CN115193187B - 具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 - Google Patents
具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115193187B CN115193187B CN202111563630.6A CN202111563630A CN115193187B CN 115193187 B CN115193187 B CN 115193187B CN 202111563630 A CN202111563630 A CN 202111563630A CN 115193187 B CN115193187 B CN 115193187B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- inner cavity
- gas
- ejector
- columnar
- air inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000005406 washing Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims abstract description 63
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 62
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 53
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 22
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 20
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 99
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 238000009991 scouring Methods 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005922 Phosphane Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910000064 phosphane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/06—Spray cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
- B08B9/027—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages
- B08B9/04—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages using cleaning devices introduced into and moved along the pipes
- B08B9/043—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages using cleaning devices introduced into and moved along the pipes moved by externally powered mechanical linkage, e.g. pushed or drawn through the pipes
- B08B9/0436—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages using cleaning devices introduced into and moved along the pipes moved by externally powered mechanical linkage, e.g. pushed or drawn through the pipes provided with mechanical cleaning tools, e.g. scrapers, with or without additional fluid jets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B2209/00—Details of machines or methods for cleaning hollow articles
- B08B2209/02—Details of apparatuses or methods for cleaning pipes or tubes
- B08B2209/027—Details of apparatuses or methods for cleaning pipes or tubes for cleaning the internal surfaces
