CN117457537A - 一种晶圆清洗装置及其清洗方法 - Google Patents

一种晶圆清洗装置及其清洗方法 Download PDF

Info

Publication number
CN117457537A
CN117457537A CN202311469924.1A CN202311469924A CN117457537A CN 117457537 A CN117457537 A CN 117457537A CN 202311469924 A CN202311469924 A CN 202311469924A CN 117457537 A CN117457537 A CN 117457537A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning
plate
wafer
rotating
gear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202311469924.1A
Other languages
English (en)
Inventor
陆金发
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xi'an Xinmei Technology Co ltd
Original Assignee
Xi'an Xinmei Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xi'an Xinmei Technology Co ltd filed Critical Xi'an Xinmei Technology Co ltd
Priority to CN202311469924.1A priority Critical patent/CN117457537A/zh
Publication of CN117457537A publication Critical patent/CN117457537A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明涉及晶圆清洗领域,且公开了一种晶圆清洗装置及其清洗方法,有效的解决了目前晶圆上的杂质易沾附在清洗刷上,影响后续清洗刷对晶圆的清洁的问题,包括底座,所述底座的顶端等角度安装有三个夹持转动组件,底座的顶端安装有刷洗清洁组件,刷洗清洁组件包括安装于底座顶端中部的底板,底板的上方设有安装板,安装板的顶端对称安装有两个第二气缸,本发明,通过清洁辊转动,不断带动转动杆朝着与清洁辊转动方向相反的一侧转动,使得除杂刷毛的移动方向与清洁刷毛移动方向相反,除杂刷毛将转动至清洁辊下方清洁刷毛上杂质勾下,方便勾板抛液单元的清洁,提高后续勾板抛液单元对晶圆的清洁效果。

Description

一种晶圆清洗装置及其清洗方法
技术领域
本发明属于晶圆清洗领域,具体为一种晶圆清洗装置及其清洗方法。
背景技术
根据授权公告号为“CN113770079B”,发明名称为“一种晶圆清洗装置”的专利文件,其说明书中记载:调节多个滚轮的位置,使多个滚轮能沿晶圆的周向夹紧晶圆,开启第一驱动件,经由联轴器和转轴带动滚轮转动,通过摩擦力带动晶圆自转,开启顶升件带动支撑架朝靠近晶圆的方向移动,直至清洗刷筒的外壁与晶圆的外表面接触,开启进水件,往清洗刷轴内的空腔注入清洗介质,部分清洗介质从注水孔流出至清洗刷筒上,对清洗刷筒进行浸润,部分清洗介质从注水孔和冲洗孔中喷出,直接对晶圆进行冲洗,开启转动件带动清洗刷轴转动,从而带动清洗刷筒转动,实现清洗晶圆的表面的功能,但是仍旧存在以下缺陷:
在清洗刷对晶圆进行清洗时,杂质易沾附在清洗刷上,当清洗刷重复对晶圆进行刷洗时,清洗刷上杂质越积越多,继而影响后续清洗刷对晶圆的清洁。
发明内容
针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本发明提供一种晶圆清洗装置及其清洗方法,有效的解决了目前晶圆上的杂质易沾附在清洗刷上,影响后续清洗刷对晶圆的清洁的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种晶圆清洗装置,包括底座,所述底座的顶端等角度安装有三个夹持转动组件,底座的顶端安装有刷洗清洁组件;
