CN117283107A - 一种等离子割炬 - Google Patents

Abstract

本发明涉及割炬技术领域，具体涉及一种等离子割炬，包括电极座以及密封设于电极座一端的电极，所述电极座上可拆卸套设有第一绝缘套，所述第一绝缘套的一侧设有连通至电极处的进气管，所述第一绝缘套的另一侧贯穿设有引弧线，所述第一绝缘套与电极相近的一端密封设有喷嘴座，所述喷嘴座远离第一绝缘套的一端密封设有喷嘴，所述喷嘴隔空罩设于电极外；所述第一绝缘套与电极相近的一端密封设有使进气管通入的气体均匀分布于电极周向的涡流环。本发明通过第一绝缘套实现支撑多零件的密封装配，降低装配难度，提高装配效率，另外涡流环结构设计合理，安装后其内外密封性均明显提高，避免气体泄露，且提高气流的稳定性。

Description

一种等离子割炬

技术领域

本发明涉及割炬技术领域，具体涉及一种等离子割炬。

背景技术

等离子割炬是通过电极之间产生的高频电弧将气体（如氮气、氩气等）电离成高温高压的等离子态，形成高速喷射的等离子射流。这个等离子射流具有极高的温度和能量密度，能够迅速熔化金属并将其吹走，从而实现切割的目的。

目前的等离子割炬整体装配复杂，且各部分之间密封配合性差，如果装配密封性差，会导致气体从割炬中泄漏出来，这不仅会影响割炬的正常工作，还可能引发安全事故。

目前的等离子割炬中在电极处增加涡流环结构，有助于提高气流的稳定性，增强切割效果。目前的涡流环结构，由其形成的气流分布不均匀，容易导致火焰不稳定，影响切割质量和效果，可能出现切割面不平整、切割速度不均匀等现象，另外，气流分布不均可能会导致火焰烧蚀割炬，加速割炬的磨损和损坏，缩短使用寿命。再者涡流环安装的密封性一般，涡流环密封性差可能会导致操作不稳定，因为气体泄漏会影响气体的流动和混合，从而影响割炬的火焰稳定性和切割质量。

另外，目前等离子割炬中，水冷结构简单，水流冷却过程中可能会出现喷嘴高温端口处冷却效果差的现象，进而影响喷嘴的使用寿命。

发明内容

本发明提供一种等离子割炬，以解决现有割炬整体装配性复杂、密封性差且割炬中涡流环气流分布型差、水冷效果差等技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的现有技术中割炬采用如下技术方案：

包括电极座以及密封设于电极座一端的电极，所述电极座上可拆卸套设有第一绝缘套，所述第一绝缘套的一侧设有连通至电极处的进气管，所述第一绝缘套的另一侧贯穿设有引弧线，所述第一绝缘套与电极相近的一端密封设有喷嘴座，所述喷嘴座远离第一绝缘套的一端密封设有喷嘴，所述喷嘴隔空罩设于电极外；所述第一绝缘套与电极相近的一端密封设有使进气管通入的气体均匀分布于电极周向的涡流环，所述第一绝缘套与电极座之间形成有与进气管连通的第一气室，所述涡流环上轴向设有导气孔，所述涡流环与喷嘴之间形成有第二气室，所述导气孔连通于第一气室与第二气室之间，所述导气孔与第二气室之间形成有斜面导流台，所述涡流环上对应第二气室处周向设有贯穿涡流环侧壁的旋流孔，所述电极远离电极座的一端外周向形成有等离子气室，所述第二气室与等离子气室之间通过旋流孔连通。

进一步地，所述涡流环与第一绝缘套相近的一端插套于电极座的端部外且涡流环与第一绝缘套相近的一端插套于第一绝缘套的端部内，所述第一绝缘套与涡流环相近的一端内部设有与涡流环的端面抵接的台阶面，所述涡流环的外壁与第一绝缘套以及喷嘴之间配合设有密封对接结构。

所述密封对接结构包括设于所述涡流环上与第一绝缘套相近的一端外壁上的第一环形密封槽，第一环形密封槽内设有第一密封圈，所述第一密封圈对应压紧于第一绝缘套的端部内。

所述涡流环远离第一绝缘套的一端设有第二环形密封槽，所述第二环形密封槽内设有与喷嘴内壁抵接的第二密封圈，所述涡流环对应喷嘴端部处设有第三环形密封槽，所述第三环形密封槽与喷嘴端部的内壁表面抵接。

采用上述技术方案，涡流环与第一绝缘套、喷嘴、电极之间均限位配合且通过密封圈的设计实现各处的密封配合连接，有效提高第二气室与等离子气室的密封性，避免气体泄露影响气体流动的稳定性。

另外，气体经过旋流孔之前通过斜面导流台导流作用，使得气体更均匀的分布于斜面导流台的周向，从而提高经过旋流孔处气流的分布均一性，斜面导流台还可以起到稳定气流的作用，防止气流在涡流环处产生紊乱或湍流，提高设备的运行稳定性和效率。

进一步地，所述喷嘴座远离第一绝缘套的一端密封插套连接有内保护套，所述内保护套隔空罩设于喷嘴外且喷嘴的喷口端外壁与内保护套的内壁之间设有密封结构。

采用上述技术方案，内保护套与喷嘴端口处密封配合，内保护套可以保护喷嘴免受外界损伤和污染，延长喷嘴的使用寿命，再者内保护套与喷嘴座之间的配合可以提高割炬的密封性，防止气体泄漏，保证割炬的正常工作。

进一步地，所述第一绝缘套上套设有第二绝缘保护套，所述内保护套与喷嘴座的套接部分以及喷嘴座远离内保护套的外露部分均处于第二绝缘保护套内。

采用上述技术方案，第一绝缘套配合第二绝缘保护套，提高整体装配的便捷性，同时提高设备的安全性能。

进一步地，所述第二绝缘保护套外插套配合有金属保护套，所述金属保护套与喷嘴的喷口端相近的一端可拆卸设有喷口保护罩，所述金属保护套外设有用于引导切割方向的导轮组件。

采用上述技术方案，金属保护套可以保护割炬的主体部分，避免其受到外界的损伤和污染，延长割炬的使用寿命，另外，金属保护套可以增加割炬的重量，提高其在工作中的稳定性，保证切割的精度和效果。

进一步地，所述导轮组件包括套设于金属保护套外的导轮绝缘套，所述第一绝缘套上设有凸台，所述导轮绝缘套与凸台相近的一端通过过盈配合固定套放于凸台上，所述导轮绝缘套外可拆卸设有导轮安装板，所述导轮安装板远离导轮绝缘套的一端外侧面设有移动导轮。

采用上述技术方案，通过移动导轮可以起到支撑割炬的作用，减轻操作人员的劳动强度，提高切割效率，通过可以引导割炬沿着预定的轨道或路径移动，保证切割的直线度和精度。

进一步地，所述导轮绝缘套的外表面设有用于安装导轮安装板的凸块，所述导轮安装板与导轮绝缘套相对的侧面设有调节滑槽，所述凸块滑动配合卡放于调节滑槽内，所述凸块上设有螺纹孔，所述导轮安装板设有与凸块配合连接的长形腰孔。

采用上述技术方案，长形腰孔便于实现移动导轮的调节，提高割炬的实用性。

进一步地，所述电极座上设有用于给电极以及喷嘴冷却的循环水冷结构。

进一步地，所述循环水冷结构包括密封设于电极座内的水芯管道，所述水芯管道的两端均设有对称的一对U型槽口，所述水芯管道的一端伸出电极座外且对应隔空伸入到电极内部，所述电极座远离电极的一端设有与水芯管道的另一端连通的进水铜管，所述电极座的管壁周向设有溢流孔，所述第一绝缘套内轴向设有出水孔和回水孔，所述出水孔和回水孔与喷嘴相近的一端贯穿第一绝缘套，所述喷嘴座上轴向设有分别与出水孔和回水孔对应连通的进水孔和回流孔，所述第一绝缘套上处于出水孔远离喷嘴的一端设有环形槽，所述环形槽与出水孔连通且环形槽与溢流孔相对分布，所述回水孔远离喷嘴的一端与回水铜管连通，所述回水铜管设于电极座下方。

进一步地，所述电极座与第一绝缘套的对接处密封设有连通回水孔与回水铜管的内水管。

采用上述技术方案，冷却机构密封性强，冷却水实现冷却电极的同时，实现有效冷却喷嘴，冷却过程中避免水冷密封差导致的冷却水泄漏，从而影响割炬的冷却效果，使得割炬无法有效降温，可能影响切割性能和割炬寿命。

进一步地，所述喷嘴外隔空套设的内保护套呈阶梯型圆台且阶梯型圆台远离喷嘴座的一端呈圆台形，所述内保护套上设有迫使水流由内保护套的靠近喷嘴座的一端向内保护套的另一端流动的导流结构。所述进水孔和回流孔与内保护套相近的一端内壁形成有台阶面。

进一步地，所述导流结构包括设于内保护套内壁上的阶型凸筋，所述阶型凸筋为沿内保护套的内壁周向间隔设置的若干个。

采用上述技术方案，进水孔和回流孔与内保护套相近的一端口径变大且内壁形成有台阶面，该结构有助于消除水流的能量，使得水流更加平稳，减少旋涡的形成。

另外，内保护套的结构为沿水流方向口径逐渐减小，且内壁设有增加水流阻力的阶型凸筋，根据流体力学的原理，水流的速度会相应增加，以实现迫使水流快速流动到喷嘴端口的高温区，提高喷嘴的冷却效果和效率。

本发明所提供的等离子割炬有益效果是：本发明中通过第一绝缘套实现支撑多零件的密封装配，降低装配难度，提高装配效率，另外涡流环结构设计合理，安装后其内外密封性均明显提高，避免气体泄露，另外该涡流环能实现气体更加均匀的分布于等离子气室内，提高气流的稳定性；再者本发明结构实现喷嘴的高效、快速冷却，有助于实现延长喷嘴的使用寿命。

附图说明

通过参考附图阅读下文的详细描述，本发明示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本发明的若干实施方式，并且相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：

图1为本发明等离子割炬的结构示意图之一；

图2为本发明等离子割炬的结构示意图之二；

图3为本发明等离子割炬的剖面图；

图4为图3中区域A的局部放大图；

图5为本发明中部分结构的爆炸图；

图6为本发明中涡流环的结构示意图；

图7为本发明中涡流环上旋流孔处的截面示意图；

图8为本发明中内保护套的结构示意图之一；

图9为本发明中内保护套的结构示意图之二；

图10为本发明中喷嘴座的结构示意图；

图11为本发明中部分结构的剖视图。

附图标记说明：

1、电极座；101、溢流孔；2、电极；3、第一绝缘套；31、进气管；311、第一气室；312、第二气室；313、等离子气室；32、引弧线；33、凸台；34、出水孔；35、回水孔；36、环形槽；4、喷嘴座；41、进水孔；42、回流孔；5、喷嘴；6、涡流环；61、导气孔；62、旋流孔；63、斜面导流台；7、内保护套；71、阶型凸筋；8、第二绝缘保护套；9、金属保护套；10、喷口保护罩；11、导轮组件；111、导轮绝缘套；112、导轮安装板；113、移动导轮；114、凸块；115、调节滑槽；12、水芯管道；13、进水铜管；14、回水铜管；15、内水管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，本领域技术人员应知，下面所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

附图中的任何元素数量均用于示例而非限制，以及任何命名都仅用于区分，而不具有任何限制含义。

下面参考本发明的若干代表性实施方式，详细阐释本发明的原理和精神。

本发明所提供的等离子割炬的实施例1：

如图1至图11所示，

包括电极座1以及密封设于电极座1一端的电极2，其中，所述电极2插套于电极座1的端部内，所述电极2与电极座1相近的一端外壁设有第九环形密封槽，所述第九环形密封槽内设有第九密封圈，且所述第九密封圈与电极座1的端部内壁表面抵接。电极座1的内壁和电极2的外壁之间设有配合抵接的斜阶面。

通过第九密封圈有效提高电极2与电极座1连接处的密封性，另外，配合抵接的斜阶面提高密封性的同时有效实现电极2与电极座1之间的限位配合装配。

所述电极座1上可拆卸套设有第一绝缘套3，所述第一绝缘套3的另一侧贯穿设有引弧线32，所述第一绝缘套3与电极2相近的一端密封设有喷嘴座4，所述喷嘴座4远离第一绝缘套3的一端密封设有喷嘴5，所述喷嘴5隔空罩设于电极2外。

其中，第一绝缘套3的外壁上形成有两个用于配合限位喷嘴座4的台阶面，且所述喷嘴座4的内壁设有与第一绝缘套3的端面抵接的台阶面。

第一绝缘套3上配合限位喷嘴座4的两个台阶面之间设有间隔的两个第六环形密封槽，第六环形密封槽内设有第六密封圈，第六密封圈的外侧面与喷嘴座4的内壁抵接。

第一绝缘套3外壁上与喷嘴座4的前端口相近的台阶面与第一绝缘套3的端口之间设有间隔的两个第七环形密封槽，第七环形密封槽内设有第七密封圈，第七密封圈的外侧面与喷嘴座4的内壁抵接。

所述第一绝缘套3与电极2相近的一端密封设有使进气管31通入的气体均匀分布于电极2周向的涡流环6，其中，所述电极2的外壁表面与涡流环6内壁之间设有第四密封圈，所述电极2的外壁表面设有用于限定放置第四密封圈的第四环形密封槽。

通过台阶面以及密封圈的设计，实现限位装配，降低装配难度的同时，提高配合安装的密封性。

所述第一绝缘套3的一侧设有连通至电极2处的进气管31，所述第一绝缘套3与电极座1之间形成有与进气管31连通的第一气室311，所述涡流环6上轴向设有导气孔61，所述涡流环6与喷嘴5之间形成有第二气室312，所述导气孔61连通于第一气室311与第二气室312之间，所述导气孔61与第二气室312之间形成有斜面导流台63，所述涡流环6上对应第二气室312处周向设有贯穿涡流环6侧壁的旋流孔62，所述电极2远离电极座1的一端外周向形成有等离子气室313，所述第二气室312与等离子气室313之间通过旋流孔62连通。

需要说明的，进气管31沿第一绝缘套3的侧面轴向设置且第一绝缘套3上设有连通进气管31与第一气室311的小孔，第一气室311设于第一绝缘套3与电极座1之间靠近电极2处。

需要进一步说明的是，由进气管31进入的气体通过小孔进入到第一气室311后通过涡流环6上的导气孔61到达斜面导流台63，斜面导流台63的一定阻流作用使得气流更均匀分布于周向，从而使得气体更均匀的通过旋流孔62进入到等离子气室313内，防止气流在涡流环6处产生紊乱或湍流，提高设备的运行稳定性和效率。

本实施例中，所述涡流环6与第一绝缘套3相近的一端插套于电极座1的端部外且涡流环6与第一绝缘套3相近的一端插套于第一绝缘套3的端部内，所述第一绝缘套3与涡流环6相近的一端内部设有与涡流环6的端面抵接的台阶面，所述涡流环6的外壁与第一绝缘套3以及喷嘴5之间配合设有密封对接结构。

其中密封对接结构具体如下，所述涡流环6与第一绝缘套3相近的一端外壁设有第一环形密封槽，第一环形密封槽内设有第一密封圈，所述第一密封圈对应压紧于第一绝缘套3的端部内。

所述涡流环6远离第一绝缘套3的一端设有第二环形密封槽，所述第二环形密封槽内设有与喷嘴5内壁抵接的第二密封圈，所述涡流环6对应喷嘴5端部处设有第三环形密封槽，所述第三环形密封槽与喷嘴5端部的内壁表面抵接。

其中，电极2与电极座1相近的一端外表面设有凸出表面的第十环形密封槽，第十环形密封槽内设有第十密封圈，第十密封圈外表面与涡流环6的内表面抵接，所述电极座1与电极2相近的一端抵接于第十环形密封槽的侧面。

需要说明的是，涡流环6与第一绝缘套3、喷嘴5、电极2之间均限位配合后且通过密封圈的设计实现各处的密封配合连接，有效提高第二气室312与等离子气室313的密封性，避免气体泄露影响气体流动的稳定性。

本实施例中，所述喷嘴座4远离第一绝缘套3的一端密封插套连接有内保护套7，所述内保护套7隔空罩设于喷嘴5外且喷嘴5的喷口端外壁与内保护套7的内壁之间设有密封结构。

所述密封结构包括设于喷嘴5的喷口端外壁上的第五环形密封槽，所述第五环形密封槽内设有第五密封环，所述第五密封环的外壁与内保护套7的端口内壁抵接。

其中，内保护套7远离喷嘴5的一端内圈设有第八密封圈，且所述喷嘴座4上对应设有限位放置第八密封圈的第八环形密封槽。

内保护套7与喷嘴5端口处密封配合，内保护套7可以保护喷嘴5免受外界损伤和污染，延长喷嘴5的使用寿命，再者内保护套7与喷嘴座4之间的配合可以提高割炬的密封性，防止气体泄漏，保证割炬的正常工作。

本实施例中，所述第一绝缘套3上套设有第二绝缘保护套8，所述内保护套7与喷嘴座4的套接部分以及喷嘴座4远离内保护套7的外露部分均处于第二绝缘保护套8内。所述第二绝缘保护套8外插套配合有金属保护套9，所述金属保护套9与喷嘴5的喷口端相近的一端可拆卸设有喷口保护罩10。

其中，所述第一绝缘套3上设有凸台33，所述第二绝缘保护套8以及金属保护套9的后端面与凸台33的侧面抵接。

第一绝缘套3上处于凸台33指向第二绝缘保护套8的一侧设有第一密封凹槽，第一密封凹槽内设有第一环形密封圈，第一环形密封圈的外侧面与第二绝缘保护套8的内表面抵接。

金属保护套9可以保护割炬的主体部分，避免其受到外界的损伤和污染，延长割炬的使用寿命，另外，金属保护套9可以增加割炬的重量，提高其在工作中的稳定性，保证切割的精度和效果。

本实施例中，所述金属保护套9外设有用于引导切割方向的导轮组件11。

本实施例中，所述导轮组件11包括套设于金属保护套9外的导轮绝缘套111，所述第一绝缘套3上设有凸台33，所述导轮绝缘套111与凸台33相近的一端通过过盈配合固定套放于凸台33上，所述导轮绝缘套111外可拆卸设有导轮安装板112，所述导轮安装板112远离导轮绝缘套111的一端外侧面设有移动导轮113。

通过移动导轮113可以起到支撑割炬的作用，减轻操作人员的劳动强度，提高切割效率，通过可以引导割炬沿着预定的轨道或路径移动，保证切割的直线度和精度。

本实施例中，所述导轮绝缘套111的外表面设有用于安装导轮安装板112的凸块114，所述导轮安装板112与导轮绝缘套111相对的侧面设有调节滑槽115，所述凸块114滑动配合卡放于调节滑槽115内，所述凸块114上设有螺纹孔，所述导轮安装板112设有与凸块114配合连接的长形腰孔。

通过长形腰孔实现前后调节移动导轮113，提高割炬的实用性。

本实施例中，所述电极座1上设有用于给电极2以及喷嘴5冷却的循环水冷结构。

本实施例中，所述循环水冷结构包括密封设于电极座1内的水芯管道12，所述水芯管道12的两端均设有对称的一对U型槽口，所述水芯管道12的一端伸出电极座1外且对应隔空伸入到电极2内部，所述电极座1远离电极2的一端设有与水芯管道12的另一端连通的进水铜管13，所述电极座1的管壁周向设有溢流孔101，所述第一绝缘套3内轴向设有出水孔34和回水孔35，所述出水孔34和回水孔35与喷嘴5相近的一端贯穿第一绝缘套3，所述喷嘴座4上轴向设有分别与出水孔34和回水孔35对应连通的进水孔41和回流孔42，所述第一绝缘套3上处于出水孔34远离喷嘴5的一端设有环形槽36，所述环形槽36与出水孔34连通且与环形槽36与溢流孔101相对分布，所述回水孔35远离喷嘴5的一端与回水铜管14连通，所述回水铜管14设于电极座1下方。

需要说明的是，割炬使用一段时间后避免过热需要冷却时，通过进水铜管13通入冷却水，冷却水先经过水芯管道12到达电极2处对电极2进行冷却，随后水流至水芯管道12与电极座1之间的间隙并通过溢流孔101流出电极座1，随后通过环形槽36进入出水孔34，并经过进水孔41、回流孔42至回水孔35，最后经过内水管15进入回水铜管14，冷却水流经范围大，冷却效果好。

其中，电极座1的管道内部靠近后端设有限位水芯管道12的凸环，水芯管道12上对应该凸环处设有两个间隔分布的第三密封凹槽，第三密封凹槽内设有第三环形密封圈，第三环形密封圈的外侧面与电极座1内壁抵接。

其中，电极座1的管壁外设有两组间隔分布的第四密封凹槽，所述第四密封凹槽内设有第四环形密封圈，两组第四密封凹槽分别分布于溢流孔101的两侧且每组第四密封凹槽均包括间隔分布的两个，第四环形密封圈的外侧面与第一绝缘套3的内壁抵接。

进一步地，所述电极座1与第一绝缘套3的对接处密封设有连通回水孔35与回水铜管14的内水管15。

进一步地，所述第一绝缘套3的末端设有处于水芯管道12与进水铜管13之间拐角连接处的单向球，保证水流的稳定性和可靠性。

其中，内水管15上靠近两端处均设有两个间隔分布的第二密封凹槽，所述第二密封凹槽的内设有第二环形密封圈，内水管15上其中一端的第二环形密封圈外侧面与电极座1对应抵接，内水管15上另一端的第二环形密封圈外侧面与第一绝缘套3对应抵接。

通过内水管15实现电极座1与第一绝缘套3的对接处的密封连接，避免水冷过程中冷却水泄露，提高设备的安全性和稳定性。

本实施例中，所述喷嘴5外隔空套设的内保护套7呈阶梯型圆台且阶梯型圆台远离喷嘴座4的一端呈圆台形，所述内保护套7上设有迫使水流由内保护套7的靠近喷嘴座4的一端向内保护套7的另一端流动的导流结构。所述进水孔41和回流孔42与内保护套7相近的一端内壁形成有台阶面。

其中，所述导流结构包括设于内保护套7内壁上的阶型凸筋71，所述阶型凸筋71为沿内保护套7的内壁周向间隔设置的六个。

具体的，进水孔41和回流孔42与内保护套7相近的一端口径变大且内壁形成有台阶面，该结构有助于消除水流的能量，使得水流更加平稳，减少旋涡的形成。

另外，内保护套7的结构为沿水流方向口径逐渐减小，且内壁设有增加水流阻力的阶型凸筋71，根据流体力学的原理，水流的速度会相应增加，以实现迫使水流快速流动到喷嘴5端口的高温区，提高喷嘴5的冷却效果和效率。

根据本说明书的上述描述，本领域技术人员还可以理解如下使用的术语，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“宽度”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的术语是基于本说明书的附图所示的方位或位置关系的，其仅是为了便于阐述本发明的方案和简化描述的目的，而不是明示或暗示所涉及的装置或元件必须要具有所述特定的方位、以特定的方位来构造和进行操作，因此上述的方位或位置关系术语不能被理解或解释为对本发明方案的限制。

另外，在本说明书的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个或更多个等，除非另有明确具体地限定。

Claims (10)

1.一种等离子割炬，其特征在于，包括电极座（1）以及密封设于电极座（1）一端的电极（2），所述电极座（1）上可拆卸套设有第一绝缘套（3），所述第一绝缘套（3）的一侧设有连通至电极（2）处的进气管（31），所述第一绝缘套（3）的另一侧贯穿设有引弧线（32），所述第一绝缘套（3）与电极（2）相近的一端密封设有喷嘴座（4），所述喷嘴座（4）远离第一绝缘套（3）的一端密封设有喷嘴（5），所述喷嘴（5）隔空罩设于电极（2）外；

所述第一绝缘套（3）与电极（2）相近的一端密封设有使进气管（31）通入的气体均匀分布于电极（2）周向的涡流环（6），所述第一绝缘套（3）与电极座（1）之间形成有与进气管（31）连通的第一气室（311），所述涡流环（6）上轴向设有导气孔（61），所述涡流环（6）与喷嘴（5）之间形成有第二气室（312），所述导气孔（61）连通于第一气室（311）与第二气室（312）之间，所述导气孔（61）与第二气室（312）之间形成有斜面导流台（63），所述涡流环（6）上对应第二气室（312）处周向设有贯穿涡流环（6）侧壁的旋流孔（62），所述电极（2）远离电极座（1）的一端外周向形成有等离子气室（313），所述第二气室（312）与等离子气室（313）之间通过旋流孔（62）连通；

所述涡流环（6）的外壁与第一绝缘套（3）以及喷嘴（5）之间配合设有密封对接结构。

2.根据权利要求1所述的等离子割炬，其特征在于，所述涡流环（6）与第一绝缘套（3）相近的一端插套于电极座（1）的端部外且涡流环（6）与第一绝缘套（3）相近的一端插套于第一绝缘套（3）的端部内，所述第一绝缘套（3）与涡流环（6）相近的一端内部设有与涡流环（6）的端面抵接的台阶面；

所述密封对接结构包括设于所述涡流环（6）上与第一绝缘套（3）相近的一端外壁上的第一环形密封槽，第一环形密封槽内设有第一密封圈，所述第一密封圈对应压紧于第一绝缘套（3）的端部内；

所述涡流环（6）远离第一绝缘套（3）的一端设有第二环形密封槽，所述第二环形密封槽内设有与喷嘴（5）内壁抵接的第二密封圈，所述涡流环（6）对应喷嘴（5）端部处设有第三环形密封槽，所述第三环形密封槽与喷嘴（5）端部的内壁表面抵接。

3.根据权利要求1所述的等离子割炬，其特征在于，所述喷嘴座（4）远离第一绝缘套（3）的一端密封插套连接有内保护套（7），所述内保护套（7）隔空罩设于喷嘴（5）外且喷嘴（5）的喷口端外壁与内保护套（7）的内壁之间设有密封结构。

4.根据权利要求3所述的等离子割炬，其特征在于，所述第一绝缘套（3）上套设有第二绝缘保护套（8），所述内保护套（7）与喷嘴座（4）的套接部分以及喷嘴座（4）远离内保护套（7）的外露部分均处于第二绝缘保护套（8）内。

5.根据权利要求4所述的等离子割炬，其特征在于，所述第二绝缘保护套（8）外插套配合有金属保护套（9），所述金属保护套（9）与喷嘴（5）的喷口端相近的一端可拆卸设有喷口保护罩（10）；

所述金属保护套（9）外设有用于引导切割方向的导轮组件（11）。

6.根据权利要求5所述的等离子割炬，其特征在于，所述导轮组件（11）包括套设于金属保护套（9）外的导轮绝缘套（111），所述第一绝缘套（3）上设有凸台（33），所述导轮绝缘套（111）与凸台（33）相近的一端通过过盈配合固定套放于凸台（33）上，所述导轮绝缘套（111）外可拆卸设有导轮安装板（112），所述导轮安装板（112）远离导轮绝缘套（111）的一端外侧面设有移动导轮（113）。

7.根据权利要求3-6任一项所述的等离子割炬，其特征在于，所述电极座（1）上设有用于给电极（2）以及喷嘴（5）冷却的循环水冷结构。

8.根据权利要求7所述的等离子割炬，其特征在于，所述循环水冷结构包括密封设于电极座（1）内的水芯管道（12），所述水芯管道（12）的两端均设有对称的一对U型槽口，所述水芯管道（12）的一端伸出电极座（1）外且对应隔空伸入到电极（2）内部，所述电极座（1）远离电极（2）的一端设有与水芯管道（12）的另一端连通的进水铜管（13），所述电极座（1）的管壁周向设有溢流孔（101），所述第一绝缘套（3）内轴向设有出水孔（34）和回水孔（35），所述出水孔（34）和回水孔（35）与喷嘴（5）相近的一端贯穿第一绝缘套（3），所述喷嘴座（4）上轴向设有分别与出水孔（34）和回水孔（35）对应连通的进水孔（41）和回流孔（42），所述第一绝缘套（3）上处于出水孔（34）远离喷嘴（5）的一端设有环形槽（36），所述环形槽（36）与出水孔（34）连通且环形槽（36）与溢流孔（101）相对分布，所述回水孔（35）远离喷嘴（5）的一端与回水铜管（14）连通，所述回水铜管（14）设于电极座（1）下方；

所述电极座（1）与第一绝缘套（3）的对接处密封设有连通回水孔（35）与回水铜管（14）的内水管（15）。

9.根据权利要求8所述的等离子割炬，其特征在于，所述喷嘴（5）外隔空套设的内保护套（7）呈阶梯型圆台且阶梯型圆台远离喷嘴座（4）的一端呈圆台形，所述内保护套（7）上设有迫使水流由内保护套（7）的靠近喷嘴座（4）的一端向内保护套（7）的另一端流动的导流结构；

所述进水孔（41）和回流孔（42）与内保护套（7）相近的一端内壁形成有台阶面。

10.根据权利要求9所述的等离子割炬，其特征在于，所述导流结构包括设于内保护套（7）内壁上的阶型凸筋（71），所述阶型凸筋（71）为沿内保护套（7）的内壁周向间隔设置的若干个。