- B08B2209/04—Details of apparatuses or methods for cleaning pipes or tubes for cleaning the internal surfaces using cleaning devices introduced into and moved along the pipes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
本发明公开了一种具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，旨在提供一种能够在不影响设备正常工作的情况下，有效的降低半导体尾气喷淋洗涤设备拆卸清理的频率，已解决现有技术中半导体尾气喷淋洗涤设备需要频繁，而存在的操作不便及安全隐患的问题的半导体尾气喷淋洗涤设备。它包括进气头，进气头包括进气本体、设置在进气本体内的柱状内腔及进气管，所述柱状内腔的第一端封闭，柱状内腔的第二端开口，所述进气管的一端与柱状内腔连通，进气管与柱状内腔连通的一端位于柱状内腔的第一端与第二端之间；自清理装置，自清理装置包括位于柱状内腔内的刮尘件及用于驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动的移动执行机构。
Description
技术领域
本发明涉及半导体尾气处理领域，具体涉及一种具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备。
背景技术
半导体尾气喷淋洗涤设备用于对半导体尾气进行处理，半导体尾气通过半导体尾气喷淋洗涤设备的进气头进入洗涤装置中；由于半导体尾气中包含很多易氧化结晶气体成分，例如，半导体尾气中的硅烷（SiH4）在常温下就能氧化形成SiO2颗粒物附着在进气头的内壁，如半导体尾气中的三氯氢硅（SiHCl3）遇液体蒸发扩散后与之反应也会生成SiO2颗粒物附着在进气头的内壁，如半导体尾气中的磷烷（PH3）遇液体蒸发扩散后会形成粘度较高的颗粒物附着在进气头的内壁。因而目前的半导体尾气喷淋洗涤设备的进气头需要经常拆开，对进气头的内壁的附着物进行清理，如此，不仅操作不便，而且频繁拆卸清理时，由于设备中的气体及其生成物中存在有毒、易燃易爆的气体或生成物，存在较大的安全隐患。
发明内容
本发明的目的是为了提供一种能够在不影响设备正常工作的情况下，有效的降低半导体尾气喷淋洗涤设备拆卸清理的频率，已解决现有技术中半导体尾气喷淋洗涤设备需要频繁拆卸清理，而存在的操作不便及安全隐患的问题的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备。
本发明的技术方案是：
一种具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，包括：
进气头，进气头包括进气本体、设置在进气本体内的柱状内腔及进气管，所述柱状内腔的第一端封闭，柱状内腔的第二端开口，所述进气管的一端与柱状内腔连通，进气管与柱状内腔连通的一端位于柱状内腔的第一端与第二端之间；
自清理装置，自清理装置用于清理柱状内腔的内壁上的附着物，自清理装置包括位于柱状内腔内的刮尘件及用于驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动的移动执行机构。
本方案的半导体尾气喷淋洗涤设备，其可以通过移动执行机构来驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动，在不拆设备的情况下，实现自动清理柱状内腔的内壁上的附着物，因而其能够在不影响设备正常工作的情况下，有效的降低半导体尾气喷淋洗涤设备拆卸清理的频率，已解决现有技术中半导体尾气喷淋洗涤设备需要频繁拆卸清理，而存在的操作不便及安全隐患的问题。
作为优选，还包括液体流喷射器，液体流喷射器包括喷射器本体、设置在喷射器本体内的喷射器内腔与内衬喉管，所述喷射器本体的一端与进气本体密封连接，所述内衬喉管沿柱状内腔的轴向延伸分布，内衬喉管的一端与柱状内腔的第二端连接，内衬喉管的另一端伸入到喷射器内腔内，所述刮尘件能够移动至内衬喉管内，以对内衬喉管的内壁进行清理。如此，可以通过移动执行机构来驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动，使刮尘件依次进过柱状内腔和内衬喉管，从而在不拆设备的情况下，实现自动清理柱状内腔和内衬喉管的内壁上的附着物。
作为优选，液体流喷射器还包括设置在喷射器本体内的环形液体腔及设置在喷射器本体外壁上并与环形液体腔连通的进液口，所述喷射器内腔的横截面呈圆形，喷射器内腔位于环形液体腔的内侧，环形液体腔与喷射器内腔通过切向喷口相连通，且切向喷口沿喷射器内腔的切向延伸分布。洗涤液体通过进液口进入环形液体腔，然后通过切向喷口喷射到喷射器内腔内，喷射到喷射器内腔内的洗涤液体将沿喷射器内腔的内壁螺旋流动，形成螺旋液体流，如此，一方面可以通过螺旋液体流隔离半导体尾气与喷射器内腔的内壁，另一方面，螺旋液体流还可以有效的冲刷喷射器内腔的内壁，从而防止半导体尾气生成的颗粒物附着在喷射器内腔的内壁上；同时，对半导体尾气进行洗涤。
作为优选，喷射器内腔呈锥形，喷射器内腔的内径自上而下逐渐减小。如此，有利于提高螺旋液体流隔离半导体尾气与喷射器内腔的内壁的隔离效果，并提高螺旋液体流冲刷喷射器内腔的内壁的冲刷效果。