刷洗清洁组件包括安装于底座顶端中部的底板,底板的上方设有安装板,安装板的顶端对称安装有两个第二气缸,第二气缸的输出端与安装板的底壁固定连接,安装板的顶端对称安装有两个侧板,侧板与安装板垂直设置,两个侧板之间安装有清洁辊,清洁辊的下方设有刷毛清洁组件,清洁辊的内部开设有内腔,清洁辊的外侧安装有外部套,外部套的外侧均匀安装有清洁刷毛,清洁辊的一端安装有转轴,转轴与一侧的侧板转动连接,转轴的一端与第二电机的输出轴固定连接,第二电机固定安装于侧板上,清洁辊的另一端安装有转动管,转动管与内腔相连通,转动管转动安装于另一个侧板内部,另一个侧板内部开设有连通腔,连通腔与转动管相连通,另一个侧板的一侧安装有进液管,进液管与连通腔相连通,清洁辊的外壁上均匀开设有浸润孔,外部套上均匀开设有喷液孔,浸润孔与喷液孔一一对应;
刷毛清洁组件包括设于清洁辊下方的底部水箱,底部水箱固定安装于安装板的顶壁上,底部水箱的内部转动安装有转动杆,转动杆位于清洁辊的下方,且转动杆与清洁辊平行设置,转动杆的一端安装有第二齿轮,第二齿轮位于底部水箱的一侧,转轴上安装有第一齿轮,第二齿轮位于第一齿轮的下方,且第二齿轮与第一齿轮相啮合,转动杆的外侧均匀安装有除杂刷毛,转动杆的两侧对称设有两个辅助清洁单元。
优选的,所述夹持转动组件包括等角度安装于底座顶端的固定座,各个固定座均朝向底座的垂直轴线方向设置,固定座的上方设有移动座,移动座的底端安装有滑块,滑块滑动安装于滑槽内部,滑槽开设于固定座上,滑块远离底座的垂直轴线一侧与第一气缸的输出端固定连接,第一气缸固定安装于固定座上,移动座的内部开设有电机安装槽,电机安装槽的内部安装有第一电机,第一电机的输出轴上安装有夹持转辊,夹持转辊位于移动座的上方。
优选的,所述底部水箱的两侧对称设有排液总管,排液总管靠近底部水箱的一侧均等距安装有排液支管,排液支管与底部水箱的内部侧壁底部连通。
优选的,所述辅助清洁单元包括对称设于转动杆两侧下方的第一转杆,两个第一转杆相互远离的一侧均设有第二转杆,第一转杆和第二转杆均与转动杆相平行,第一转杆和第二转杆均与底部水箱的内壁转动连接,第一转杆的两端对称安装有第一带轮,第一转杆的两端对称安装有第二带轮,第一带轮与第二带轮的外侧安装有同步带。
优选的,两个所述同步带之间均匀设有安装横板,安装横板的两端对称安装有端部连杆,两个端部连杆分别与两个同步带固定连接,安装横板在同步带朝向其外壁的方向上等距安装有勾板抛液单元。
优选的,所述转动杆的一端安装有第四齿轮,其中一个第一转杆的一端安装有第三齿轮,第三齿轮与第四齿轮相啮合,两个第一转杆的另一端均安装有第五齿轮,两个第五齿轮相啮合,当转动杆转动时,能够带动两个第一转杆顶端相向转动。
优选的,所述勾板抛液单元包括等距安装于安装横板上的固定板,固定板的内部开设有活动槽,活动槽远离安装横板的一侧开设有端部槽,活动槽的内部活动安装有活动板,活动板远离安装横板的一侧安装有连接板,连接板位于端部槽内侧,活动板的内部对称开设有底槽,底槽贯穿至活动板靠近安装横板的一侧,底槽的内部安装有第一弹簧,第一弹簧的一端与底槽的端部内壁固定连接,第一弹簧的另一端与活动槽靠近安装横板的一端内壁固定连接。
优选的,所述连接板远离活动板的一端安装有转座,转座上转动安装有勾板,位于上方的安装横板上的勾板朝着转动杆一侧倾斜设置,勾板靠近转动杆的一侧与铰接连杆一端铰接。
优选的,所述固定板的一侧开设有第一侧槽,活动板的一侧开设有第二侧槽,第二侧槽的内部滑动安装有第一滑动块,第一滑动块的一侧安装有第二滑动块,第二滑动块与第一侧槽滑动连接,第二滑动块的一端与铰接连杆的另一端铰接,第一滑动块靠近连接板的一侧对称安装有第二弹簧,第二弹簧的一端与第二侧槽靠近连接板的一端内壁固定连接,两个第二转杆相互远离的一侧均设有固定条,固定条对称安装于底部水箱的侧壁上,固定条上开设有挤压斜面。
优选的,一种晶圆清洗装置的清洗方法,其清洗步骤如下:
S1、将晶圆设于三个夹持转辊之间,使三个夹持转辊将晶圆夹持,将清洁辊调整至与晶圆底壁接触,开启第二电机,使得清洁辊不断转动,使清洁刷毛对晶圆底壁进行清洁,同时夹持转辊转动带动晶圆转动,进行清洁;
S2、清洁水箱朝着内腔内部通入清洁水,一部分清洁水从浸润孔处喷出对清洁刷毛进行浸润,另一部分清洁水从喷液孔喷出至晶圆底壁上;
S3、从喷液孔向下喷出的清洁水进入到底部水箱内部,同时清洁辊转动带动转动杆转动,使得除杂刷毛对位于清洁辊下方的清洁刷毛上杂质进行清洁;
S4、转动杆转动,带动位于上方的各个安装横板朝着转动杆移动,使得勾板抛液单元朝着转动杆移动后,对除杂刷毛进行清洁,同时带动底部水箱内部清洁水循环朝着转动杆流通,更加方便对除杂刷毛进行清洁;
S5、当勾板移动至靠近固定条时,在挤压斜面的作用下,使得勾板转动至与连接板处于同一直线上,使得第二弹簧压缩,当勾板端部与挤压斜面分离时,勾板在第二弹簧弹力作用下回转,将部分清洗液抛向底部清洁刷毛。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)、本发明,通过清洁辊转动,不断带动转动杆朝着与清洁辊转动方向相反的一侧转动,使得除杂刷毛的移动方向与清洁刷毛移动方向相反,除杂刷毛将转动至清洁辊下方清洁刷毛上杂质勾下,方便勾板抛液单元的清洁,提高后续勾板抛液单元对晶圆的清洁效果;
(2)、该发明通过转动杆转动时,带动同步带移动,且其顶壁朝着转动杆一侧移动,使得处于上方位置的安装横板不断朝着转动杆移动,安装横板上等距设有勾板抛液单元,连接板与勾板存在一定夹角,方便对除杂刷毛上杂质进行清除,提高后续对清洁刷毛的清洁效果,间接提高对晶圆的清洁效果;
(3)、该发明通过在各个勾板抛液单元的移动下,对底部水箱内部的清洗液产生推力,带动底部水箱内部两侧清洁液朝着转动杆一侧循环流动,从而不断对处于下方的除杂刷毛产生冲击力,进一步方便将除杂刷毛上的杂质进行去除,提高对清洁刷毛的清洁效果,间接提高对晶圆的清洁效果;
(4)、该发明通过当勾板移动至靠近固定条时,在挤压斜面的作用下,使得勾板转动至与连接板处于同一直线上,使得第二弹簧压缩,当勾板端部与挤压斜面分离时,勾板在第二弹簧弹力作用下回转,将部分清洗液抛向底部清洁刷毛,一方便方便清洁刷毛的浸润,提高对晶圆的清洁效果,另一方面对清洁刷毛产生冲击力,提高清洁刷毛表面杂质的清除效果,方便后续对晶圆的清洁。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。
在附图中:
图1为本发明晶圆清洗装置结构示意图;
图2为本发明夹持转动组件结构示意图;
图3为本发明刷洗清洁组件结构示意图;
图4为本发明底部水箱结构示意图;
图5为本发明转动杆结构示意图;
图6为本发明辅助清洁单元结构示意图;
图7为本发明勾板抛液单元结构示意图;
图8为本发明固定板结构示意图;
图9为本发明活动板结构示意图;
图中:1、底座;2、夹持转动组件;201、固定座;202、移动座;203、滑块;204、滑槽;205、第一气缸;206、第一电机;207、夹持转辊;3、刷洗清洁组件;301、安装板;302、底板;303、第二气缸;304、侧板;305、第二电机;306、清洁辊;307、内腔;308、外部套;309、清洁刷毛;310、转轴;311、转动管;312、连通腔;313、进液管;314、浸润孔;315、喷液孔;4、刷毛清洁组件;401、第一齿轮;402、底部水箱;403、排液总管;404、排液支管;405、转动杆;406、第二齿轮;407、除杂刷毛;408、辅助清洁单元;4081、第一转杆;4082、第二转杆;4083、第一带轮;4084、第二带轮;4085、同步带;4086、安装横板;4087、端部连杆;4088、第三齿轮;4089、第四齿轮;40810、第五齿轮;409、勾板抛液单元;4091、固定板;4092、活动槽;4093、端部槽;4094、活动板;4095、连接板;4096、转座;4097、勾板;4098、底槽;4099、第一弹簧;40910、第一侧槽;40911、第二侧槽;40912、第一滑动块;40913、第二滑动块;40914、铰接连杆;40915、第二弹簧;40916、固定条;40917、挤压斜面。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例;基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一,由图1-图9给出,本发明包括底座1,底座1的顶端等角度安装有三个夹持转动组件2,底座1的顶端安装有刷洗清洁组件3;
刷洗清洁组件3包括安装于底座1顶端中部的底板302,底板302的上方设有安装板301,安装板301的顶端对称安装有两个第二气缸303,第二气缸303的输出端与安装板301的底壁固定连接,安装板301的顶端对称安装有两个侧板304,侧板304与安装板301垂直设置,两个侧板304之间安装有清洁辊306,清洁辊306的下方设有刷毛清洁组件4,清洁辊306的内部开设有内腔307,清洁辊306的外侧安装有外部套308,外部套308的外侧均匀安装有清洁刷毛309,清洁辊306的一端安装有转轴310,转轴310与一侧的侧板304转动连接,转轴310的一端与第二电机305的输出轴固定连接,第二电机305固定安装于侧板304上,清洁辊306的另一端安装有转动管311,转动管311与内腔307相连通,转动管311转动安装于另一个侧板304内部,另一个侧板304内部开设有连通腔312,连通腔312与转动管311相连通,另一个侧板304的一侧安装有进液管313,进液管313与连通腔312相连通,清洁辊306的外壁上均匀开设有浸润孔314,外部套308上均匀开设有喷液孔315,浸润孔314与喷液孔315一一对应;
夹持转动组件2包括等角度安装于底座1顶端的固定座201,各个固定座201均朝向底座1的垂直轴线方向设置,固定座201的上方设有移动座202,移动座202的底端安装有滑块203,滑块203滑动安装于滑槽204内部,滑槽204开设于固定座201上,滑块203远离底座1的垂直轴线一侧与第一气缸205的输出端固定连接,第一气缸205固定安装于固定座201上,移动座202的内部开设有电机安装槽,电机安装槽的内部安装有第一电机206,第一电机206的输出轴上安装有夹持转辊207,夹持转辊207位于移动座202的上方。
刷毛清洁组件4包括设于清洁辊306下方的底部水箱402,底部水箱402固定安装于安装板301的顶壁上,底部水箱402的内部转动安装有转动杆405,转动杆405位于清洁辊306的下方,且转动杆405与清洁辊306平行设置,转动杆405的一端安装有第二齿轮406,第二齿轮406位于底部水箱402的一侧,转轴310上安装有第一齿轮401,第二齿轮406位于第一齿轮401的下方,且第二齿轮406与第一齿轮401相啮合,转动杆405的外侧均匀安装有除杂刷毛407,转动杆405的两侧对称设有两个辅助清洁单元408,底部水箱402的两侧对称设有排液总管403,排液总管403靠近底部水箱402的一侧均等距安装有排液支管404,排液支管404与底部水箱402的内部侧壁底部连通,清洁辊306转动,不断带动转动杆405朝着与清洁辊306转动方向相反的一侧转动,使得除杂刷毛407的移动方向与清洁刷毛309移动方向相反,除杂刷毛407将转动至清洁辊306下方清洁刷毛309上杂质勾下,方便勾板抛液单元409的清洁,提高后续勾板抛液单元409对晶圆的清洁效果。
辅助清洁单元408包括对称设于转动杆405两侧下方的第一转杆4081,两个第一转杆4081相互远离的一侧均设有第二转杆4082,第一转杆4081和第二转杆4082均与转动杆405相平行,第一转杆4081和第二转杆4082均与底部水箱402的内壁转动连接,第一转杆4081的两端对称安装有第一带轮4083,第一转杆4081的两端对称安装有第二带轮4084,第一带轮4083与第二带轮4084的外侧安装有同步带4085,两个同步带4085之间均匀设有安装横板4086,安装横板4086的两端对称安装有端部连杆4087,两个端部连杆4087分别与两个同步带4085固定连接,安装横板4086在同步带4085朝向其外壁的方向上等距安装有勾板抛液单元409,转动杆405的一端安装有第四齿轮4089,其中一个第一转杆4081的一端安装有第三齿轮4088,第三齿轮4088与第四齿轮4089相啮合,两个第一转杆4081的另一端均安装有第五齿轮40810,两个第五齿轮40810相啮合,当转动杆405转动时,能够带动两个第一转杆4081顶端相向转动,在各个勾板抛液单元409的移动下,对底部水箱402内部的清洗液产生推力,带动底部水箱402内部两侧清洁液朝着转动杆405一侧循环流动,从而不断对处于下方的除杂刷毛407产生冲击力,进一步方便将除杂刷毛407上的杂质进行去除,提高对清洁刷毛309的清洁效果,间接提高对晶圆的清洁效果。
勾板抛液单元409包括等距安装于安装横板4086上的固定板4091,固定板4091的内部开设有活动槽4092,活动槽4092远离安装横板4086的一侧开设有端部槽4093,活动槽4092的内部活动安装有活动板4094,活动板4094远离安装横板4086的一侧安装有连接板4095,连接板4095位于端部槽4093内侧,活动板4094的内部对称开设有底槽4098,底槽4098贯穿至活动板4094靠近安装横板4086的一侧,底槽4098的内部安装有第一弹簧4099,第一弹簧4099的一端与底槽4098的端部内壁固定连接,第一弹簧4099的另一端与活动槽4092靠近安装横板4086的一端内壁固定连接,连接板4095远离活动板4094的一端安装有转座4096,转座4096上转动安装有勾板4097,位于上方的安装横板4086上的勾板4097朝着转动杆405一侧倾斜设置,勾板4097靠近转动杆405的一侧与铰接连杆40914一端铰接,固定板4091的一侧开设有第一侧槽40910,活动板4094的一侧开设有第二侧槽40911,第二侧槽40911的内部滑动安装有第一滑动块40912,第一滑动块40912的一侧安装有第二滑动块40913,第二滑动块40913与第一侧槽40910滑动连接,第二滑动块40913的一端与铰接连杆40914的另一端铰接,第一滑动块40912靠近连接板4095的一侧对称安装有第二弹簧40915,第二弹簧40915的一端与第二侧槽40911靠近连接板4095的一端内壁固定连接,两个第二转杆4082相互远离的一侧均设有固定条40916,固定条40916对称安装于底部水箱402的侧壁上,固定条40916上开设有挤压斜面40917,转动杆405转动时,带动同步带4085移动,且其顶壁朝着转动杆405一侧移动,使得处于上方位置的安装横板4086不断朝着转动杆405移动,安装横板4086上等距设有勾板抛液单元409,连接板4095与勾板4097存在一定夹角,方便对除杂刷毛407上杂质进行清除,提高后续对清洁刷毛309的清洁效果,间接提高对晶圆的清洁效果,当勾板4097移动至靠近固定条40916时,在挤压斜面40917的作用下,使得勾板4097转动至与连接板4095处于同一直线上,使得第二弹簧40915压缩,当勾板4097端部与挤压斜面40917分离时,勾板4097在第二弹簧40915弹力作用下回转,将部分清洗液抛向底部清洁刷毛309,一方便方便清洁刷毛309的浸润,提高对晶圆的清洁效果,另一方面对清洁刷毛309产生冲击力,提高清洁刷毛309表面杂质的清除效果,方便后续对晶圆的清洁。
工作原理:在使用时,将清洗液箱的输出管道与进液管313连接,将回收箱的输入管与排液总管403连接,随后将晶圆放置于清洁辊306上方,且位于三个夹持转辊207之间,开启各个第一气缸205,使得三个夹持转辊207朝着晶圆靠近,使得三个夹持转辊207将晶圆边缘夹持,开启第一电机206,使得夹持转辊207转动,继而在摩擦力作用下带动晶圆不断转动,使得晶圆与清洁辊306产生相对运动,使得清洁辊306外侧的清洁刷毛309对晶圆进行刷洗清洁,同时开启第二电机305,带动清洁辊306不断转动,同时开启清洗液箱内部泵体,使得清洗液通过进液管313、连通腔312、转动管311进入到内腔307内部,在压力作用下,一方面清洗液通过浸润孔314对清洁刷毛309进行浸润,方便清洁刷毛309对晶圆进行清洁,另一部分清洗液从喷液孔315处向外喷出,向上喷出的清洗液喷出至晶圆上,方便对晶圆进行清洁;
而朝下喷出的清洗液直接喷出至底部水箱402内部,当清洗液积累至底部水箱402内部,当底部水箱402中液面上升至位于转动杆405中轴线位置时,将回收箱接通,使得清洗液不断进入回收箱内部,使得清洗液液面不变,在清洁辊306转动时,使得第一齿轮401转动,而第一齿轮401与转动杆405一端的第二齿轮406相啮合,从而不断带动转动杆405朝着与清洁辊306转动方向相反的一侧转动,使得除杂刷毛407将转动至清洁辊306下方清洁刷毛309上杂质勾下,方便勾板抛液单元409的清洁,提高勾板抛液单元409对晶圆的清洁效果,同时转动至下方的除杂刷毛407进入到清洗液中,方便杂质与除杂刷毛407分离;
当转动杆405转动时,带动两个第一转杆4081转动,且两个第一转杆4081顶端相向转动,继而通过第一带轮4083和第二带轮4084带动同步带4085移动,且其顶壁朝着转动杆405一侧移动,使得两个同步带4085之间处于上方位置的安装横板4086朝着转动杆405移动,继而使得转动杆405两侧安装横板4086上的勾板抛液单元409不断对处于下方的除杂刷毛407上杂质进行去除,提高后续对清洁刷毛309的清洁效果,同时在勾板抛液单元409的移动下,带动底部水箱402内部两侧清洁液朝着转动杆405循环流动,不断对处于下方的除杂刷毛407产生冲击力,进一步方便将除杂刷毛407上的杂质进行去除,提高对清洁刷毛309的清洁效果;
其中连接板4095与勾板4097存在一定夹角,方便对除杂刷毛407上杂质进行清除,当固定板4091转动至靠近固定条40916时,受到挤压斜面40917的阻力作用,使得活动板4094朝着活动槽4092内部移动,使得第一弹簧4099压缩,同时勾板4097朝着远离铰接连杆40914一侧转动,直至连接板4095与勾板4097处于同一直线上,使得第二弹簧40915压缩,在连接板4095进入到活动槽4092内部后,勾板4097能够移动至固定条40916上方,在勾板4097与挤压斜面40917脱离接触时,使得勾板4097在第二弹簧40915弹力作用下回转,同时连接板4095在第一弹簧4099弹力作用下向外伸出,在勾板4097回转时,对倾斜液产生朝向清洁辊306底端的力,从而推动部分清洗液不断朝着清洁辊306底部移动,方便将底部的清洁刷毛309进行清润,同时对清洁刷毛309产生冲力,进一步方便沾附的杂质去除。

Claims (10)

1.一种晶圆清洗装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的顶端等角度安装有三个夹持转动组件(2),底座(1)的顶端安装有刷洗清洁组件(3);
刷洗清洁组件(3)包括安装于底座(1)顶端中部的底板(302),底板(302)的上方设有安装板(301),安装板(301)的顶端对称安装有两个第二气缸(303),第二气缸(303)的输出端与安装板(301)的底壁固定连接,安装板(301)的顶端对称安装有两个侧板(304),侧板(304)与安装板(301)垂直设置,两个侧板(304)之间安装有清洁辊(306),清洁辊(306)的下方设有刷毛清洁组件(4),清洁辊(306)的内部开设有内腔(307),清洁辊(306)的外侧安装有外部套(308),外部套(308)的外侧均匀安装有清洁刷毛(309),清洁辊(306)的一端安装有转轴(310),转轴(310)与一侧的侧板(304)转动连接,转轴(310)的一端与第二电机(305)的输出轴固定连接,第二电机(305)固定安装于侧板(304)上,清洁辊(306)的另一端安装有转动管(311),转动管(311)与内腔(307)相连通,转动管(311)转动安装于另一个侧板(304)内部,另一个侧板(304)内部开设有连通腔(312),连通腔(312)与转动管(311)相连通,另一个侧板(304)的一侧安装有进液管(313),进液管(313)与连通腔(312)相连通,清洁辊(306)的外壁上均匀开设有浸润孔(314),外部套(308)上均匀开设有喷液孔(315),浸润孔(314)与喷液孔(315)一一对应;
刷毛清洁组件(4)包括设于清洁辊(306)下方的底部水箱(402),底部水箱(402)固定安装于安装板(301)的顶壁上,底部水箱(402)的内部转动安装有转动杆(405),转动杆(405)位于清洁辊(306)的下方,且转动杆(405)与清洁辊(306)平行设置,转动杆(405)的一端安装有第二齿轮(406),第二齿轮(406)位于底部水箱(402)的一侧,转轴(310)上安装有第一齿轮(401),第二齿轮(406)位于第一齿轮(401)的下方,且第二齿轮(406)与第一齿轮(401)相啮合,转动杆(405)的外侧均匀安装有除杂刷毛(407),转动杆(405)的两侧对称设有两个辅助清洁单元(408)。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述夹持转动组件(2)包括等角度安装于底座(1)顶端的固定座(201),各个固定座(201)均朝向底座(1)的垂直轴线方向设置,固定座(201)的上方设有移动座(202),移动座(202)的底端安装有滑块(203),滑块(203)滑动安装于滑槽(204)内部,滑槽(204)开设于固定座(201)上,滑块(203)远离底座(1)的垂直轴线一侧与第一气缸(205)的输出端固定连接,第一气缸(205)固定安装于固定座(201)上,移动座(202)的内部开设有电机安装槽,电机安装槽的内部安装有第一电机(206),第一电机(206)的输出轴上安装有夹持转辊(207),夹持转辊(207)位于移动座(202)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述底部水箱(402)的两侧对称设有排液总管(403),排液总管(403)靠近底部水箱(402)的一侧均等距安装有排液支管(404),排液支管(404)与底部水箱(402)的内部侧壁底部连通。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述辅助清洁单元(408)包括对称设于转动杆(405)两侧下方的第一转杆(4081),两个第一转杆(4081)相互远离的一侧均设有第二转杆(4082),第一转杆(4081)和第二转杆(4082)均与转动杆(405)相平行,第一转杆(4081)和第二转杆(4082)均与底部水箱(402)的内壁转动连接,第一转杆(4081)的两端对称安装有第一带轮(4083),第一转杆(4081)的两端对称安装有第二带轮(4084),第一带轮(4083)与第二带轮(4084)的外侧安装有同步带(4085)。
5.根据权利要求4所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:两个所述同步带(4085)之间均匀设有安装横板(4086),安装横板(4086)的两端对称安装有端部连杆(4087),两个端部连杆(4087)分别与两个同步带(4085)固定连接,安装横板(4086)在同步带(4085)朝向其外壁的方向上等距安装有勾板抛液单元(409)。
6.根据权利要求4所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述转动杆(405)的一端安装有第四齿轮(4089),其中一个第一转杆(4081)的一端安装有第三齿轮(4088),第三齿轮(4088)与第四齿轮(4089)相啮合,两个第一转杆(4081)的另一端均安装有第五齿轮(40810),两个第五齿轮(40810)相啮合,当转动杆(405)转动时,能够带动两个第一转杆(4081)顶端相向转动。
7.根据权利要求5所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述勾板抛液单元(409)包括等距安装于安装横板(4086)上的固定板(4091),固定板(4091)的内部开设有活动槽(4092),活动槽(4092)远离安装横板(4086)的一侧开设有端部槽(4093),活动槽(4092)的内部活动安装有活动板(4094),活动板(4094)远离安装横板(4086)的一侧安装有连接板(4095),连接板(4095)位于端部槽(4093)内侧,活动板(4094)的内部对称开设有底槽(4098),底槽(4098)贯穿至活动板(4094)靠近安装横板(4086)的一侧,底槽(4098)的内部安装有第一弹簧(4099),第一弹簧(4099)的一端与底槽(4098)的端部内壁固定连接,第一弹簧(4099)的另一端与活动槽(4092)靠近安装横板(4086)的一端内壁固定连接。
8.根据权利要求7所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述连接板(4095)远离活动板(4094)的一端安装有转座(4096),转座(4096)上转动安装有勾板(4097),位于上方的安装横板(4086)上的勾板(4097)朝着转动杆(405)一侧倾斜设置,勾板(4097)靠近转动杆(405)的一侧与铰接连杆(40914)一端铰接。
9.根据权利要求8所述的一种晶圆清洗装置,其特征在于:所述固定板(4091)的一侧开设有第一侧槽(40910),活动板(4094)的一侧开设有第二侧槽(40911),第二侧槽(40911)的内部滑动安装有第一滑动块(40912),第一滑动块(40912)的一侧安装有第二滑动块(40913),第二滑动块(40913)与第一侧槽(40910)滑动连接,第二滑动块(40913)的一端与铰接连杆(40914)的另一端铰接,第一滑动块(40912)靠近连接板(4095)的一侧对称安装有第二弹簧(40915),第二弹簧(40915)的一端与第二侧槽(40911)靠近连接板(4095)的一端内壁固定连接,两个第二转杆(4082)相互远离的一侧均设有固定条(40916),固定条(40916)对称安装于底部水箱(402)的侧壁上,固定条(40916)上开设有挤压斜面(40917)。
10.根据权利要求1-9任一项所述的一种晶圆清洗装置的清洗方法,其清洗步骤如下:
S1、将晶圆设于三个夹持转辊(207)之间,使三个夹持转辊(207)将晶圆夹持,将清洁辊(306)调整至与晶圆底壁接触,开启第二电机(305),使得清洁辊(306)不断转动,使清洁刷毛(309)对晶圆底壁进行清洁,同时夹持转辊(207)转动带动晶圆转动,进行清洁;
S2、清洁水箱朝着内腔(307)内部通入清洁水,一部分清洁水从浸润孔(314)处喷出对清洁刷毛(309)进行浸润,另一部分清洁水从喷液孔(315)喷出至晶圆底壁上;
S3、从喷液孔(315)向下喷出的清洁水进入到底部水箱(402)内部,同时清洁辊(306)转动带动转动杆(405)转动,使得除杂刷毛(407)对位于清洁辊(306)下方的清洁刷毛(309)上杂质进行清洁;
S4、转动杆(405)转动,带动位于上方的各个安装横板(4086)朝着转动杆(405)移动,使得勾板抛液单元(409)朝着转动杆(405)移动后,对除杂刷毛(407)进行清洁,同时带动底部水箱(402)内部清洁水循环朝着转动杆(405)流通,更加方便对除杂刷毛(407)进行清洁;
S5、当勾板(4097)移动至靠近固定条(40916)时,在挤压斜面(40917)的作用下,使得勾板(4097)转动至与连接板(4095)处于同一直线上,使得第二弹簧(40915)压缩,当勾板(4097)端部与挤压斜面(40917)分离时,勾板(4097)在第二弹簧(40915)弹力作用下回转,将部分清洗液抛向底部清洁刷毛(309)。
CN202311469924.1A 2023-11-07 2023-11-07 一种晶圆清洗装置及其清洗方法 Pending CN117457537A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311469924.1A CN117457537A (zh) 2023-11-07 2023-11-07 一种晶圆清洗装置及其清洗方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311469924.1A CN117457537A (zh) 2023-11-07 2023-11-07 一种晶圆清洗装置及其清洗方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117457537A true CN117457537A (zh) 2024-01-26

Family

ID=89590721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311469924.1A Pending CN117457537A (zh) 2023-11-07 2023-11-07 一种晶圆清洗装置及其清洗方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117457537A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118039552A (zh) * 2024-04-11 2024-05-14 盛奕半导体科技(无锡)有限公司 一种晶圆除静电设备及基于高纯水供给的除静电方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118039552A (zh) * 2024-04-11 2024-05-14 盛奕半导体科技(无锡)有限公司 一种晶圆除静电设备及基于高纯水供给的除静电方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN211027194U (zh) 一种用于铜门加工的设备
CN112264360A (zh) 一种电力工程用废旧电线回收外壁清洗装置
CN210396581U (zh) 自带清洗装置的铝合金窗
CN117457537A (zh) 一种晶圆清洗装置及其清洗方法
CN110026375A (zh) 一种机床零部件油污擦除装置
CN116394144A (zh) Pvc管生产表面抛光清理设备及其工艺
CN214344900U (zh) 一种用于干化机滤布背面积垢的清洗装置
CN213763013U (zh) 一种冷柜门框加工用铝材表面清理装置
CN213501432U (zh) 一种印刷版辊加工清洗设备
CN115070433A (zh) 一种高效性紫铜材料加工系统
CN214078350U (zh) 一种多种厚度的玻璃清洗装置
CN220836834U (zh) 一种铜丝加工用清洁设备
CN211304051U (zh) 一种钣金加工用清洗装置
CN112452878A (zh) 一种高精度光学镜片加工工艺
CN111468998A (zh) 一种钢管表面多级加工处理工艺
CN207755823U (zh) 一种压滤机水洗总成
CN115333465B (zh) 一种光伏板表面除尘装置
CN213792942U (zh) 一种可降低摩擦温度的钢加工表面清理装置
CN113560250B (zh) 用于塑料齿轮加工后的表面废屑快速去除装置
CN211359714U (zh) 一种机械设备用零件加工清洗装置
CN212103817U (zh) 一种道路护栏清洗装置
CN212370454U (zh) 一种能够清洁皮带的打胶机
CN212637449U (zh) 一种无死角的自动洗车机用刷洗机构
CN109848098B (zh) 一种高效的太阳能清洁装置
CN220426129U (zh) 一种清洗烘干装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination