CN115918992A

CN115918992A - 雾化芯制作方法及雾化装置

Info

Publication number: CN115918992A
Application number: CN202211695050.7A
Authority: CN
Inventors: 安鹏展; 赵贯云; 赵波洋; 陈跃勇; 陈杰; 孟繁轲
Original assignee: Shenzhen Woody Vapes Technology Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Woody Vapes Technology Co Ltd
Priority date: 2022-12-28
Filing date: 2022-12-28
Publication date: 2023-04-07

Abstract

本公开描述了一种雾化芯制作方法及雾化装置，该方法包括：准备具有多个微孔的导油基材；在所述导油基材一面镀覆一层底膜；将多个微孔中填充石蜡；在所述底膜上涂布光刻胶；采用预定形状的掩膜板遮挡所述光刻胶以形成不曝光区域，并采用曝光光源对所述光刻胶上不曝光区域外的曝光区域进行曝光。由此，能够提高雾化芯的加工精度，且有利于自动化加工雾化芯。

Description

雾化芯制作方法及雾化装置

技术领域

本公开属于电子雾化技术领域，特别涉及一种雾化芯制作方法及雾化装置。

背景技术

众所周知，雾化芯是电子雾化装置中非常重要的一个部分，一个好的雾化芯能提升电子雾化装置产生气溶胶的质量及口感。如今的市面上通常有两种雾化芯，一种是陶瓷芯，一种是棉芯。

目前，市场上的陶瓷芯多采用多孔陶瓷结构，成型方式多以热压铸为主(三代雾化芯)，也有一部分采用挤压或干压成型方式(四代雾化芯)。前者生产需要的人员较多，难以自动化生产；后者雾化量较小，虽可自动化生产，但对设备、工艺的要求较高。

发明内容

本公开是鉴于上述现有技术的状况而提出的，其目的在于提供一种利于自动化加工且加工精度高的雾化芯制作方法及雾化装置。

为此，本公开第一方面提供了一种雾化芯制作方法，包括：

准备具有多个微孔的导油基材；

在所述导油基材一面镀覆一层底膜；

将多个微孔中填充石蜡；

在所述底膜上涂布光刻胶；

采用预定形状的掩膜板遮挡所述光刻胶以形成不曝光区域，并采用曝光光源对所述光刻胶上不曝光区域外的曝光区域进行曝光；

去除所述曝光区域下的所述底膜。

在本公开第一方面中，将导油基材与镀膜、光刻胶掩膜工艺相结合，能够加工出精度高的雾化芯，且利于雾化芯的自动化批量加工。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，所述导油基材材质为石英玻璃。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，采用激光或蚀刻工艺在所述导油基材上加工出多个微孔。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，多个微孔的孔径为20μm至200μm，多个微孔的孔间距为20μm至200μm。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，所述底膜的厚度为0.5μm至10μm。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，在所述导油基材一面镀覆一层底膜后，将所述导油基材置于石蜡池中，将多个微孔充满石蜡。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，采用旋涂或丝网印刷的方式在所述底膜上涂布所述光刻胶。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，所述光刻胶为I光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶的一种。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，I线光刻胶厚度为0.7～3μm，KrF光刻胶厚度为0.4～0.9μm，ArF光刻胶厚度为0.2～0.5μm。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，在所述底膜上涂布所述光刻胶，继续进行80～120，30～60秒的烘干。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，采用接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光中的一种对所述曝光区域进行曝光。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，对所述曝光区域进行曝光之后，在110的环境中进行0.5分钟至1.5分钟的烘烤。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，对所述曝光区域进行曝光后，采用浸没式显影或连续喷雾式显影对所述导油基材进行显影处理。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，进行显影处理后，将所述导油基材在1000～1200下放置1～2min，以蒸发掉所述光刻胶里面的溶剂。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，蒸发掉所述光刻胶里面的溶剂后，采用蚀刻液去除所述曝光区域下的所述底膜。

另外，在本公开第一方面所涉及的雾化芯制作方法中，可选地，去除所述曝光区域下的所述底膜的一部分后，采用湿法清洗去除所述导油基材上的所述光刻胶。

本公开第二方面提供了一种雾化装置，其包括如上任意一种所述的雾化芯制作方法制作而成的雾化芯。

附图说明

现在将通过参考附图的例子进一步详细地解释本公开的实施例，

其中：

图1示出了本公开的示例所涉及的雾化芯制作方法的流程图。

图2示出了本公开的示例所涉及的具有多个微孔的导油基材的结构示意图。

图3示出了本公开的示例所涉及的在导油基材上镀覆有底膜的结构示意图。

图4示出了本公开的示例所涉及的在导油基材和底膜中填充有石蜡的结构示意图。

图5示出了本公开的示例所涉及的在底膜上涂覆光刻胶的结构示意图。

图6示出了本公开的示例所涉及的采用正性光刻的示意图。

图7示出了本公开的示例所涉及的采用负性光刻的示意图。

图8示出了本公开的示例所涉及的雾化芯制作完成后的结构示意图。

具体实施方式

以下，参考附图，详细地说明本公开的优选实施方式。在下面的说明中，对于相同部件赋予相同的符号，省略重复说明。另外，附图只是示意图，部件相互之间尺寸的比例或者部件形状等可与实际不同。

参照图1和图2，本实施方式所涉及的雾化芯制作方法，其可以包括如下步骤：

步骤S100，准备具有多个微孔11的导油基材1；

步骤S200，在所述导油基材1一面镀覆一层底膜2；

步骤S300，将多个微孔11中填充石蜡12；

步骤S400，在所述底膜2上涂布光刻胶3；

步骤S500，采用预定形状的掩膜板4遮挡所述光刻胶3以形成不曝光区域32，并采用曝光光源对所述光刻胶3上不曝光区域32外的曝光区域31进行曝光；

步骤S600，去除所述曝光区域31下的所述底膜2，以制作完成雾化芯。

在本公开中，由于将导油基材1与镀膜、光刻胶掩膜工艺相结合，由此能够加工出精度较高的雾化芯，且利于雾化芯的自动化批量加工。

在一些示例中，所述导油基材1的材质可以为石英玻璃。

在一些示例中，在步骤S100中，可以采用激光或蚀刻工艺在导油基材1上加工出多个微孔11。

在一些示例中，多个微孔11的孔径可以为20μm至200μm，多个微孔的孔间距可以为20μm至200μm。

在一些示例中，该微孔可以是贯穿所述导油基材上下表面的微孔。

在一些示例中，在步骤S200中，所述底膜2的厚度可以为0.5μm至10μm。

在一些示例中，底膜2的材质可以为金、铬、镍铬合金等中的至少一种。

在一些示例中，在步骤S300中，在所述导油基材1一面镀覆一层底膜2后，可以将所述导油基材1置于石蜡池中，进而将多个微孔11充满石蜡12。

在一些示例中，在步骤S400中，可以采用旋涂或丝网印刷的方式在所述底膜2上涂布所述光刻胶3。

在一些示例中，所述光刻胶3为I光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶的一种。

在一些示例中，在步骤S400中，当采用I线光刻胶时，光刻胶的厚度可以约为0.7～3μm；当采用KrF光刻胶时，光刻胶的厚度可以约0.4～0.9μm；当采用ArF光刻胶时，光刻胶的厚度可以约为0.2～0.5μm。

在一些示例中，参照图6和图7，光刻胶工艺可以为正性光刻胶或负性光刻胶。在一些示例中，在正性光刻胶工艺中，可以将掩膜板4制成图6所示的形状，进而可以使用曝光光源对图6中的曝光区域31进行曝光。在一些示例中，在负性光刻胶中，可以将掩膜板4制成图7所示的形状，进而可以使用曝光光源对图6中的曝光区域31进行曝光。图6和图7中的曝光区域31和图7中的曝光区域31可以互补。

在一些示例中，在步骤S400中，在所述底膜上涂布所述光刻胶后，可以继续进行温度为80～120，时间为30～60秒的烘干。由此，能够去除光刻胶中的溶剂，增强黏附性。

在一些示例中，可以采用接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光中的一种对所述曝光区域31进行曝光。

在一些示例中，在步骤S500中，对所述曝光区域31进行曝光之后，可以在110的环境中进行0.5分钟至1.5分钟的烘烤。由此，能够激发化学性增强光刻胶的PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应使之能溶解于显影液。

在一些示例中，对所述曝光区域进行曝光后，可以采用浸没式显影或连续喷雾式显影对所述导油基材1进行显影处理。

在一些示例中，正性光刻胶工艺的显影液可以为碱性显影液。在一些示例中，负性光刻胶的显影液可以为二甲苯。

在一些示例中，进行显影处理后，可以将所述导油基材1在1000～1200下放置1～2min，以蒸发掉所述光刻胶里面的溶剂。由此，能够提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力。

在一些示例中，蒸发掉所述光刻胶3里面的溶剂后，可以采用蚀刻液去除所述曝光区域31下的所述底膜2，从而可以保留需要的发热部分。

在一些示例中，去除所述曝光区域31下的所述底膜2的一部分后，可以采用湿法清洗去除所述导油基材1上的所述光刻胶3。

本公开第二方面提供了一种雾化装置，其可以包括如上任意一种所述的雾化芯制作方法制作而成的雾化芯。该雾化装置例如还可以包括储油部件、供电部件等。

虽然以上结合附图和实施方式对本公开进行了具体说明，但是可以理解，上述说明不以任何形式限制本公开。本领域技术人员在不偏离本公开的实质精神和范围的情况下可以根据需要对本公开进行变形和变化，这些变形和变化均落入本公开的范围内。

Claims

1.一种雾化芯制作方法，其特征在于，包括：

准备具有多个微孔的导油基材；

在所述导油基材一面镀覆一层底膜；

将多个微孔中填充石蜡；

在所述底膜上涂布光刻胶；

采用预定形状的掩膜板遮挡所述光刻胶以形成不曝光区域，并采用曝光光源对所述光刻胶上不曝光区域外的曝光区域进行曝光。

2.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

所述导油基材材质为石英玻璃。

3.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

在所述导油基材一面镀覆一层底膜后，将所述导油基材置于石蜡池中，将多个微孔充满石蜡。

4.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

采用旋涂或丝网印刷的方式在所述底膜上涂布所述光刻胶。

5.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

在所述底膜上涂布所述光刻胶后，对所述导油基材进行80～120，30～60秒的烘干。

6.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

对所述曝光区域进行曝光之后，在110的环境中进行0.5分钟至1.5分钟的烘烤。

7.根据权利要求1所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

对所述曝光区域进行曝光后，采用浸没式显影或连续喷雾式显影对所述导油基材进行显影处理。

8.根据权利要求7所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

进行显影处理后，将所述导油基材在1000～1200下放置1～2min，以蒸发掉所述光刻胶里面的溶剂。

9.根据权利要求8所述的雾化芯制作方法，其特征在于，

蒸发掉所述光刻胶里面的溶剂后，采用蚀刻液去除所述曝光区域下的所述底膜。

10.一种雾化装置，其特征在于，

包括权利要求1-9任意一种所述的雾化芯制作方法制作而成的雾化芯。