作为优选，还包括洗涤管道，洗涤管道的一端与喷射器内腔连通。如此，洗涤液和半导体尾气进入洗涤管道内后能够对半导体尾气进行洗涤。
作为优选，还包括气体吹扫隔离装置，气体吹扫隔离装置包括设置在进气头上的吹气孔，吹气孔与柱状内腔的第一端连通，吹气孔向柱状内腔内的刮尘件吹气。如此，通过吹气孔向柱状内腔内的刮尘件吹气，可以在刮尘件处形成一个局部的气腔，以隔离刮尘件半导体尾气，从而防止半导体尾气生成的颗粒物附着在刮尘件上以及移动执行机构中伸入柱状内腔内的部分上，从而保证刮尘件及移动执行机构能够顺利的工作。
作为优选，气体吹扫隔离装置还包括储气装置及储存在储气装置内的吹扫气体，吹扫气体为不与半导体尾气产生化学反应的气体，气体吹扫隔离装置通过吹气孔将吹扫气体朝柱状内腔内的刮尘件吹。
作为优选，气体吹扫隔离装置还包括三通接头，三通接头的一端与吹气孔的外端连接，三通接头的第二端通过连接管与储气装置连接，三通接头的第三端设有气压检测传感器。在设备工作过程中，当半导体尾气生成的颗粒物附着柱状内腔和内衬喉管的内壁上，随着颗粒物附着的增多，会逐渐增大气流的阻力，提高柱状内腔的内压；本方案可以通过气压检测传感器来检测柱状内腔内的气压，当柱状内腔内的气压超过设定值时，自清理装置工作，通过移动执行机构来驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动，使刮尘件依次进过柱状内腔和内衬喉管，从而实现自动清理柱状内腔和内衬喉管的内壁上的附着物，保证设备正常工作。
作为优选，刮尘件上设有若干透气过孔。如此，在刮尘件移动至进气管与柱状内腔连通的一端的下方后，通过进气管进入的半导体尾气可以通过透气过孔穿过刮尘件，避免影响设备正常工作。
作为优选，刮尘件为空心结构，刮尘件的内腔往下延伸并与刮尘件的下端连通，透气过孔连通刮尘件的外壁与内壁。
作为优选，刮尘件的内腔的侧壁上还设有收缩缝。
作为优选，移动执行机构为电动推杆或气缸或油缸或直线运动模组或直线电机。
作为优选，柱状内腔的第一端与进气本体的外壁连通，所述进气头还包括封遮柱状内腔的第一端的固定端盖，所述移动执行机构安装在固定端盖上。如此，便于进气头的拆卸清理。
本发明的有益效果是：能够在不影响设备正常工作的情况下，有效的降低半导体尾气喷淋洗涤设备拆卸清理的频率，已解决现有技术中半导体尾气喷淋洗涤设备需要频繁拆卸清理，而存在的操作不便及安全隐患的问题。
附图说明
图1是本发明的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备的一种剖面结构示意图。
图2是图1中A-A出的一种剖面结构示意图。
图中：
进气头1，进气本体1.1，柱状内腔1.2，进气管1.3，固定端盖1.4；自清理装置2，刮尘件2.1，移动执行机构2.2，透气过孔2.3；
液体流喷射器3，喷射器本体3.1，喷射器内腔3.2，内衬喉管3.3，环形液体腔3.4，进液口3.5，切向喷口3.6；
洗涤管道4；
气体吹扫隔离装置5，吹气孔5.1，三通接头5.2，连接管5.3，气压检测传感器5.4。
具体实施方式
为使本发明技术方案实施例目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本发明实施例的技术方案进行清楚地解释和说明，但下述实施例仅为本发明的优选实施例，而不是全部实施例。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其他实施例，都属于本发明的保护范围。
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本方案，而不能解释为对本发明方案的限制。
参照下面的描述和附图，将清楚本发明的实施例的这些和其他方面。在这些描述和附图中，具体公开了本发明的实施例中的一些特定实施方式来表示实施本发明的实施例的原理的一些方式，但是应当理解，本发明的实施例的范围不受此限制。相反，本发明的实施例包括落入所附加权利要求书的精神和内涵范围内的所有变化、修改和等同物。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“厚度”、“上”、“下”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定，“若干”的含义是表示一个或者多个。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
具体实施例一：如图1 、图2所示，一种具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，包括进气头1、自清理装置2与液体流喷射器3。
进气头包括进气本体1.1、设置在进气本体内的柱状内腔1.2及进气管1.3。柱状内腔的第一端封闭，柱状内腔的第二端开口，本实施例中，柱状内腔呈上下延伸分布，柱状内腔的第一端为柱状内腔的上端，柱状内腔的第二端为柱状内腔的下端。进气管的一端与柱状内腔连通。进气管与柱状内腔连通的一端位于柱状内腔的第一端与第二端之间。
液体流喷射器3包括喷射器本体3.1、设置在喷射器本体内的喷射器内腔3.2与内衬喉管3.3。喷射器本体的一端与进气本体密封连接。内衬喉管沿柱状内腔的轴向延伸分布，本实施例中，内衬喉管呈上下延伸分布，内衬喉管与柱状内腔同轴分布。内衬喉管的一端与柱状内腔的第二端连接（即内衬喉管的上端与柱状内腔的下端连接），内衬喉管的另一端伸入到喷射器内腔内（即内衬喉管的下端伸入到喷射器内腔内）。
