座2032可保持平稳运动，避免螺纹座2032旋转，导向条2033的两端分别与两个支撑板207固定连接，丝杆2031的两端连接有皮带传动结构2034，螺纹驱动组件203位于网框103的下方，两个支撑板207固定连接在弹性组件201的上方，网框103卡合在弹性组件201上，弹性组件201的两侧均固定连接有限位组件202，限位组件202固定连接在清洗槽102的底壁上，通过清洗槽102可以对清洗溶液起到存放的作用，弹性组件201固定连接在清洗槽102的底壁上，弹性组件201的两侧上方均固定连接有滑轮205，滑轮205的上方配合有抖动组件204，抖动组件204包括转轴2041，转轴2041通过轴承转动连接在支撑板207上，转轴2041通过皮带传动结构2034与丝杆2031传动连接，转轴2041的一端固定连接有圆盘2042，圆盘2042外固定连接有三个凸起2043，三个凸起2043与滑轮205交替配合，其中一个转轴2041与电机206输出轴固定连接，电机206通过支座固定连接在支撑板207上，抖动组件204固定连接在支撑板207上，两个抖动组件204与螺纹驱动组件203传动连接。

本实施例中，通过电机206驱动转轴2041旋转，转轴2041通过皮带传动结构2034带动丝杆2031旋转，丝杆2031驱动螺纹座2032运动，使螺纹座2032带动齿段2035运动，齿段2035移动过程逐渐与两侧的齿轮1043进行啮合传动，使齿轮1043带动销轴1042盒限位框1041转动，使每个限位框1041依次进行翻转运动，使限位框1041翻向另一侧可保持与原排列的限位框1041相反设置，则可增加两个限位框1041之间的间距，增加对硅片的清洗面积，避免间距较小导致无法清洗，而且方便了硅片的清洗作业，提高清洗效果，其次在限位框1041翻转过程，上方的弹性气囊1051可将气囊头1053内部气体回收，而下方的弹性气囊1051通过受到限位框1041挤压将气体压入气囊头1053，使硅片的固定点可切换，实现对硅片的全面清洁作业。

实施例2：结合附图7-8和附图11，得出：抖动组件204包括转轴2041，转轴2041通过轴承转动连接在支撑板207上，转轴2041可依靠轴承保持稳定旋转，降低转轴2041转动阻力，转轴2041通过皮带传动结构2034与丝杆2031传动连接，通过皮带传动结构2034可实现动力的远距离传递，从而使转轴2041可通过皮带传动结构2034驱动丝杆2031旋转，转轴2041的一端固定连接有圆盘2042，圆盘2042外固定连接有三个凸起2043，三个凸起2043与滑轮205交替配合，通过滑轮205的滚动可降低与凸起2043摩擦阻力，从而保持凸起2043的流畅运动，避免出现卡阻影响网框103的震动，其中一个转轴2041与电机206输出轴固定连接，电机206可实现驱动转轴2041运动，并且电机206外部设有防水壳，从而可避免电机206漏电，电机206通过支座固定连接在支撑板207上，通过支座可对电机206起到安装固定；

弹性组件201包括支撑框2011，支撑框2011的四角均固定连接有滑套2012，滑套2012滑动连接在支撑杆2013上，通过支撑杆2013可以对滑套2012导向，使滑套2012可沿着支撑杆2013上下平稳运动，使支撑框2011可平稳运动，滑轮205固定连接在支撑框2011上，支撑杆2013固定连接在清洗槽102底壁上，滑套2012的下方固定连接有第一弹簧2014，通过第一弹簧2014的弹性力可实现支撑框2011的震动，第一弹簧2014的底端与支撑杆2013的下方固定连接，支撑框2011的上方固定连接有四个伸缩杆2016和四个第二弹簧2015，通过第二弹簧2015的弹性力，则可保持底框2017震动，从而使网框103可震动提高硅片的清洗效果，四个伸缩杆2016和四个第二弹簧2015的顶端与底框2017固定连接，底框2017上开设有四个限位口2018，网框103的下方设有四个卡套，通过卡套卡在限位口2018中，从而可对网框103限位，防止网框103偏移，卡套卡合在限位口2018中。

本实施例中：通过电机206驱动转轴2041旋转，转轴2041带动圆盘2042旋转，圆盘2042带动凸起2043旋转，使凸起2043可交替与滑轮205之间进行挤压运动，使凸起2043可带动圆盘2042、转轴2041和支撑板207向上运动，使第二弹簧2015产生形变，直至凸起2043与滑轮205分离，使第二弹簧2015带动支撑板207向下复位，以此使凸起2043、滑轮205和第二弹簧2015配合可带动支撑板207和底框2017上下往复进行震动，从而可保持网框103处于震动状态，从而可提高硅片的清洗效果，使硅片清洁的更为彻底，提高清洗质量。

实施例3：结合附图7-8和附图11，得出：抖动组件204包括转轴2041，转轴2041通过轴承转动连接在支撑板207上，转轴2041通过皮带传动结构2034与丝杆2031传动连接，转轴2041的一端固定连接有圆盘2042，圆盘2042外固定连接有三个凸起2043，三个凸起2043与滑轮205交替配合，其中一个转轴2041与电机206输出轴固定连接，电机206通过支座固定连接在支撑板207上；

螺纹驱动组件203包括丝杆2031，丝杆2031通过两个轴承分别转动连接在两个支撑板207上，丝杆2031上螺纹连接有螺纹座2032，螺纹座2032的上方固定连接有齿段2035，螺纹座2032滑动连接在导向条2033上，导向条2033的两端分别与两个支撑板207固定连接，丝杆2031的两端连接有皮带传动结构2034；

弹性组件201包括支撑框2011，支撑框2011的四角均固定连接有滑套2012，滑套2012滑动连接在支撑杆2013上，滑轮205固定连接在支撑框2011上，支撑杆2013固定连接在清洗槽102底壁上，滑套2012的下方固定连接有第一弹簧2014，第一弹簧2014的底端与支撑杆2013的下方固定连接，支撑框2011的上方固定连接有四个伸缩杆2016和四个第二弹簧2015，四个伸缩杆2016和四个第二弹簧2015的顶端与底框2017固定连接，底框2017上开设有四个限位口2018，网框103的下方设有四个卡套，卡套卡合在限位口2018中；

限位组件202包括固定板2021，固定板2021固定连接在支撑框2011上，固定板2021上开设有异形槽2023和垂直槽2022，垂直槽2022的上方与异形槽2023连通，异形槽2023的上方卡合在限位杆2024上，限位杆2024固定连接在清洗槽102的底壁上，垂直槽2022底部的开槽深度小于异形槽2023底部的深度，垂直槽2022上方深度与异形槽2023相同，通过继续下压网框103，使支撑框2011带动固定板2021向下运动，由于异形槽2023的下方为斜面，并且下方深度大于垂直槽2022下方深度，防止限位杆2024向上进入垂直槽2022，其次限位杆2024具有弹性可形变性，使限位杆2024可弯折并顺着异形槽2023向上运动，其次异形槽2023的上方两个壁均为V形设置，且上方的V形与下方的V形错位，使第一弹簧2014向上复位可带动支撑框2011向上运动，使限位杆2024卡在异形槽2023的夹角处，其次两个V形夹角错位，使限位杆2024可受到异形槽2023最上方的斜面产生挤压运动顺利进入垂直槽2022。

本实施例中：通过向下按压网框103，网框103下压底框2017带动支撑框2011向下移动，支撑框2011带动固定板2021向下运动，固定板2021下移可通过异形槽2023的斜面挤压限位杆2024产生弹性弯曲，使限位杆2024滑动至垂直槽2022上方，此时通过第一弹簧2014的弹性复位即可带动支撑框2011向上复位，使支撑框2011带动底框2017向上运动，使网框103向上顶出清洗槽102，从而使网框103中的硅片脱离清洗溶液，便于硅片的沥水，此时可通过电机206驱动转轴2041带动圆盘2042旋转，使凸起2043交错与滑轮205挤压，每次挤压，使第一弹簧2014形变，使第一弹簧2014配合凸起2043可保持支撑框2011震动，使网框103震动可将硅片上残留的水分快速沥掉，其次转轴2041还通过皮带传动结构2034带动丝杆2031旋转，丝杆2031驱动螺纹座2032和齿段2035移动，齿段2035依次与齿轮1043传动，使销轴1042带动限位框1041旋转，限位框1041旋转可带动硅片进行转向，从而可增大硅片之间的间隙，提高硅片的干燥效果，而且利于清洗设备101的快速烘干。

本发明的工作原理为：通过电机206驱动转轴2041旋转，转轴2041带动圆盘2042旋转，圆盘2042带动凸起2043旋转，使凸起2043交替与滑轮205挤压运动，使凸起2043通过圆盘2042和转轴2041带动支撑板207向上移动，支撑板207带动底框2017向上移动，底框2017带动第二弹簧2015形变，当凸起2043与滑轮205分离，此时第二弹簧2015可带动底框2017向下复位，直至凸起2043再次与滑轮205进行挤压运动，使凸起2043、滑轮205和第二弹簧2015配合可带动底框2017上下震动，底框2017可带动网框103实现震动，使网框103震动并带动硅片处于震动状态，从而利于硅片的清洗作业，其次清洗过程，转轴2041还通过皮带传动结构2034带动丝杆2031旋转，丝杆2031带动螺纹座2032移动，螺纹座2032带动齿段2035移动，齿段2035移动依次与齿轮1043传动，使齿轮1043带动销轴1042旋转，销轴1042带动限位框1041转向并靠近网框103侧壁，使两个限位框1041间距增加，而且起到硅片的翻面作业，便于硅片的清洗，而且限位框1041翻转可带动上方的弹性气囊1051与另一限位框1041分离，使弹性气囊1051弹性恢复可将气囊头1053内部气体抽回，而另一弹性气囊1051受到网框103的挤压产生压缩，使气体通过连接管1052进入气囊头1053，使气囊头1053膨胀可对硅片进行切换定位，保持硅片的全面清理，在清洗后，再按压网框103，使网框103通过底框2017下压支撑框2011，使固定板2021下移，并通过异形槽2023挤压限位杆2024弯折，使限位杆2024处于垂直槽2022位置，此时第一弹簧2014弹性力向上复位，使支撑框2011和底框2017可将网框103顶出清洗槽102，从而利于硅片进行沥水作业，待清洗设备101对硅片烘干后，则清洗设备101的机械手将支架106托起可转移下一工位进行处理。

以上，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：包括，

清洗机构（100），包括清洗设备（101）及设在清洗设备（101）中的多个清洗槽（102），所述清洗槽（102）的内部设有两个网框（103），所述网框（103）的内部装配有转动组件（104），所述转动组件（104）的两侧均固定连接有两个用于对硅片固定的固定组件（105），两个网框（103）的上方固定连接有同一支架（106）；以及

辅助清洁机构（200），包括两个支撑板（207）及装配在两个支撑板（207）上的螺纹驱动组件（203），所述螺纹驱动组件（203）位于网框（103）的下方，两个支撑板（207）固定连接在弹性组件（201）的上方，所述网框（103）卡合在弹性组件（201）上，所述弹性组件（201）的两侧均固定连接有限位组件（202），所述限位组件（202）固定连接在清洗槽（102）的底壁上，所述弹性组件（201）固定连接在清洗槽（102）的底壁上，所述弹性组件（201）的两侧上方均固定连接有滑轮（205），所述滑轮（205）的上方配合有抖动组件（204），所述抖动组件（204）固定连接在支撑板（207）上，两个抖动组件（204）与螺纹驱动组件（203）传动连接。

2.如权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述螺纹驱动组件（203）包括丝杆（2031），所述丝杆（2031）通过两个轴承分别转动连接在两个支撑板（207）上，所述丝杆（2031）上螺纹连接有螺纹座（2032），所述螺纹座（2032）的上方固定连接有齿段（2035）。

3.如权利要求2所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述螺纹座（2032）滑动连接在导向条（2033）上，所述导向条（2033）的两端分别与两个支撑板（207）固定连接，所述丝杆（2031）的两端连接有皮带传动结构（2034）。

4.如权利要求3所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述抖动组件（204）包括转轴（2041），所述转轴（2041）通过轴承转动连接在支撑板（207）上，所述转轴（2041）通过皮带传动结构（2034）与丝杆（2031）传动连接，所述转轴（2041）的一端固定连接有圆盘（2042），所述圆盘（2042）外固定连接有三个凸起（2043），三个凸起（2043）与滑轮（205）交替配合，其中一个转轴（2041）与电机（206）输出轴固定连接，所述电机（206）通过支座固定连接在支撑板（207）上。

5.如权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述转动组件（104）包括限位框（1041），所述限位框（1041）通过销轴（1042）转动连接在网框（103）中，所述销轴（1042）的一端固定连接有齿轮（1043），且限位框（1041）用于对硅片进行存放。

6.如权利要求5所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述固定组件（105）包括弹性气囊（1051），所述弹性气囊（1051）固定连接在限位框（1041）中，所述弹性气囊（1051）的一侧连通有连接管（1052），所述连接管（1052）的两端穿过限位框（1041）并与气囊头（1053）连通，所述气囊头（1053）固定连接在限位框（1041）的内壁两侧。

7.如权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述弹性组件（201）包括支撑框（2011），所述支撑框（2011）的四角均固定连接有滑套（2012），所述滑套（2012）滑动连接在支撑杆（2013）上，所述滑轮（205）固定连接在支撑框（2011）上。

8.如权利要求7所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述支撑杆（2013）固定连接在清洗槽（102）底壁上，所述滑套（2012）的下方固定连接有第一弹簧（2014），所述第一弹簧（2014）的底端与支撑杆（2013）的下方固定连接。

9.如权利要求7所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述支撑框（2011）的上方固定连接有四个伸缩杆（2016）和四个第二弹簧（2015），四个伸缩杆（2016）和四个第二弹簧（2015）的顶端与底框（2017）固定连接，所述底框（2017）上开设有四个限位口（2018），所述网框（103）的下方设有四个卡套，卡套卡合在限位口（2018）中。

10.如权利要求7所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于：所述限位组件（202）包括固定板（2021），所述固定板（2021）固定连接在支撑框（2011）上，所述固定板（2021）上开设有异形槽（2023）和垂直槽（2022），垂直槽（2022）的上方与异形槽（2023）连通，所述异形槽（2023）的上方卡合在限位杆（2024）上，所述限位杆（2024）固定连接在清洗槽（102）的底壁上，所述垂直槽（2022）底部的开槽深度小于异形槽（2023）底部的深度，垂直槽（2022）上方深度与异形槽（2023）相同。