自清理装置2用于清理柱状内腔的内壁和内衬喉管的内壁上的附着物。自清理装置包括位于柱状内腔内的刮尘件2.1及用于驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动的移动执行机构2.2。刮尘件能够移动至内衬喉管内，以对内衬喉管的内壁进行清理。如图1所示，自清理装置处在不工作状态时，刮尘件位于进气管与柱状内腔连通的一端的上方，且刮尘件靠近柱状内腔的上端。
本实施例的半导体尾气喷淋洗涤设备的具体工作如下，半导体尾气通过进气管进入柱状内腔，然后通过内衬喉管进入喷射器内腔；同时，液体流喷射器将洗涤液体喷射到喷射器内腔，对半导体尾气进行洗涤（洗涤液体为自来水或再生水或纯水或加注与半导体尾气中的对应气体反应的化学品混合液体）。在设备工作过程中，可以通过移动执行机构来驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动，使刮尘件依次进过柱状内腔和内衬喉管，在不拆设备的情况下，实现自动清理柱状内腔和内衬喉管的内壁上的附着物，因而其能够在不影响设备正常工作的情况下，有效的降低半导体尾气喷淋洗涤设备拆卸清理的频率，已解决现有技术中半导体尾气喷淋洗涤设备需要频繁拆卸清理，而存在的操作不便及安全隐患的问题。
具体的，如图1所示，具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备还包括洗涤管道4，洗涤管道的一端与喷射器内腔连通。如此，洗涤液和半导体尾气进入洗涤管道内后能够对半导体尾气进行洗涤。
柱状内腔的第一端与进气本体的外壁连通，进气头还包括封遮柱状内腔的第一端的固定端盖1.4。固定端盖与进气本体的上端密封连接。移动执行机构2.2安装在固定端盖上。移动执行机构为电动推杆或气缸或油缸或直线运动模组或直线电机。移动执行机构位于进气头的外侧。本实施例中，移动执行机构为气缸或油缸，气缸或油缸的活塞杆穿过固定端盖，活塞杆与固定端盖滑动密封连接，刮尘件固定在活塞杆的端部。
进一步的，如图1所示，刮尘件上设有若干透气过孔2.3。如此，在刮尘件移动至进气管与柱状内腔连通的一端的下方后，通过进气管进入的半导体尾气可以通过透气过孔穿过刮尘件，避免影响设备正常工作。
刮尘件为空心结构，刮尘件的内腔往下延伸并与刮尘件的下端连通，透气过孔连通刮尘件的外壁与内壁。刮尘件的内腔的侧壁上还设有收缩缝。
进一步的，如图1、图2所示，液体流喷射器还包括设置在喷射器本体内的环形液体腔3.4及设置在喷射器本体外壁上并与环形液体腔连通的进液口3.5。喷射器内腔的横截面呈圆形，喷射器内腔位于环形液体腔的内侧，环形液体腔与喷射器内腔通过切向喷口3.6相连通，且切向喷口沿喷射器内腔的切向延伸分布。洗涤液体通过进液口进入环形液体腔，然后通过切向喷口喷射到喷射器内腔内，喷射到喷射器内腔内的洗涤液体将沿喷射器内腔的内壁螺旋流动，形成螺旋液体流，如此，一方面可以通过螺旋液体流隔离半导体尾气与喷射器内腔的内壁，另一方面，螺旋液体流还可以有效的冲刷喷射器内腔的内壁，从而防止半导体尾气生成的颗粒物附着在喷射器内腔的内壁上；同时，对半导体尾气进行洗涤。
进一步的，如图1、图2所示，喷射器内腔呈圆锥形，喷射器内腔的内径自上而下逐渐减小。如此，有利于提高螺旋液体流隔离半导体尾气与喷射器内腔的内壁的隔离效果，并提高螺旋液体流冲刷喷射器内腔的内壁的冲刷效果。本实施例中，内衬喉管与喷射器内腔同轴分布。
进一步的，如图1所示，具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备还包括气体吹扫隔离装置5。气体吹扫隔离装置包括设置在进气头上的吹气孔5.1，本实施例中，吹气孔设置在进气本体上端的固定端盖的外顶面上。吹气孔与柱状内腔的第一端连通（即吹气孔与柱状内腔的上端连通），吹气孔向柱状内腔内的刮尘件吹气。如此，通过吹气孔向柱状内腔内的刮尘件吹气，可以在刮尘件处形成一个局部的气腔，以隔离刮尘件半导体尾气，从而防止半导体尾气生成的颗粒物附着在刮尘件上以及移动执行机构中伸入柱状内腔内的部分上，从而保证刮尘件及移动执行机构能够顺利的工作。
具体的，气体吹扫隔离装置还包括储气装置、储存在储气装置内的吹扫气体及三通接头5.2。三通接头的一端与吹气孔的外端连接。三通接头的第二端通过连接管5.3与储气装置连接。三通接头的第三端设有气压检测传感器5.4。气压检测传感器用于检测柱状内腔的气压。气体吹扫隔离装置通过吹气孔将吹扫气体朝柱状内腔内的刮尘件吹。吹扫气体为不与半导体尾气产生化学反应的气体，例如，惰性气体、氢气或氨气等气体。本实施例中，储气装置包括储存吹扫气体的储气罐。
在设备工作过程中，当半导体尾气生成的颗粒物附着柱状内腔和内衬喉管的内壁上，随着颗粒物附着的增多，会逐渐增大气流的阻力，提高柱状内腔的内压；如此，可以通过气压检测传感器来检测柱状内腔内的气压，当柱状内腔内的气压超过设定值时，自清理装置工作，通过移动执行机构来驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动，使刮尘件依次进过柱状内腔和内衬喉管，从而实现自动清理柱状内腔和内衬喉管的内壁上的附着物，保证设备正常工作。当然，在设备工作过程中，还可以根据具体的需要，定时的通过移动执行机构来驱动刮尘件移动，以实现自动清理柱状内腔和内衬喉管的内壁上的附着物。另一方面，在半导体尾气喷淋洗涤设备工作过程，吹气孔持续向柱状内腔内的刮尘件吹气，还可以防止半导体尾气通过三通接头逆流与气压检测传感器接触，防止半导体尾气对气压检测传感器产生损害。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明作任何限制，凡是根据本发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效变换，均仍属于本发明技术方案的保护范围。
Claims (7)
1.一种具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，包括：
进气头，进气头包括进气本体、进气管及设置在进气本体内的柱状内腔，所述柱状内腔的第一端封闭，柱状内腔的第二端开口，所述进气管的一端与柱状内腔连通，进气管与柱状内腔连通的一端位于柱状内腔的第一端与第二端之间；其特征是，还包括：
自清理装置，自清理装置用于清理柱状内腔的内壁上的附着物，自清理装置包括位于柱状内腔内的刮尘件及用于驱动刮尘件沿柱状内腔的轴向移动的移动执行机构；
液体流喷射器，液体流喷射器包括喷射器本体、设置在喷射器本体内的喷射器内腔与内衬喉管，所述喷射器本体的一端与进气本体密封连接，所述内衬喉管沿柱状内腔的轴向延伸分布，内衬喉管的一端与柱状内腔的第二端连接，内衬喉管的另一端伸入到喷射器内腔内，所述刮尘件能够移动至内衬喉管内，以对内衬喉管的内壁进行清理；
所述液体流喷射器还包括设置在喷射器本体内的环形液体腔及设置在喷射器本体外壁上并与环形液体腔连通的进液口，所述喷射器内腔的横截面呈圆形，喷射器内腔位于环形液体腔的内侧，环形液体腔与喷射器内腔通过切向喷口相连通，且切向喷口沿喷射器内腔的切向延伸分布；所述喷射器内腔呈锥形，喷射器内腔的内径自上而下逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，还包括洗涤管道，洗涤管道的一端与喷射器内腔连通。
3.根据权利要求1所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，还包括气体吹扫隔离装置，气体吹扫隔离装置包括设置在进气头上的吹气孔，吹气孔与柱状内腔的第一端连通，吹气孔向柱状内腔内的刮尘件吹气。
4.根据权利要求3所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，气体吹扫隔离装置还包括储气装置及储存在储气装置内的吹扫气体，吹扫气体为不与半导体尾气产生化学反应的气体，气体吹扫隔离装置通过吹气孔将吹扫气体朝柱状内腔内的刮尘件吹。
5.根据权利要求4所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，气体吹扫隔离装置还包括三通接头，三通接头的一端与吹气孔的外端连接，三通接头的第二端通过连接管与储气装置连接，三通接头的第三端设有气压检测传感器。
6.根据权利要求1所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，所述刮尘件上设有若干透气过孔。
7.根据权利要求6所述的具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备，其特征是，所述刮尘件为空心结构，刮尘件的内腔往下延伸并与刮尘件的下端连通，透气过孔连通刮尘件的外壁与内壁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111563630.6A CN115193187B (zh) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111563630.6A CN115193187B (zh) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115193187A CN115193187A (zh) | 2022-10-18 |
| CN115193187B true CN115193187B (zh) | 2024-02-02 |
Family
ID=83573991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111563630.6A Active CN115193187B (zh) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115193187B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116159817A (zh) * | 2023-01-05 | 2023-05-26 | 杭州慧翔电液技术开发有限公司 | 除尘装置和尾气处理设备 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1882398A (zh) * | 2003-11-17 | 2006-12-20 | 英国氧气集团有限公司 | 排气处理 |
| CN211051163U (zh) * | 2019-09-20 | 2020-07-21 | 瓮福达州化工有限责任公司 | 一种磷酸尾气处理系统 |
| CN214348396U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-10-08 | 湖南省锐驰环保科技有限公司 | 烟气管道清理装置以及烟气管道 |
| CN215138177U (zh) * | 2021-04-14 | 2021-12-14 | 成都益志科技有限责任公司 | 一种酸再生预浓缩器分离器 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2859077C (en) * | 2011-12-15 | 2015-08-25 | Hatch Ltd. | Dust wash system with purge gas |
-
2021
- 2021-12-20 CN CN202111563630.6A patent/CN115193187B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1882398A (zh) * | 2003-11-17 | 2006-12-20 | 英国氧气集团有限公司 | 排气处理 |
| CN211051163U (zh) * | 2019-09-20 | 2020-07-21 | 瓮福达州化工有限责任公司 | 一种磷酸尾气处理系统 |
| CN214348396U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-10-08 | 湖南省锐驰环保科技有限公司 | 烟气管道清理装置以及烟气管道 |
| CN215138177U (zh) * | 2021-04-14 | 2021-12-14 | 成都益志科技有限责任公司 | 一种酸再生预浓缩器分离器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN115193187A (zh) | 2022-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN115193187B (zh) | 具有自清理功能的半导体尾气喷淋洗涤设备 | |
| US5900217A (en) | Apparatus for purifying waste gases | |
| EP1240937B1 (en) | Method and apparatus for treating perfluorocompounds | |
| KR20020019018A (ko) | 반도체 제조 배출 가스의 산화 처리용 배기 가스 스트림처리 시스템 | |
| KR100750406B1 (ko) | 반도체 폐가스 처리용 스크러버의 파우더 제거 장치 | |
| EP3261775B1 (en) | Apparatus for treating gas | |
| JP6718566B1 (ja) | 排ガス除害ユニット | |
| CN104964290B (zh) | 一种废气处理装置 | |
| KR20030074638A (ko) | 연소 배기 가스의 처리 장치 | |
| EP3636335B1 (en) | Detoxifying device, method of replacing piping section of detoxifying device, and method of cleaning piping of detoxifying device | |
| KR0164529B1 (ko) | 배출가스 처리장치 및 방법 | |
| WO2010050716A2 (ko) | 가스 스크러빙 장치 및 가스 스크러빙 방법 | |
| CA1066611A (en) | Device for separating impurities from gases by means of a washing liquid | |
| CN207121620U (zh) | 转炉煤气超净排放冷却器 | |
| KR100501525B1 (ko) | 반도체 공정용 가스세정장치 | |
| KR200335431Y1 (ko) | 고로 장입가스의 세정장치 | |
| US4302226A (en) | Apparatus for neutralizing odors | |
| KR20000062400A (ko) | 입상 고체 함유 및/또는 고체 형성 기류를 기체 처리 시스템에주입하기 위한 입구 구조체 | |
| CN113015573A (zh) | 废气导入喷嘴、水处理装置以及废气处理装置 | |
| CN210367556U (zh) | 一种氯化石蜡反应装置 | |
| CN111298595B (zh) | 一种有机臭气处理设备 | |
| CN213668709U (zh) | 一种电缆黑烟voc废气处理装置 | |
| CN210197393U (zh) | 一种自动清洗的油烟净化设备 | |
| CN212468096U (zh) | 用于生产c.i.颜料红177的反应釜 | |
| CN204337939U (zh) | 锅炉除尘器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |