CN114786954A - 处理片材的装置和方法、数字打印片材的设备和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种片材(T)的处理装置(70)，该处理装置包括：输送器(2)，其构造成使片材(T)根据前进方向(A)沿着操作部段(3)移动；施加器(12)，其构造成分配用于对片材(T)的至少一个侧面进行处理的处理组合物(C)；约束装置(71)，该约束装置(71)包括屏障件(72)，该屏障件构造成将处理组合物(C)限制在沉积区域内，从而防止所述组合物根据横向于前进方向(A)的方向穿过屏障件(72)。本发明还涉及一种处理方法、一种打印设备和一种相关的打印方法。
Description
技术领域
本发明涉及对片材、例如织物和/或非织造织物进行处理的装置和相关方法。此外，本发明涉及对片材、例如织物和/或非织造织物进行打印的设备和相关方法；本发明的打印设备和方法对象可以应用于片材的喷墨数字打印，这能够通过能够沿着片材的宽度移动的头部获得。
背景技术
用于将油墨或涂料施加在不同类型的片材例如织物、非织造织物和其他片材上的不同的打印技术是已知的；这些材料通常在打印步骤之前经过一系列准备步骤，并且/或者在打印步骤之后经过一个或更多个织物处理步骤。对纤维材料的适当预处理使得墨滴能够固定至材料的纤维，而不会形成痕迹或不受控制的污迹，因此从而确保良好的给色量和适当的清晰度；打印步骤之后的处理可以使油墨适当地固定至纤维材料自身。
在美国专利申请N.US 2002/005870 A1中描述的第一示例涉及一种包括输送器的扫描型打印设备，该输送器构造成使片材沿着前进方向移动通过打印站。在打印站的下游，该设备具有UV处理站、干燥站和浸轧站。
在国际专利申请No.WO 2018/0202420 A1中描述的第二示例涉及一种设置有输送器带的打印设备，该输送器带能够沿着闭合回路移动，用于限定操作部段的部分闭合回路的片材在该闭合回路上受到限制。该打印设备具有处理物质的施加器和在操作部段处起作用的打印装置。处理物质施加器可以相对于打印站固定，或者能够沿着垂直于接合在输送器带上的片材的前进方向的方向移动；施加器构造成将处理物质直接供应到输送器带上：织物处理在织物与输送器带之间接触之后进行，这种情况使得沉积在输送器带上的物质能够渗透织物。
在欧洲专利申请No.EP 2 826 631 A1中描述的第三示例涉及一种处理系统，其构造成将漆或其他处理流体在打印步骤之前施加至平坦或柔韧的衬底。该处理系统包括用于将漆施加至衬底的两个不同的模块。第一模块包括沿着垂直于衬底的前进方向的方向对准的多个固定施加器；第二模块包括至少一个施加器，所述至少一个施加器包括例如能够沿着垂直于衬底的前进方向的方向移动的喷嘴。由于使用了第一模块的部分固定施加器，并且由于第二模块的可移动施加器，处理系统使得能够将处理流体施加至衬底部分，以便对用以施加流体的期望的路径或图案进行限定。
虽然上面给出的示例的所描述的解决方案能够处理织物(或衬底)，但是申请人已经观察到这种解决方案并非没有不便之处，并且因此在某些方面是可以改进的。特别地，上述设备不能将处理溶液精确地施加至感兴趣的预定区域内的片材。
此外，已知打印设备仅提供将待打印的材料约束/抵接在输送器带上，并且在打印步骤之后，没有对材料进行任何类型的预处理或后处理；例如，在专利申请No.EP 2 689934 A1和No.EP 3 308 969 A1中描述了这样的解决方案。
发明目的
因此，本发明的目的是解决前述解决方案的不便和/或限制中的至少一者。
本发明的第一目的包括提供一种使得能够有效地处理片材的装置和相关的处理方法；特别地，本发明的目的是提供一种能够精确地处理片材的期望区域的装置和相关的方法。此外，本发明的目的是提供一种能够确保适当地处理片材从而使所使用的处理物质的量最小化的装置和相关的处理方法。
本发明的另一目的包括提供一种能够对材料进行快速处理的装置和高生产率的处理方法；特别地，本发明的目的是提供一种使得能够将用于处理片材的时间最小化、从而最大限度地减少处理时间和成本的处理装置。本发明的另一目的是提供一种具有简单且紧凑结构的处理装置和打印设备，其能够简化改造和维护操作，因此能够最大限度地减少机器停机时间。
从以下描述中将变得明显的这些目的和其他目的通过根据所附权利要求中的一个或更多个权利要求和/或以下方面的处理装置、处理方法、打印设备和方法来实现。
发明内容
一方面，提供了一种片材(T)的处理装置(70)，所述处理装置包括：
-至少一个输送器(2)，所述至少一个输送器(2)构造成使片材(T)根据前进方向(A)至少沿着操作部段(3)移动，
-至少一个施加器(12)，所述至少一个施加器(12)构造成分配用于对片材(T)的至少一个侧面进行处理的处理组合物(C)。
在根据前述方面的方面中，处理装置(70)包括至少一个约束装置(71)，所述至少一个约束装置(71)在处理装置(70)的使用状态下设置在输送器(2)上方。在根据前述方面中的任一方面的方面中，约束装置在处理装置(70)的使用状态下设置在施加器(12)处。在根据前述方面中的任一方面的方面中，约束装置(71)包括至少一个屏障件(72)，所述至少一个屏障件(72)构造成将处理组合物(C)限制在沉积区域内。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件构造成防止所述处理组合物(C)根据横向于前进方向(A)的方向穿过所述至少一个屏障件(72)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)包括暴露表面(E)，暴露表面构造成接纳片材(T)并且使该片材(T)沿着操作部段(3)沿着前进方向(A)移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)在处理装置(70)的使用状态下设置在所述暴露表面(E)的沉积部段上。在根据前述方面中的任一方面的方面中，沉积表面是平坦的。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)构造成相对于输送器(2)定位成防止由施加器(12)设置的处理组合物(C)沿着横向于前进方向(A)且平行于沉积部段的方向穿过屏障件自身。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，操作部段(3)被限定为：
-至少部分地位于沉积部段处，或者
-相对于前进方向(A)位于沉积部段的下游。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)包括彼此面对且远离的第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，第一屏障件和第二屏障件彼此协作地界定沉积区域。在根据前述方面中的任一方面的方面中，沉积区域被限定在第一屏障件(72a)与第二屏障件(72b)之间。在根据前述方面中的任一方面的方面中，第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)构造成且能够相对于输送器安置成用于将处理组合物(C)限制在所述沉积区域内。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)在处理装置(70)的使用状态下安置在所述至少一个屏障件(72)上、可选地安置在所述第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)上。在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)构造成将处理组合物(C)分配在沉积区域内。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，约束装置(71)包括至少一个定位装置(73)，所述至少一个定位装置构造成使屏障件(72)至少沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)并且平行于沉积部段的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，定位装置(73)对所述第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)中的至少一者进行作用，并且构造成使所述第一屏障件和第二屏障件中的至少一者沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)并且平行于沉积部段的方向移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，定位装置(73)包括：
-支撑框架(74)，
-至少一个横向导引件(75)，所述至少一个横向导引件(75)由支撑框架(74)承载并且横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)且平行于沉积部段延伸，所述横向导引件(75)在处理装置(70)的使用状态下设置在输送器(2)上并且沿着输送器的垂直于前进方向(A)测量的整个宽度延伸，
-至少一个移位构件(76)，所述至少一个移位构件(76)能够沿着横向导引件(75)滑动地移动，所述移位构件(76)构造成使所述至少一个屏障件(72)沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)且平行于沉积部段的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个移位构件(76)构造成使第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)中的至少一者沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)且平行于沉积部段的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个移位构件(76)包括：
-第一移位构件(76a)，其构造成拦截并移动第一屏障件(72a)，
-第二移位构件(76b)，其构造成拦截并移动第二屏障件(72b)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，定位装置(73)包括至少一个致动器(73a)、可选地电动马达，所述至少一个致动器构造成使移位构件(76)沿着所述横向导引件(75)移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)包括：
-内部约束表面(77)，其构造成直接接触并限制处理组合物(C)，
-外部联接部分(78)，其至少部分地与内部约束表面(77)相反，
其中，移位构件(76)构造成接合所述至少一个屏障件(72)的外部联接部分(78)，以用于使所述至少一个屏障件(72)沿着横向导引件(75)移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，外部联接部分(78)包括铁磁或可磁化材料，其中，移位构件(76)包括磁体、电磁体中的至少一者。在根据前述方面中的任一方面的方面中，移位构件(76)构造成将至少一个屏障件(72)磁性地吸引至其自身，以使屏障件能够沿着横向导引件(75)移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)包括可选地由金属材料制成、再更可选地由铁磁材料制成的板。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)包括：
-板，其限定内部约束表面(77)，
-支撑块，其在与内部约束表面(77)相反的位置与板接合并且至少部分地限定所述联接部分。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)的板沿着平行于前进方向(A)的方向纵向延伸。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件的板沿着垂直于沉积部段的方向远离输送器(2)竖向延伸。在根据前述方面中的任一方面的方面中，第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)包括彼此面对并且纵向地且彼此平行地延伸的相应的板。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)的内部约束表面(77)是平坦的，并且平行于前进方向(A)且垂直于沉积部段延伸。在根据前述方面中的任一方面的方面中，第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)包括相应的内部限制表面，这些内部限制表面彼此面对并构造成根据垂直于前进方向且平行于沉积部段的方向横向地界定沉积区域。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置包括至少一个压力构件(5a)、可选地包括至少一个压力缸，至少一个压力构件(5a)在输送器(2)上操作、可选地在输送器(2)的暴露表面(E)上操作。在根据前述方面中的任一方面的方面中，约束装置(71)的至少一个屏障件(72)相对于前进方向(A)安置在压力构件(5a)的上游。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)邻近压力构件(5a)安置并且具有部分地定形状成与压力构件(5a)的外表面相对应的前轮廓。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，支撑块由铁磁材料制成并且构造成与移位构件(76)协作，从而用于使屏障件(72)沿着横向导引件(75)移动。
在根据前述方面中的任一方面的另一方面中，定位装置(73)包括发生器，该发生器构造成：
-限定激活状态，在激活状态下，发生器向移位构件(76)的电磁体供应电流，使得所述电磁体产生能够将屏障件(72)吸引至移位构件自身的磁场，
-限定非激活状态，在非激活状态下，发生器不向电磁体提供任何电流。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置包括控制单元(50)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元(50)在对定位装置(73)的命令中起作用，所述控制单元配置成命令定位装置(73)以使至少一个屏障件(72)沿着横向导引件(75)至少在拾取位置与操作位置之间移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)构造成在操作位置中将处理组合物(C)限制在沉积区域中。在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成使移位构件(76)至少在以下状态之间移动：
-第一操作状态，在第一操作状态中，移位构件(76)构造成接合处于拾取位置的接合屏障件(72)，
-第二操作状态，在第二操作状态中，屏障件处于操作位置。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元还在对与电磁体相关联的发生器的命令中起作用并且配置成：
-命令移位构件(76)移动至第一操作状态，
-命令电磁体处于激活状态，使得移位构件(76)能够接合屏障件(72)，
-命令移位构件移动至第二操作状态，使得所述移位构件能够将屏件移动至操作位置。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元还配置成在命令移位构件(76)移动至第二操作状态之后执行以下进一步的步骤：
-命令电磁体处于非活动状态，使得移位构件(76)与屏障件(72)断开接合，
-在屏障件(72)断开接合之后，使移位构件从第二操作状态移动至远离静止状态，在远离静止状态中，移位构件(76)远离置于操作位置中的屏障件。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置包括：
-单个固定型施加器，单个固定型施加器相对于前进方向(A)横向地、可选地垂直地、可选地沿着所述输送器的整个宽度延伸；或者
-多个分立式施加器，所述施加器沿着横向于、可选地垂直于前进方向(A)的方向相互并置，所述施加器覆盖输送器(2)的至少部分宽度、可选地覆盖输送器(2)的整个宽度；或者
-至少一个施加器，所述至少一个施加器能够相对于前进方向(A)横向地、可选地垂直地来回移动，并且所述至少一个施加器构造成覆盖输送器(2)的至少部分宽度、可选地覆盖输送器(2)的整个宽度。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)包括以下各者中的至少一者：
-至少一个喷洒式分配器(18)，
-至少一个滚筒，所述至少一个滚筒安置成其旋转轴线横向于前进方向并且其侧向表面能够远离输送器带，滚筒具有用于容纳预定量的处理组合物、特别是处理泡沫的中空内部，并且滚筒设置有用于供应组合物、特别是泡沫的预定数目的喷嘴或槽，
-至少一个分配器(90)，所述至少一个分配器(90)包括：
о至少一个贮存器(91)，所述贮存器(91)在其内部限定了构造成接纳处理组合物(C)的隔室(92)，所述贮存器(91)包括至少一个入口(93)和至少一个出口(94)，至少一个入口(93)构造成使得能够将预定量的处理组合物(C)引入贮存器自身的隔室(92)中，至少一个出口(94)构造成使得能够将处理组合物(C)从贮存器自身排出，
о至少一个推动器(95)，所述至少一个推动器至少部分地接合在贮存器(91)中并且构造成使得能够从贮存器的至少一个出口(94)分配处理组合物(C)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器(90)的贮存器(91)沿着横向于、可选地垂直于前进方向(A)的延伸方向延伸。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器(90)包括与贮存器(91)的每个出口(94)接合的至少一个喷嘴。在根据前述方面中的任一方面的方面中，每个喷嘴从贮存器沿着输送器的方向延伸、可选地沿着沉积部段(3a)的方向延伸并且构造成对存在于贮存器(91)中的处理组合物(C)进行分配。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器(91)具有沿着贮存器自身的延伸方向分布的多个出口(94)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器(91)包括：
-多个第一出口(94)，所述多个第一出口沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)的第一方向彼此对准，
-多个第二出口(94)，所述多个第二出口沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)的第二方向彼此对准。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，多个第一出口的第一方向平行于多个第二出口的第二方向。在根据前述方面中的任一方面的方面中，多个第二出口相对于前进方向(A)与多个第一出口连续地安置。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器具有也沿着贮存器(91)自身的延伸方向分布的多个入口(93)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，每个入口(93)与每个出口(94)相对地安置。在根据前述方面中的任一方面的方面中，每个出口(94)被限定在直接面对输送器(2)的贮存器的底部部分上，而每个入口(93)被限定在贮存器的顶部部分(91b)上。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器(91)基本上沿着输送器的垂直于前进方向(A)测量的整个宽度延伸。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器(91)的横截面为由平坦基部和与基部接合的半圆形轮廓限定的半圆形形状。在根据前述方面中的任一方面的方面中，每个入口(93)限定在与基部相对的轮廓的顶部上，而每个出口(94)限定在基部壁上。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器包括连接至每个入口(93)并且构造成供应处理组合物(C)、特别地呈泡沫形式的处理组合物(C)的分配通道(93a)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器(90)包括设置在至少一个出口(94)附近的至少一个流体拦截元件(98)，所述拦截元件能够至少在关闭状态与打开状态之间移动，在关闭状态下，所述流体拦截元件防止处理组合物喷出贮存器外部，在打开状态下，所述流体拦截元件允许将处理组合物(C)从所述贮存器排出。在根据前述方面中的任一方面的方面中，所述流体拦截元件构造成在关闭状态下堵塞贮存器的至少一个出口(94)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，贮存器针对每个出口(94)具有流体拦截元件。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器(90)包括至少一个致动器(99)，所述至少一个致动器作用在至少一个流体拦截元件上，以用于将所述至少一个流体拦截元件从关闭状态移动至打开状态，以及从打开状态移动至关闭状态。在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器(90)包括多个致动器(99)，每个致动器作用在相应的流体拦截元件(98)上。在根据前述方面中的任一方面的方面中，所述致动器(99)包括液压活塞、气动活塞、电动马达中的至少一者。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，推动器(95)包括叶片(97)，叶片(97)能够在贮存器(91)的隔室(92)内在第一末端行程位置与第二末端行程位置之间旋转地移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，叶片(97)构造成在从第一末端行程位置旋转至第二末端行程位置期间和/或在从第二末端行程位置旋转至第一末端行程位置期间将处理组合物(C)、可选地泡沫推到一个或更多个所述出口(94)外部。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，叶片(97)构造成在第一操作位置与第二操作位置之间旋转期间旋转大于90°、可选地包括在90°与200°之间、再更可选地基本为180°的预定角度。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，叶片(97)构造成：
-从第一操作位置旋转至第二操作位置，以使得处理组合物(C)能够从多个第二出口流出、可选地作为泡沫流出，
-从第二操作位置旋转至第一操作位置，以使得处理组合物(C)能够从多个第一出口流出、可选地作为泡沫流出。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，旋转叶片(97)通过至少一个电动马达移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元连接至所述至少一个致动器(99)并在对所述至少一个致动器(99)的命令中起作用，从而用于控制至少一个拦截元件在关闭状态与打开状态之间以及在打开状态与关闭状态的移动。在根据前述方面中的任一方面的第二方面中，控制单元还在对旋转叶片的命令中起作用。在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成使连接至拦截元件的多个致动器(99)的致动与连接至叶片(97)的电动马达的致动同步，以便对通过每个出口、可选地通过多个出口的处理组合物(C)的供应进行控制。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配器的推动器可以包括一个或更多个齿轮，一个或更多个齿轮安置在贮存器(91)内部并且构造成将处理组合物(C)、特别地泡沫导引至每个出口(94)的外部。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)在设备的使用状态下设置在输送器(2)上方。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)设置在沉积部段(3a)上方、可选地直接面对所述沉积部段(3a)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)包括至少一个喷洒式分配器(18)，所述至少一个喷洒式分配器远离输送器(2)并且能够沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)的分配方向(B)往复移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，喷洒式分配器(18)构造成沿着片材(T)的垂直于前进方向(A)测量的整个横向宽度移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置包括垂直于前进方向(A)延伸的至少一个横向导引件(43)，并且喷洒式分配器(18)能够沿着所述横向导引件来回移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，所述横向导引件(43)基本上沿着输送器(2)的垂直于前进方向(A)测量的整个宽度延伸。在根据前述方面中的任一方面的方面中，喷洒式分配器(18)在处理装置(70)的使用状态下并且至少在处理组合物的分配状态期间能够在输送器(2)上方、在沉积区域的竖向体积内移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，喷洒式分配器(18)能够在由第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)界定的横向竖向体积内移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)包括至少一个输送器带。在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器带具有由水不溶性粘合剂材料处理的所述暴露表面(E)，可选地，暴露表面由包括对压力和温度中的至少一者敏感的聚合胶的粘合剂材料处理。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理组合物包括至少一种处理泡沫，所述处理泡沫包括以下各者中的至少一者：
-抗迁移剂，
-pH控制剂，
-水溶助剂。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理泡沫包括至少一种处理液，所述处理液相对于泡沫的总重量的量包括在以重量计的5％与75％之间。在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理液包括：
-至少一种抗迁移剂，所述抗迁移剂优选地选自藻酸盐、纤维素衍生物、特别是羧甲基纤维素、羟乙基纤维素、丙烯酸(共)聚合物、黄原胶、阿拉伯胶和瓜尔胶，和/或
-固色剂，特别地所述固色剂包括以下各者中的至少一者：
о至少一种pH控制剂和至少一种水溶助剂，所述pH控制剂优选地选自碳酸氢钠、碳酸钠、硫酸铵、酒石酸铵和柠檬酸，所述水溶助剂优选地选自尿素和硫脲，
о至少一种发泡剂，所述发泡剂相对于泡沫的总重量以重量百分比计包括在0.2％与5％之间、优选地包括在0.4％与2％之间，
о水，水的量需要达到100％。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置包括至少一个运动装置(40)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)承载约束装置(71)并且构造成使所述约束装置(71)沿着平行于前进方向(A)的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，压力构件(5a)由运动装置(40)承载，其中，所述运动装置(40)构造成使至少一个屏障件(72)和压力构件(5a)沿着平行于前进方向(A)的方向一体地移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)承载至少一个施加器，运动装置构造成使所述至少一个施加器(12)沿着平行于前进方向(A)的方向移动、可选地至少在片材(T)沿着操作部段(3)移动期间沿着平行于前进方向(A)的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)稳定地承载施加器(12)和至少一个屏障件(72)、可选地承载所述第一屏障件(72a)和第二屏障屏障件(72b)，运动装置(40)构造成使施加器(12)和至少一个屏障件(72)沿着平行于前进方向(A)的方向一体地移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)、可选地暴露表面(E)恒定地包括相对于前进方向(A)在操作部段(3)上游延伸的沉积部段(3a)，施加器(12)定位且构造成将处理组合物(C)设置在输送器(2)的沉积部段(3a)上。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)构造成将施加至沉积部段(3a)的处理组合物(C)输送至初始接触区，在初始接触区中，输送器设置成与片材(T)接触，片材(T)可选地沿着前进方向(A)并且可选地沿着所述操作部段(T)供应。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，可选地包括至少一个压力缸的压力构件(5a)在所述初始接触区在输送器(2)的暴露表面(E)上方操作，压力构件(5a)构造成通过片材上的压力操作并且构造成将片材推靠在输送器的暴露表面(E)上。在根据前述方面中的任一方面的方面中，压力构件(5a)由运动装置(40)承载，并且压力构件(5a)在沿着平行于前进方向(A)的方向平移时与施加器(12)成一体。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)包括：
-至少一个导引件(41)，所述导引件安置在输送器(2)的旁边并且平行于前进方向(A)延伸，
-至少一个支撑结构(42)，所述支撑结构能够沿着所述导引件(41)滑动地移动，所述支撑结构(42)稳定地承载施加器(12)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，支撑结构(42)稳定地承载压力构件(5a)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个导引件(41)包括相对于所述输送器(2)彼此相对地安置在输送器(2)旁边的第一导引件和第二导引件。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，喷洒式分配器(18)在处理装置的使用状态下设置在输送器(2)上方、可选地设置在沉积部段(3a)上方。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，运动装置(40)的支撑结构(42)包括垂直于前进方向(A)延伸的所述至少一个横向导引件(43)，其中，喷洒式分配器(18)能够沿着所述横向导引件(43)来回移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，横向导引件(43)——所述喷洒式分配器能够沿着该横向导引件(43)移动——基本上沿着输送器(2)的垂直于前进方向(A)测量的整个宽度延伸。在根据前述方面中的任一方面的方面中，喷洒式分配器(18)能够沿着横向导引件(43)移动输送器(2)的至少部分宽度。
在一方面，提供了一种使用根据前述方面中的任一方面所述的处理装置进行的处理方法。在根据前一方面的一个方面中，该方法包括以下步骤：
-使片材(T)沿着前进方向(A)移动，
-通过施加器供应处理组合物(C)，该处理组合物用于通过施加器(12)对片材(T)的至少一个侧面进行处理。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，该方法包括将处理组合物(C)通过约束装置(71)的至少一个屏障件(72)限制在沉积区域内的步骤，从而可选地防止所述处理组合物(C)沿着横向于前进方向(A)的方向穿过屏障件(72)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)包括彼此面对并且彼此协作地界定所述沉积区域的第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，沉积区域置于所述第一屏障件(72a)与所述第二屏障(772b)之间。在根据前述方面中的任一方面的方面中，第一屏障件(72a)和第二屏障(72b)将处理组合物(C)限制在所述沉积区域内。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，通过施加器分配处理组合物(C)发生在由至少一个屏障件、可选地由第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)界定的沉积区域内。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，在分配处理组合物(C)的步骤之前，该方法提供以下步骤：
-通过定位装置(73)的移位构件(76)拦截安置在拾取位置的至少一个屏障件(72)，
-通过移位构件(76)使所述屏障件(72)沿着横向于前进方向(A)、可选地垂直于前进方向(A)的方向从拾取位置移动至限制操作位置，屏障件(72)构造成在操作位置中将处理组合物(C)限制在沉积区域中。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，使片材(T)移动通过具有暴露表面(E)的输送器(2)发生，暴露表面(E)构造成接纳片材(T)，暴露表面(E)恒定地具有操作部段(3)，操作部段构造成暂时地以接触的方式接纳片材(T)的第一侧面(T1)并且将该片材(T)沿着前进方向(A)导引。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)的暴露表面(E)恒定地包括相对于前进方向(A)在输送器(2)自身的操作部段(3)上游延伸的沉积部段(3a)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加处理组合物的步骤包括至少将预定量的处理组合物沉积在输送器(2)的沉积部段(3a)上的步骤。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，至少一个屏障件(72)设置在输送器(2)的沉积部段(3a)上方，并且构造成将处理组合物(C)限制在沉积区域内，沉积区域限定在所述沉积部段(3a)内。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，分配处理组合物的步骤通过以下子步骤中的一者或更多者来执行：
-通过喷洒式分配器进行分配，
-通过滚筒进行分配，滚筒安置成其旋转轴线横向于前进方向(A)并且其侧向表面远离输送器，滚筒具有用于容纳预定量的处理组合物的中空内部并且设置有用于分配组合物的预定数目的喷嘴或槽，
-通过分配器(90)进行分配。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，在将处理组合物分配到沉积部段上的步骤之后，该方法包括以下步骤：
-通过输送器(2)将处理组合物移动至初始接触区，在初始接触区中，输送器(2)设置成开始与片材(T)接触，
-将片材(T)的第一侧面(T1)安置成与输送器(2)的暴露表面(E)接触，使得该暴露表面可以限定操作部段(3)，在操作部段中，输送器(2)支撑片材。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理组合物(C)包括处理泡沫，该处理泡沫包括抗迁移剂、pH控制剂、水溶助剂中的至少一者。在根据该方法的前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)呈连续片材的形状。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材包括以下材料中的至少一者：织物、非织造织物。
在另一方面中，提供了一种用于打印片材(T)的设备，该设备包括根据处理装置的前述方面中的任一方面的处理装置。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印设备包括至少一个打印站(6)，该打印站构造成对放置在操作部段(3)上的片材(T)进行油墨打印。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印站(6)包括能够相对于前进方向(A)横向移动的至少一个头部(8)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印站是数字型的。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印站(6)相对于输送器(2)上的片材(T)的前进方向(A)安置在处理装置(70)的下游。
在根据前述方面的任一方面的方面中，运动装置(40)构造成使施加器(12)沿着平行于前进方向(A)的方向至少在第一操作位置与第二操作位置之间移动，其中，施加器(12)在第一操作位置中与打印站(6)相距的沿着前进方向测量的距离大于打印站与安置在第二操作位置的施加器(12)之间的距离。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，设备包括控制单元(50)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，设备的控制单元(50)可以与处理装置的控制单元相同，或者可以由不同的单元限定，该不同的单元可选地配置成与处理装置的控制单元通信。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，(设备和/或处理装置的)控制单元在对输送器(2)和运动装置(40)的命令中起作用，所述控制单元配置成命令输送器(2)以将片材(T)根据间歇前进沿着操作部段(3)移动，从而用于交替地限定：
-前进状态，在前进状态期间，输送器将片材(T)以大于0的前进速度移动；前进状态与下述状态交替：
-停止状态，在停止状态期间，片材(T)保持其位置不变。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，两个连续的前进状态与一个停止状态交替。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)构造成使施加器(12)至少在输送器(2)的前进状态期间沿着平行于前进方向(A)的方向移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元构造成命令运动装置(40)以将施加器(12)：
-至少在输送器(2)的前进状态期间沿着前进行程朝向打印站至少在第一操作位置与第二操作位置之间移动，
-至少在输送器(2)的停止状态期间沿着返回行程远离打印站至少在第二操作位置与第一操作位置之间移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，在前进状态期间由输送器(2)给出的片材(T)的前进速度大于施加器(12)沿着平行于前进方向(A)的方向移动的速度。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，运动装置构造成使施加器(12)以预定的运动速度平行于前进方向(A)移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成命令运动装置(40)以使施加器(12)以第一运动速度沿着向前行程移动，该第一运动速度基本上等于相同施加器(12)沿着返回行程移动的第二运动速度。在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成：
-命令输送器(2)在每个前进状态期间将片材(T)沿着操作部段(3)移动预定位移，
-命令运动装置(40)将施加器(12)平行于前进方向(A)移动预定行程，该行程小于片材(T)的预定位移。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成命令输送器(2)使得片材(T)在每个前进状态期间沿着操作部段(3)移动预定位移。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)沿着操作部段(3)的所述预定位移与施加器(12)的向前行程的比率在1.5与2.5之间、可选地基本上为2。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)沿着操作部段(3)的所述预定位移与施加器(12)的返回行程的比率包括在1.5与2.5之间、可选地基本上为2。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，向前行程和返回行程限定了施加器(12)沿着平行于前进方向(A)的方向的、但是方向不同的相等平移。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元构造成命令运动装置(40)以：
-使施加器(12)在由输送器(2)赋予的片材(T)的前进状态期间沿着向前行程移动，
-使施加器(12)在由输送器(2)赋予的片材(T)的停止状态期间沿着返回行程移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置(70)相对于片材(T)沿着操作部段(3)的前进方向安置在打印站(6)的上游。在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理装置(70)构造成通过将处理组合物施加至片材(T)的第一侧面(T1)上来处理片材(T)。在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印站(6)构造成对片材(T)的与第一侧面(T1)相反的第二侧面(T2)进行油墨打印。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)的暴露表面(E)的操作部段构造成以接触的方式暂时地接纳片材(T)的第一侧面(T1)并且使该片材(T)沿着前进方向(A)移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成使施加器的向前行程和返回行程分别与输送器的前进状态和停止状态同步。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元还在对施加器(12)和打印头(8)的命令中起作用，并且其中，控制单元配置成：
-命令输送器(2)通过交替前进状态和停止状态来移动，以便使片材根据间歇前进移动，
-命令打印头(8)移动并供应油墨，
-使打印头(8)的移动和打印头自身的油墨供应与输送器(2)的停止状态同步，
-命令施加器(12)在输送器(2)的前进状态期间沿着向前行程移动，
-命令施加器(12)在输送器(2)的停止状态期间沿着返回行程移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元对输送器和施加器(12)起作用，所述控制单元(50)配置成：
-接收代表施加至片材的处理组合物的量的至少一个操作参数的期望值，所述至少一个操作参数包括以下参数中的至少一个参数：
о片材在紧邻处理装置(70)上游的其中片材还没有接纳处理组合物的部段与紧邻处理装置(70)下游的其中片材已经接纳处理组合物的部段之间的每平方米的重量百分比变化，
о片材在紧邻处理装置(70)上游的所述部段与紧邻打印站(6)上游的部段之间的每平方米的重量百分比变化，
о处理组合物离开处理装置的体积流量，
о处理组合物离开处理装置的质量流量，
о组合物在沉积部段(3a)处的厚度，
-命令处理装置(70)根据操作参数的期望值和赋予所述输送器的运动来管理处理组合物在片材(T)上的施加。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)构造成使至少一个屏障件(72)沿着平行于前进方向(A)的方向至少在第一操作位置与第二操作位置之间移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，至少一个屏障件(72)在第一操作位置距打印站(6)的沿着前进方向测量的距离大于至少一个屏障件(72)在第二操作位置距打印站(6)的沿着前进方向测量的距离。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元在对输送器(2)和运动装置(40)的命令中起作用，所述控制单元配置成命令输送器(2)以使片材(T)根据间歇前进沿着操作部段(3)移动，以用于交替地限定下述状态：
-前进状态，在前进状态中，输送器使片材(T)以大于0的前进速度移动；前进状态与下述状态交替：
-停止状态，在停止状态期间，片材(T)保持其位置不变。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)构造成使至少一个屏障件(72)至少在输送器(2)的前进状态期间沿着平行于前进方向(A)的方向移动。在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成命令运动装置(40)以使至少一个屏障件(72)：至少在以下位置之间移动：
-至少在输送器(2)的前进状态期间沿着前进行程朝向打印站至少在第一操作位置与第二操作位置之间移动，
-至少在输送器(2)的停止状态期间沿着返回行程远离打印站至少在第二操作位置与第一操作位置之间移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成命令运动装置(40)以：
-使至少一个屏障件(72)在由输送器(2)赋予的片材(T)的前进状态期间沿着向前行程移动，
-使至少一个屏障件(72)在由输送器(2)赋予的片材(T)的停止状态期间沿着返回行程移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成使至少一个屏障件(72)的向前行程和返回行程分别与输送器的前进状态和停止状态同步。在根据前述方面中的任一方面的方面中，运动装置(40)承载至少一个屏障件(72)、可选地承载所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(72b)、以及所述施加器(12)，运动装置(40)构造成使施加器(12)和至少一个屏障件(72)沿着平行于前进方向(A)的方向一体地移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元在对施加器(12)的命令中起作用，并且配置成命令施加器(12)沿着辅助导引件(43)移动，其中，控制单元配置成使施加器(12)沿着所述辅助导引件(43)的运动与输送器(2)的运动同步。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元在对施加器(12)、输送器(2)和运动装置(40)的命令中起作用，所述控制单元配置成确定以下操作参数中的至少一个操作参数：
-由分配器分配的处理组合物、可选地处理泡沫的量，
-片材(T)沿着前进方向朝向打印站的运动速度，
-片材(T)的连续地或间歇地沿着前进方向(A)的前进模式。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，控制单元配置成通过命令施加器(12)、输送器(2)和运动装置(40)中的至少一者来控制所述操作参数中的至少一个操作参数，以便能够管理在所述片材(T)到达打印站之前处理组合物在片材(T)上的持续时间。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，在片材到达打印站(6)之前，处理组合物在片材上的持续时间等于或大于1秒、可选地包括在1秒与20秒之间。
在另一方面中，提供了一种使用根据前述方面中的任一方面的打印设备(1)进行的数字打印方法。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，打印方法包括通过数字打印站对片材(T)进行油墨打印的步骤。在根据前述方面中的任一方面的方面中，在放置在操作部段(3)上的片材上执行打印。在根据前述方面中的任一方面的方面中，所述打印方法包括以下步骤：
-使片材(T)沿着前进方向(A)移动，
-通过施加器(12)分配用于对片材(T)的至少一个侧面进行处理的处理组合物(C)。
在根据前述方面中的任一方面的另一方面中，该方法包括使施加器(12)至少在片材(T)的运动期间沿着平行于前进方向(A)的方向移动的步骤。
在根据前述方面中的任一方面的另一方面中，片材的运动根据间歇前进而发生，在间歇前进中，片材(T)的前进状态与停止状态交替。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，在前进状态期间，片材(T)以大于0的前进速度沿着操作部段朝向打印站(6)移动，其中，在停止状态期间，片材(T)保持其相对于打印站(6)的位置，其中，两个连续的前进状态与一个停止状态交替。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)的运动提供了下述各者：
-在片材(T)的前进状态期间沿着向前行程朝向打印站的运动，
-在片材(T)的停止状态期间沿着返回行程远离打印站的运动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材在前进状态期间以比施加器(12)沿着平行于前进方向(A)的方向移动的运动速度更大的前进速度移动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)在前进状态期间的前进速度与施加器(12)的移动速度的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加器(12)沿着向前行程运动的第一运动速度基本上等于施加器(12)沿着返回行程的运动速度。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，片材(T)在前进状态期间朝向打印站(6)前进预定纵向位移，其中，施加器(12)在片材(T)的停止状态期间或前进状态期间朝向打印站(6)或远离打印站(6)执行比片材(T)的预定纵向位移小的预定行程。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)的预定纵向位移(T)与施加器的预定行程的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)的预定位移与施加器(12)的返回行程的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)的预定位移与施加器(12)的返回行程的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理组合物(C)施加至片材(T)的第一侧面(T1)，同时打印步骤在片材的与第一侧面(T1)相反的第二侧面(T2)上进行。在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加处理组合物的步骤包括将处理组合物直接沉积在片材(T)的第一侧面(T1)上、可选地处理组合物没有直接沉积在所述第二侧面(T2)上。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)的运动通过具有暴露表面(E)的输送器(2)发生，该暴露表面(E)构造成接纳片材(T)，该暴露表面(E)始终具有操作部段(3)，该操作部段构造成以接触的方式暂时接纳片材(T)的第一侧面(T1)并将该片材沿着前进方向(A)导引。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，输送器(2)的暴露表面(E)始终包括相对于前进方向(A)在输送器(2)自身的操作部段(3)上游延伸的沉积部段(3a)，其中，施加处理组合物的步骤包括至少将预定量的处理组合物沉积在输送器的沉积部段上。在根据前述方面中的任一方面的方面中，施加处理组合物的步骤通过下述子步骤中的一者或更多者进行：
-通过喷洒式分配器施加，
-通过安置成其旋转轴线横向于前进方向(A)并且其侧向表面远离输送器的滚筒来施加，滚筒具有用于容纳预定量的处理组合物的中空内部，并且滚筒设置有用于分配组合物的预定数目的喷嘴或槽，
-通过分配器(90)施加，分配器(90)包括：
о至少一个贮存器(91)，所述贮存器(91)在其内部限定了构造成接纳处理组合物(C)的隔室(92)，所述贮存器(91)包括至少一个入口(93)和至少一个出口(94)，至少一个入口(93)构造成使得能够将预定量的处理组合物(C)引入贮存器自身的隔室(92)中，至少一个出口(94)构造成使得能够将处理组合物(C)从贮存器自身排出，
о至少一个推动器(95)，所述至少一个推动器至少部分地接合在贮存器(91)中并且构造成使得能够从贮存器的至少一个出口(94)分配处理组合物(C)。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，在将处理组合物施加到沉积部段上的步骤之后，输送器(2)将处理组合物移动至初始接触区，在该初始接触区中，输送器(2)被设置成开始与片材(T)接触。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，该方法包括至少以下子步骤：
-使片材(T)的第一侧面(T1)与输送器(2)的暴露表面(E)接触，使得该暴露表面能够限定操作部段(3)，在操作部段中，输送器(2)支撑片材，
-可选地通过数字打印对与输送器(2)接触的片材(T)的与第一侧面(T1)相反的第二侧面(T2)进行油墨打印。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，处理组合物包括处理泡沫，该处理泡沫包括抗迁移剂、pH控制剂、水溶助剂中的至少一者。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)呈连续片材的形状。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材包括以下材料中的至少一种材料：织物、非织造织物。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，该方法包括使至少一个屏障件(72)至少在片材(T)的运动期间沿着平行于前进方向(A)的方向移动的步骤。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，屏障件(72)的运动提供以下各者：
-在片材(T)的前进状态期间沿着向前行程朝向打印站(6)的运动，
-在片材(T)的停止状态期间沿着返回行程远离打印站(6)的运动。
在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，片材(T)在前进状态期间朝向每个打印站(6)前进预定纵向位移，其中，屏障件(72)在片材(T)的停止状态期间或前进状态期间朝向打印站(6)或远离打印站(6)执行比片材(T)的预定纵向位移小的预定行程。在根据前述方面中的任一方面的方面中，片材(T)的预定纵向位移与屏障件(72)的预定行程的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。在根据前述方面中的任一方面的方面中，其中，片材(T)是织物或非织造织物，片材从用于供应待打印的片材的站、通过处理装置(70)、无缝地延伸至打印站(6)、然后延伸至用于收集经处理的片材的站。
附图说明
在本文中将参照附图对本发明的一些实施方式和一些方面进行描述，所述附图仅以指示性的方式并且因此非限制性的方式提供，在附图中：
-图1和图2是根据本发明的打印设备的立体图；
-图3是打印设备的处理装置的详细立体图；
-图4是处理装置的横截面图；
-图4A是图4的处理装置的详细视图；
-图5是处理装置的横截面的另一详细视图；
-图6是处理装置的另一立体图；
-图7和图8是示出了处于不同操作状态下的打印设备的俯视示意图；
-图9是处理装置的另一立体图；
-图10是打印设备的示意性侧视图；
-图10A是图10的打印设备的详细视图；
-图11和图12是处理装置的另一立体图；
-图13和14是处理装置的详细立体图；
-图15是根据本发明的处理装置的另一立体图；
-图16是沿着图15的装置的线XVI-XVI截取的横截面图。
定义、公约和测量参数
观察到的是，在本详细描述中，在各附图中图示出的相应的零件用相同的附图标记来表示。附图可以通过未按比例绘制的图示来说明本发明的目的；因此，与本发明的目的相关的在附图中图示出的零件和部件可以仅指示示意性图示。
术语“油墨”是指由颜料的分散体或者由染料在水性介质或有机介质中的溶液形成的混合物，该混合物旨在被转移到不同材料的表面上，以获得一个或更多个打印品；应当理解的是，透明油墨和油漆也包括在内。
术语“处理组合物C”是指呈液体或泡沫形式的组合物。处理组合物包括溶解或分散在适合液相中的一种或更多种液体化合物或者一种或更多种固体化合物，其具有制备和/或处理用于接纳一个或更多个打印品的片材的至少一个表面或多个表面的功能。化合物/sec可以从天然和/或合成(聚合物和/或共聚物)的源中获得，并且具有下述功能中的一者或更多者：抗迁移剂、增稠剂、表面张力改性剂、酸度改性剂、亲水性改性剂、疏水性改性剂、干燥促进剂、固着促进剂。液相可以是水、有机物、聚合物或其组合。
处理组合物可以是根据国际专利申请No.WO 2018/020420 A1从第36页第12行至第53页第22行中公开的组合物。
处理泡沫包括气体在液体介质中的分散体；泡沫还可以具有胶体分散体的特性。泡沫可以通过直接将高压气体吹送到液体介质中或通过使用发泡剂来获得。例如，处理泡沫可以包括如上文所述的处理液体并且可选地包括一种或更多种添加剂，比方说例如：发泡剂、润湿剂和粘度调节剂。特别地，处理泡沫可以是根据在国际专利申请No.WO 2018/020420 A1从第53页第23行至第57页第19行中公开的处理泡沫。
术语“片材T”是指由两个维度(长度和宽度)的尺寸相对于第三维度(厚度)基本上占主导地位的结构形成的材料。术语“片材”是指下述两者：由具有有限长度的离散片材(例如，规格A0、A1、A2、A3、A4等)构成的材料；以及具有显著长度的连续腹板，其可以通过供片材卷绕在其上的辊来提供或者可以通过在线(in-line)打印步骤来分配。本文中描述的片材具有两个侧面或两个主表面，在两个侧面或两个主表面中的至少一者上提供打印品。然而，不应当忘记的是，本发明还可以在与每次应当将片材移动到受控环境中时的油墨固定不同的处理中找到应用。
术语“纤维材料”是指由不同种类的纤维例如纸、织物、非织造织物、针织织物或上述支撑物中的一者或更多者的组合制成的材料。
术语“片材T的前进方向A”是指材料T的路径，该路径通过从片材供应站朝向适于通过处理组合物C处理所述材料的片材处理装置70前进而延伸。
术语“上游”和“下游”指的是片材T的前进方向A具有从处理装置70的供应站指向片材T的方向。
要求保护的处理装置70和/或打印设备1可以包括至少一个控制单元50，控制单元50适于对由相同装置和/或设备实施的操作状态进行控制，特别地适于对处理和打印方法的步骤进行控制。根据设计选择和操作需要，控制单元可以是单个单元或者可以由多个不同的控制单元形成。
术语“控制单元”是指电子类型的部件，其可以包括下述各者中的至少一者：数字处理器(CPU)、模拟型电路、或一个或更多个数字处理器与一个或更多个模拟类型电路的组合。控制单元可以被“配置成”或“编程为”执行一些步骤：这实际上可以通过使得能够对控制单元进行配置或编程的任何方式来实现。例如，如果控制单元包括一个或更多个CPU和一个或更多个存储器，则一个或更多个程序可以存储在连接至一个或更多个CPU的适合存储体上；一个或更多个程序包含指令，这些指令在由一个或更多个CPU执行时将控制单元编程为或配置成执行参照控制单元描述的操作。作为替代方案，如果控制单元是模拟型电路或者包括模拟型电路，则控制单元的电路可以被设计为包括电路，该电路构造成在使用中对电信号进行处理，以便执行关于控制单元的步骤。
术语“致动器”是指能够例如通过驱动控制单元(接收由控制单元从致动器输出的命令)将运动施加至物体的任何装置。致动器可以是电动型的(例如，电动马达)、气动的、机械的(例如，弹簧)、液压的或其他类型的。
术语“数字打印”是指使用一个或更多个打印头将限定主题、图案、色彩等的油墨施加到片材上的打印。
术语“扫描数字打印站”是指包括一个或更多个打印头8的站，在对片材进行打印的步骤期间，打印头能够横向于、可选地垂直于片材的前进方向A移动通过打印站；特别地，打印头8能够沿着片材的宽度移动。片材T在打印步骤期间构造成沿着前进方向间歇地前进，或者通过片材的前进状态与停止状态交替而前进：打印头8构造成在片材的停止状态期间、即在其中片材不沿着前进方向A进行移位的状态下横向于(可选地垂直于)前进方向A进行移动。
具体实施方式
处理装置70
附图标记70总体上指示用于通过处理组合物C对片材T、例如呈连续腹板的形式的片材T进行处理的装置。处理装置70可以用于处理织物、非织造织物或者另外另一种类型的片材。装置70可以用于纺织工业中和通过油墨对针织织物或非织造织物进行打印的领域中。
输送器2具有暴露表面E，该暴露表面E构造成接纳和支撑片材T；暴露表面E可以至少部分地基本位于平面上：暴露表面E具有适于直接接纳片材T和/或直接接纳处理组合物的平坦的沉积部段。输送器2的暴露表面E构造成面对片材T的第一侧面T1，并且直接接纳所述第一侧面T1，以用于沿着前进方向A导引片材T；特别地，输送器2的暴露表面E的至少一部分限定了操作部段3，操作部段3以接触的方式暂时接纳片材T的所述第一侧面T1并且使片材T的所述第一侧面T1移动。换句话说，操作部段3由输送器2的以接触的方式直接承载片材T并使片材T移动的部分限定。
输送器2——至少在暴露表面E的用于接纳片材T的连续纵向带处——没有贯通输送器2的厚度的贯通开口；特别地，用于接纳片材T的至少暴露表面E是完全光滑、没有空腔、凹陷或凸起的。
输送器2的暴露表面E的至少一部分可以制成粘性的，使得输送器可以暂时将片材T约束在操作部段3处。例如，暴露表面E可以由水不溶性的粘合材料处理，该粘合材料可选地包括对压力和温度中的至少一者敏感的聚合胶。作为替代方案，输送器2可以是透气的或者可以具有通孔并且可以与输送器下方的抽吸系统配合，以便不是通过粘合剂而是通过真空来保持片材T。
如在附图中可见的，装置70包括至少一个输送器2，其构造成支撑片材T并使片材T根据前进方向A沿着操作部段3移动。如附图中所示，输送器2可以包括闭合路径输送器带，闭合路径输送器带能够围绕至少一个第一空转构件2a和第二空转构件2b移动(例如，参见图1和2)。输送器带具有两个主表面或侧面：暴露表面E和内表面。内表面构造成接触空转构件2a、2b，而暴露表面E如上所述那样构造成接纳片材T。输送器带的操作部段3由所述输送器带的闭合路径的上部平坦的直线部段的至少一部分限定。
输送器2可以例如通过一个或更多个致动器、比方说例如电动马达移动；如果输送器2包括输送器带，则该输送器带的移动可以由在输送器带的一个或更多个空转构件上操作的至少一个马达来执行。例如，2指示输送器2的构型，其中，电动马达在带的第二末端空转构件2b上操作。
如在图4、图5、图6、图9、图10、图11和图12中可见，输送器2(特别地附图中所示的输送器带)的暴露表面E可以恒定地包括沉积部段3a，沉积部段3a就前进方向A而言在输送器2自身的操作部段3附近和上游延伸。如将在下文中更好地描述的，暴露表面E的沉积部段3a构造成接纳适于接触操作部段3中的片材T的处理组合物。特别地，沉积部段3a在输送器带的封闭路径的下述同样的平坦的直线部分上延伸：在该平坦的直线部分上限定了操作部段3。具体地说，沉积部段3a基本上从第一空转构件2a朝向第二构件2b延伸至操作部段3：因此，沉积部段3a和操作部段3沿着片材T的前进方向A是彼此直接连续的。
从尺寸的角度来看，输送器2(特别是输送器带)构造成具有等于或大于片材T的最大宽度的宽度；该宽度垂直于片材T的前进方向A测量。操作部段3可以具有沿着前进方向A测量的包括在0.5m与10m之间、特别是包括在0.5m与6m之间的纵向延伸或长度。操作部段3和沉积部段3a具有沿着片材T的前进方向A测量的相应的长度；操作部段3的长度与沉积部段3a的长度的比率大于1、特别是包括在1.5与5之间。
输送器2、可选地输送器带构造成使片材T根据间歇前进或逐步间歇前进而沿着操作部段3移动。事实上，输送器2构造成使片材T通过前进步骤、换句话说通过片材的前进状态与停止状态的交替而沿着方向1前进。在前进状态期间，输送器2(可选地输送器带)使片材T以大于0的基本恒定的前进速度V沿着操作部段3移动。每个前进状态之后是停止状态，在该停止状态中，输送器2的前进速度V为零，因此片材T的前进速度为零。再更具体地，输送器2(可选地输送器带)还构造成在每个前进状态期间使片材T沿着操作部段3移动预定的前进量：在每个前进状态期间，沿着前进方向A测量的片材T的位移是恒定的。输送器2(可选地输送器带)的间歇移动可以由控制单元50管理，控制单元50在对输送器的致动器/马达的命令中起作用，并且被构造成顺序地命令前进状态与停止状态进行交替。具体地，控制单元50构造成在两个连续的前进状态之间命令停止状态。此外，控制单元配置成管理输送器2的马达/致动器，以便能够调节以下参数中的至少一个参数：
-片材T在每个前进状态期间沿着操作部段3的前进速度，
-片材T在每个前进状态期间沿着操作部段3的位移，
-每个前进状态的持续时间，
-每个停止状态的持续时间。
显然，不排除通过输送器2(可选地输送器带)并且在预定的操作状态期间使片材T以恒定大于0的速度沿着前进方向A连续移动的可能性：在输送器2的操作状态期间，输送器2总是恒定地移动。换句话说，在输送器2(可选地输送器带)的操作状态期间，输送器2不提供交替的步进移动，并且因此，在步进运动中，沿着运动方向提供了输送器的停止。另外，在这种构型中，输送器2(可选地输送器带)的运动可以由控制单元管理。特别地，控制单元配置成对下述操作状态进行限定：在该操作状态中，输送器2构造成使片材T沿着前进方向A以包括在20m/min与100m/min之间、特别是包括在30m/min与70m/min之间的恒定速度连续地移动。在一构型中，处理装置70包括运动传感器，该运动传感器与输送器2(可选地输送器带)接合并且能够发出关于输送器2的运动的信号。
控制单元连接至运动传感器并且配置成：
-从运动传感器接收关于输送器2的运动的监测信号，
-根据所述监测信号管理输送器2的运动速度，并且因此管理片材T沿着前进方向A的运动速度。
在附图中，输送器2包括闭环输送器带。显然，不排除使用不同的输送器例如可移动板、辊式输送器和链式输送器的可能性。
处理装置70包括至少一个施加器12(例如，参见图1、图3、图4、图4A、图6至图14)，所述施加器12直接朝向输送器2定向并且构造成分配用于对片材T的至少一个侧面进行处理的处理组合物。
附图示出了构造成通过一个或更多个施加器12将处理组合物C施加至片材T的第一侧面T1的处理装置70。在该构型中，施加器12被安置在片材T的第一接触区的上游(图4)并且被构造成将处理组合物C置于沉积部段3a的暴露表面E上：施加器12构造成将处理组合物C沉积在输送器2(可选地输送器带)的还没有与片材T接触的部分上。特别地，在该构型中，每个施加器12被直接设置在沉积部段的上方(直接面对沉积部段)并且就前进方向A而言安置在操作部段3上游。
在输送器2(可选地为输送器带)运动之后并且因此片材T沿着前进方向A移动之后，处理组合物C被导引至初始接触区，在初始接触区，处理组合物C与片材T的第一侧面T1直接接触。输送器2(输送器带)与片材T的接触使得处理组合物C能够从第一侧面T1开始对片材T进行处理：由于片材的多孔性或渗透性，处理组合物C至少部分地穿透片材T的厚度以实现该处理。
由分配器12分配的可以是液体和处理泡沫两者的处理组合物C可以包括以下试剂中的至少一者：抗迁移剂、pH控制剂、水溶助剂。
在替代性实施方式中，施加器12可以设置在片材T的上方并且构造成将处理组合物C直接施加在片材T的与第一侧面T1相反的第二侧面T2上：第二侧面T2基本上限定了由输送器2支撑的片材T的暴露侧面。在该后一构型中，施加器12直接定位于操作部段3的上方：每个施加器12直接面对操作部段3，在操作部段3处，片材T(通过输送器带的暴露表面E)直接与输送器接触。
处理装置70可以包括至少一个固定型施加器12和/或至少一个可移动施加器12。用于处理组合物C的所有类型的施加器12相协作以获得相同的目的：通过将基本恒定量的处理组合物C施加在片材T上、可选地涂覆片材T的整个宽度来适当地处理片材T。
固定型施加器12可以具有长形主体，该主体横向于、可选地垂直于前进方向A、基本上沿着输送器带2的整个宽度延伸，并且基本上平行于输送器带2的暴露表面E(可选地平行于暴露表面E的平坦沉积部段)。相同的功能可以通过多个分立的施加器来实现，这些施加器沿着横向于、可选地垂直于前进方向A并且基本上平行于输送器2的暴露表面E的方向彼此相互地并置，使得所述多个施加器覆盖输送器2(可选地输送器带)的至少部分宽度、可选地整个宽度。
在可移动型施加器12的情况下，该施加器能够沿着横向于、可选地垂直于片材T的前进方向A并且基本平行于输送器2的暴露(平坦)表面E的方向往复地运动；事实上，可以将可移动施加器12的运动执行成使得施加器12可以覆盖片材T的全部(或仅部分)宽度，并且同时在施加器12自身的运动期间，保持距输送器2的暴露表面的基本恒定的距离。例如，如果仅存在一个可移动施加器12，则该施加器可以构造成在片材的整个宽度上行进。如果存在两个或更多个可移动施加器12(例如，参见图1、图3、图6、图9、图10、图11和图12)，这些可移动施加器可以构造成仅覆盖片材T的宽度的一部分，使得两个或更多个施加器的组合动作无论如何都能覆盖片材T的整个宽度。
施加器12沿着垂直于前进方向A并且平行于暴露(平坦)表面E的方向的运动是扫描类型的。在附图所示的实施方式中，可移动施加器12构造成沿着垂直于前进方向A并且平行于暴露(平坦)表面E的方向平移，以将处理组合物C直接分配在沉积部段3a上。特别地，附图以非限制性方式图示了处理装置70，处理装置70包括两个可移动施加器12，这两个可移动施加器12沿着垂直于前进方向A并且平行于暴露(平坦)表面E的相同方向对准，每个施加器12构造成基本上覆盖输送器2的宽度的一半。
处理装置70可以包括多个施加器12，所述多个施加器12：
-沿着垂直于前进方向A并且平行于暴露(平坦)表面E的相同方向对准，并且/或者
-沿着平行于暴露(平坦)表面E的所述前进方向A间隔开。
如果存在更多的施加器12，那么所述更多的施加器中的每个施加器都可以构造成覆盖(从而处理)片材T的专用分配部段。
特别地，同样在存在一个或更多个可移动施加器12的情况下，处理装置70包括支撑结构42，支撑结构42具有垂直于前进方向A并平行于暴露表面E延伸的至少一个横向导引件43：每个可移动施加器12通过沿着横向导引件43的来回滑动运动与横向导引件43接合。横向导引件43沿着输送器2的整个宽度延伸：每个施加器12可以沿着横向导引件43平移输送器2的至少部分宽度。例如，如果如附图中所示的存在两个施加器12，则每个施加器12构造成行进导引件43的相应的一半。
根据以上给出的描述，横向导引件43可以因此被安置在第一接触区域的上游：在该构型中，施加器12构造成将沉积部段3a处的处理组合物C直接分配在输送器2的暴露表面E上。作为替代方案，横向导引件43可以被安置在接触区域的下游，使得施加器12可以通过来回运动进行滑动，从而将处理组合物C直接施加在片材T的侧面T2上。
施加器12沿着横向导引件43的运动可以通过致动器73a来执行。附图示出了具有接合部分12a的施加器12，接合部分12a包括与包括螺钉的致动元件44接合的螺母螺钉。螺钉由支撑结构42支撑并且在端部处连接至致动器73a，特别地，致动器73a包括电动马达：马达旋转导致螺钉旋转并因此使施加器12沿着横向导引件43滑动。
附图以非限制性方式示出了处理装置70的实施方式，处理装置70具有与各自的致动元件44接合的两个施加器12。致动元件44包括具有不同螺纹、例如左旋螺纹和右旋螺纹的相应螺钉，所述螺钉彼此成一体并连接至单个电动马达。每个施加器包括相应的接合部分12a，该接合部分12a包括构造成接合相应的(右旋或左旋)螺钉的螺母螺钉：在马达旋转并且螺钉旋转之后，施加器12同时沿着相同的取向移动，但是由于不同的螺纹而具有相反的方向。更具体地，在马达的第一次旋转(例如，顺时针旋转)之后，施加器12朝向彼此移动，而在与第一次旋转方向相反的第二次旋转(例如，逆时针旋转)之后，施加器12远离彼此移动。
不排除通过不同的系统、例如通过在具有一个或更多个所述施加器12的链条或皮带上承载主动冠部的电动马达来执行使至少一个所述施加器12沿着横向导引件43移动的可能性。
控制单元可以连接至致动器73a并且在对致动器73a的命令中起作用，从而用于管理施加器12沿着横向导引件43的移动。特别地，控制单元配置成接收代表待处理区域的输入信号；控制单元根据所述信号配置成命令致动器73a，使得施加器12能够在待处理的片材T的区域上方沿着横向导引件43来回移动。例如，如果待处理的区域缩小到片材T的中心部分，则控制单元可以命令致动器73a，使得所述施加器中的一个或更多个施加器沿着横向导引件仅移动一定长度，以确保对所需区域进行完全处理。
施加器12可以包括以下各者中的至少一者：喷洒式分配器18、喷射式分配头、分配辊、分配滚筒或设置有刮刀的分配器。
附图以非限制性方式示意性地示出了处理装置70，处理装置70包括由喷洒或喷射式分配器18限定的多个可移动施加器12。分配器18构造成沿着横向导引件43垂直于前进方向A滑动并且将处理组合物C朝向输送器2进行分配。
不排除使用多个固定型喷洒或喷射式分配器的可能性；相反，用于处理组合物的涂层滚筒、辊或分配器适于限定固定型施加器12，换句话说，所述固定型施加器12不能沿着垂直于前进方向A的方向移动。
特别地，可用的施加器12可以是在专利申请No.WO 2018/020420 A1的从第42页第23行至第46页第18行中公开的任何类型，该文献通过参引并入本文中。
此外，控制单元可以在对施加器12的命令中起作用并且配置成：
-接收代表施加至片材T的处理组合物C的量的至少一个操作参数的期望值，所述至少一个操作参数包括以下各者中的一者：
о片材T在处理装置70上游的部段与处理装置70下游的部段之间的每平方米重量百分比变化，其中，在处理装置70上游的部段中，片材没有接纳处理组合物，在处理装置70下游的部段中，片材接纳处理组合物，
о片材在处理装置70上游的部段与打印站6下游的部段之间的每平方米重量百分比变化，
о处理组合物C离开处理装置70的体积流量，
о处理组合物C离开处理装置70的质量流量，
о组合物在沉积部段3a处的厚度，
-根据操作参数的期望值和赋予输送器带2的移动，命令施加器12以便管理处理组合物在片材T上的施用。
事实上，控制单元可以被配置成使可移动施加器12(如果存在的话)沿着横向导引件43的运动与处理组合物C的供应同步。具体地，控制单元被配置成使施加器12沿着横向导引件43的运动和/或运动速度与输送器2的速度和/或运动同步，从而与片材T的速度和/或运动同步。
由控制单元执行的对处理组合物C的供应的管理可以根据在国际专利申请No.WO2018/020420 A1的第36页第24行至第37页第11行、从第41页第10行至第42页第2行、第46页第19行至第33行、从第48页第28行至第50页第16行中描述的内容进行，该国际专利申请通过参引并入本文中。
图15和图16示出了包括分配器90的施加器12，分配器90构造成将预定量的处理组合物C、例如处理泡沫特别地直接分配在沉积部段3a上。分配器90包括至少一个贮存器91，贮存器91在内部限定了构造成接纳处理组合物C的隔室92；贮存器91沿着横向于、可选地垂直于前进方向A的延伸方向延伸。如图15和图16所示，贮存器91基本上沿着输送器2的垂直于前进方向A测量的整个宽度延伸。贮存器91的呈半圆形形状的横截面由平坦的基部91a和与基部91a接合的半圆形轮廓92b限定。如图15所示，贮存器的横截面在整个延伸过程中是恒定的。
贮存器的平坦基部91a面向输送器2，特别地远离沉积部段3a并直接面向沉积部段3a。换句话说，贮存器91设置在沉积部段上方，以使得分配器能够将处理组合物C直接施加在沉积部段3a上。半圆形轮廓接合至基部并从该基部与输送器相反地延伸。附图示出了沿着输送器的整个宽度延伸的分配器90；显然，不排除提供小尺寸分配器或构造成覆盖输送器的整个宽度的多个分开的贮存器的可能性。
贮存器包括至少一个入口93，其构造成使得能够将预定量的处理组合物C引入贮存器自身的隔室92中；特别地，贮存器91包括沿着贮存器91自身的延伸方向分布的多个入口93。特别地，多个入口93被限定在贮存器的半圆形轮廓的顶部部分上(图16)。如图15中可见，分配器90可以包括分配通道93a，分配通道93a连接至每个入口93并构造成对处理组合物C、具体地泡沫进行分配。在具有多个入口93的分配器90的构型中，通道93被构造成将处理组合物源连接至多个入口93，以便使得能够将组合物从多个入口引入到隔室92中。
此外，贮存器91包括至少一个出口94，所述出口94构造成使得能够将处理组合物C从贮存器91自身排出；每个出口94与入口93相对并且特别地限定在贮存器91的平坦基部91a上。特别地，贮存器91具有沿着贮存器自身的延伸方向分布的多个出口94。贮存器91还可以包括：
-多个第一出口94，其沿着横向于、可选地垂直于前进方向A的第一方向彼此对准，
-多个第二出口94，其沿着横向于、可选地垂直于前进方向A的第二方向彼此对准。
多个第一出口的第一方向平行于多个第二出口的第二方向；更具体地，多个第二出口相对于前进方向A与多个第一出口连续地安置。每个出口94与贮存器91的每个入口93相对地直接面对输送器2的沉积部段3a。
在每个出口94处，可以提供喷嘴，该喷嘴从贮存器朝向输送器2延伸、可选地朝向沉积部段3a延伸，并且该喷嘴构造成供应贮存器91中存在的处理组合物C。
分配器90还包括至少一个推动器95，所述推动器至少部分地接合在贮存器91中并且构造成能够将处理组合物C从贮存器的至少一个出口94进行分配。
推动器95可以包括至少一个叶片97，所述叶片97能够在贮存器91的隔室92内、在第一末端行程位置与第二末端行程位置之间旋转地移动；叶片97构造成在从第一末端行程位置旋转至第二末端行程位置期间和/或在从第二末端行程位置旋转至第一末端行程位置期间将处理组合物C、可选地泡沫推出一个或更多个所述出口94。
叶片97构造成在第一操作位置与第二操作位置之间旋转期间旋转大于90°、可选地包括在90°与200°之间、更可选地基本为180°的预定角度。更具体地，叶片97构造成：
-从第一操作位置旋转至第二操作位置，以使处理组合物C能够从第二多个出口流出，可选地作为泡沫流出，
-从第二操作位置旋转至第一操作位置，以使处理组合物C能够从多个第一出口流出，可选地作为泡沫流出。
旋转叶片97可以通过至少一个电动马达移动。
叶片97铰接至所述至少一个出口，可选地铰接至贮存器的基部91a。特别地，叶片97铰接在与多个入口93相对的位置处，使得所述叶片可以接纳处理组合物，并且在旋转期间将所述组合物C导引到至少一个出口外部。
叶片构造成围绕位于基本平行于沉积部段3a并垂直于前进方向A的平面上的轴线旋转。
在贮存器91内部，可以设置有沿着贮存器91的整个延伸部延伸的仅一个叶片，或者可以设置有沿着其旋转轴线对准的多个叶片。
如在图16中可见的，分配器90还可以包括至少一个流体拦截元件98，其设置在至少一个出口94附近；拦截元件能够至少在关闭状态与打开状态之间移动，在关闭状态下，所述流体拦截元件防止处理组合物从贮存器流出，在打开状态下，所述流体拦截元件使得处理组合物C能够从所述贮存器91排出。具体而言，流体拦截元件构造成在关闭状态下堵塞贮存器的至少一个出口94。
贮存器针对每个出口94具有流体拦截元件98。这样的元件98通过至少一个致动器99移动，所述致动器99构造成将流体拦截元件从关闭状态移动至打开状态，以及将流体拦截元件从打开状态移动至关闭状态。如在图15中可见的，分配器90可以包括多个致动器99，每个致动器99在相应的流体拦截元件98上操作；所述致动器99包括液压活塞、空气活塞、电动马达中的至少一者。
对处理组合物C的分配可以由控制单元50管理，控制单元50可以连接至致动器99和叶片97(可选地，电动马达使叶片97移动)上并且在对致动器99和叶片97(可选地，电动马达使叶片97移动)的命令中起作用。特别地，控制单元50在对至少一个致动器99的命令中起作用，以控制至少一个拦截元件98在关闭状态与打开状态之间的运动，并且控制至少一个拦截元件98在打开状态与关闭状态之间的移动。此外，控制单元可以在对旋转叶片上的命令中起作用。以这种方式，控制单元可以配置成使连接至拦截元件的多个致动器99的致动与连接至叶片97的电动马达的致动同步，以便对处理组合物C通过每个出口94、可选地通过多个出口的供应进行控制。
例如在图4中可见的，处理装置70可以包括至少一个压力辊5a，压力辊5a在初始接触区域处在输送器2(可选地输送器带)的暴露表面E上操作。压力构件5a构造成通过沿着前进方向A供应的片材T上的压力来操作，从而促进对输送器2的暴露表面E的粘附。压力构件5a可以构造成通过片材的与第一侧面T1相反的第二侧面T2(图5)上的压力直接操作，以便使第一侧面T1能够接触并粘附至输送器2、特别地粘附至暴露表面E。压力辊5a可以连接至推动致动器，该推动致动器适于使辊5a相对于输送器2竖向地移动；此外，控制单元可以连接至所述致动器并在对所述致动器上的命令中起作用，并且控制单元可以配置成控制代表以下参数中的至少一个参数的至少一个参数：压力辊5a距输送器2的暴露表面的距离、由辊5a施加在片材上的压力/力。
压力辊5a可以是空转型的或者可以是机动的、例如通过也能够由控制单元控制的电动马达驱动；控制单元可以起作用成根据输送器的停止状态和前进状态来命令连接至压力辊的电动马达来限定辊的旋转速度。
如图5所示，处理装置70还可以包括砧压力构件或辊5b，辊5b包括至少一个砧压力缸，该砧压力缸在初始接触区域处、在输送器2(可选地输送器带)的暴露表面E下方操作。砧压力构件5b可以在与构件5a相反的位置处在输送器2的内表面上进行连续操作。在该构型中，砧压力构件5b构造成操作成支撑输送器2，以便对抗压力构件5a。
因此，输送器带2和片材的初始接触区域介于压力构件5a与压力构件5b之间。至少压力构件5a(可选地压力构件5a和砧构件5b两者)相对于片材T的前进方向A横向于(可选地垂直于)输送器带2延伸：压力构件5a的长度基本上等于片材T的宽度。
优选地，压力构件5a包括由防水材料制成的外部完全光滑(没有通腔和/或开口)的圆形接触表面。
例如，在图4中可见的，处理装置70还可以包括多个空转辊45，空转辊45在处理装置70的使用状态下在输送器2上方、特别地在输送器带的暴露表面E上方运行。如在图4中可见的，空转辊45设置在压力辊5a的上方；设置有多个辊以便将片材T张紧并导引至与输送器2的初始接触区，并且特别是例如在如图4中所示的压力辊5a的入口处。
处理装置70可以包括运动装置40，运动装置40承载施加器12并且构造成使施加器12至少在片材T沿着操作部段3移动期间沿着平行于前进方向A的方向移动；施加器12的这种运动特别地可以在输送器使片材T根据间歇前进或连续步骤(不连续地)移动的情况下提供。
如图7和图8中示意性示出的，运动装置40构造成通过沿着平行于前进方向A的方向至少在第一操作位置与第二操作位置之间平移来使施加器12移动(施加器12为能够沿着前进方向横向地移动的类型和固定类型、即不能沿着横向于前进方向A的方向移动的类型两者)，并且反之亦然。具体地，运动装置40构造成至少在输送器2的前进状态期间使施加器12沿着平行于前进方向的方向移动。特别地，施加器12的运动沿着向前行程和返回行程发生，向前行程和返回行程两者将施加器12的位移限定成比片材T在前进状态期间执行的预定位移小。
向前行程和返回行程分别将施加器12的平行于运动方向A运动的长度限定为比片材T沿着操作部段3的位移小。特别地，片材T沿着操作部段3的预定位移与施加器12沿着向前行程的位移的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。类似地，片材T沿着操作部段3的预定位移与施加器12沿着返回行程的位移的比率的绝对值包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。
最后，向前行程和返回行程将施加器12沿着平行于前进方向A的方向的平移限定为具有相同的绝对值、但具有相反的方向。
因此，施加器12可以通过运动装置40沿着向前行程以第一移动速度移动，该第一移动速度小于片材T的由输送器2赋予的运动速度。片材T在前进状态期间的前进速度与施加器12沿着向前行程的运动速度的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。值得注意的是，片材T的前进速度与施加器12沿着向前行程的第一移动速度的比率可以是恒定的，用以促进处理组合物C的均匀施加，处理组合物C的施加如前所述可以直接在沉积部段3a上或直接在片材T的第二侧面T2上进行。
以同样的方式，运动装置40使得施加器12能够沿着返回行程以第二运动速度平移，该第二运动速度可以是恒定的并且在绝对值上等于第一运动速度。因此，片材T在前进状态下的前进速度与施加器12沿着返回行程的移动速度的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。片材T的前进速度与施加器12沿着返回行程的的第二运动速度的比率可以是恒定的，用以促进处理组合物的均匀施加，处理组合物的施加如前所述可以直接在沉积部段3a上或直接在片材T的第二侧面T2上进行。
事实上，运动装置40构造成使施加器12在输送器的每个前进状态和停止状态期间分别沿着向前行程和返回行程来回移动，以便在输送器的间歇前进期间保持施加器与片材T之间的相关联的运动；特别地，运动装置40构造成在输送器的前进状态和停止状态两种状态下保持片材T与施加器12之间的基本恒定的相对速度，以便在间歇(不恒定)前进状态下也能够对片材进行恒定和均匀的处理：运动装置使得处理组合物C能够均匀地渗透片材T，使得打印过程能够在片材T的相同浸渍状态下沿着片材自身的整个长度进行。
详细地，如图3所示，运动装置40包括至少一个导引件41和至少一个支撑结构42，导引件41安置在输送器2旁边并且平行于前进方向A延伸，支撑结构42稳定地承载能够沿着导引件41滑动地移动的施加器12。
至少一个导引件41包括第一导引件和第二导引件，第一导引件和第二导引件安置在输送器2旁边并且与输送器2自身相对(可选地与输送器带相对)。因此，第一导引件和第二导引件使得支撑结构42并且因此使得运动装置40能够使施加器12沿着向前行程(以预定速度)移动以及沿着返回行程(以预定速度)移动。
例如，如图4中可见的，压力辊5a和空转辊45也可以由运动装置40的支撑结构42稳定地承载，并且因此压力辊5a和空转辊45也能够与施加器12一起沿着平行于前进方向A的方向移动。
如果施加器12是可移动类型的、例如一个或更多个喷洒分配器18，则支撑结构42进一步稳定地承载横向导引件43、致动元件44和相应的致动器73a，施加器12能够沿着横向导引件43滑动。
整个支撑结构42(支撑结构42承载施加器12并且可选地承载压力构件5a)沿着导引件41的运动可以传递至一个或更多个致动器、例如借助于传动装置适当地连接至结构42的一个或更多个电动马达。例如，支撑结构42可以连接至通过一个或更多个齿轮移动的带，所述一个或更多个齿轮在旋转方面由电动马达支撑。
控制单元可以连接至运动装置40和起作用成命令运动装置40，并且配置成控制施加器12(在输送器2的前进状态期间)沿着向前行程的运动和施加器12(在输送器2的停止状态期间)沿着返回行程的运动；控制单元还配置成使输送器2的运动状态与装置40的运动同步，以便保持施加器12之间的预定相对运动，施加器12之间的预定相对运动适于确保在片材T的间歇前进(并且特别是在停止状态)期间也能对片材进行均匀处理。
如果存在可移动型施加器12，则控制单元配置成使施加器12沿着平行于前进方向A的方向的运动速度与以下各者之间的至少一者同步：
-同一施加器12沿着横向导引件43的运动速度，
-输送器2的运动，
-通过施加器进行的处理组合物C的供应。
如在图4、图4A、图5、图6、图9和图10A中可见的，处理装置70还可以包括约束装置71，约束装置71在处理装置70的使用状态下设置在输送器(2)上方和施加器12处；约束装置71包括至少一个屏障件72，屏障件72构造成将处理组合物C限制在沉积区域内从而防止组合物C流动通过屏障件72，可选地防止组合物C沿着横向于前进方向A的方向流动通过屏障件72。具体地，屏障件72构造成防止由分配器12分配的处理组合物C沿着横向于前进方向A、可选地垂直于前进方向A并平行于沉积部段的方向流动通过屏障72自身。
施加器12(可选地每个施加器12)构造成将处理组合物C分配在沉积区域中；屏障件72限制组合物C并防止组合物C流出沉积区域。
每个施加器12在处理装置70的使用状态下位于所述至少一个屏障件72上方。特别地，至少在处理装置70的使用状态下并且且至少在分配处理组合物C时，每个施加12设置在沉积区域上方，并且更特别地设置在由所述沉积区域限定的竖向体积内。
附图以非限制性方式示出了下述状态：在该状态中，每个施加器12面对沉积部段3a并且构造成将组合物直接供应至输送器2的暴露表面E、可选地输送器带的暴露表面E；在这种构型中，屏障件72也定位于沉积部段3a处的暴露表面E上方，使得屏障件72可以限制抵接输送器2的处理组合物；特别地，在这种构型中，至少一个屏障件72就前进方向A而言安置在压力构件5a的上游。
如上所述，不排除将处理组合物C直接供应至片材T的第二侧面T2的可能性：每个施加器12将直接面对由输送器2支撑的片材T。在这种构型中，至少一个屏障件72可以定位于直接在第二侧面T2上方的片材T上方或者安置在片材旁边，以便防止处理组合物C倾倒在输送器带2上；特别地，在这种构型中，至少一个屏障件72就前进方向A而言安置在压力构件5a的下游。
附图以非限制性方式示出了具有第一屏障件72a和第二屏障件72b(例如，参见图11和12)的约束装置71，第一屏障件72a和第二屏障件72b彼此面对并且一起界定沉积区域：沉积区域介于所述第一屏障件72a与第二屏障件72b之间。如果存在所述第一屏障件72a和第二屏障件72b，则所述屏障件72a、72b构造成通过将处理组合物C限制在所述屏障件72a、72b之间来将处理组合物C限制在所述沉积区域内。在这种构型中，每个施加器12设置在所述第一屏障件72a和第二屏障件72b上方。
在(不能垂直于前进方向A移动的)固定型施加器12的情况下，所述施加器至少在供应组合物C的状态期间稳定地安置在沉积区域上方。如果存在(附图中所示的状态下的)可移动型分配器，所述分配器能够在沉积区域上方沿着垂直于前进方向的方向滑动地移动。特别地，每个施加器12在处理装置70的使用状态下并且至少在供应处理组合物C的状态期间能够在输送器2上方、在沉积区域的竖向体积内移动。
附图以非限制性方式示出了包括两个喷洒分配器18的处理装置70，所述两个喷洒分配器18能够沿着导引件43移动；每个喷洒分配器能够在沉积区域上方移动相应的长度。如果存在第一屏障件72a和第二屏障件72b，则施加器在处理装置70的使用状态下并且至少在处理组合物C的分配状态期间被设置在由第一屏障件72a和第二屏障件72b界定的竖向横向尺寸内。附图示出了能够在由第一屏障件72a和第二屏障件72b界定的竖向横向尺寸内移动的两个喷洒式分配器18。
在下文中，参照屏障件72的结构。应当理解的是，这种结构与第一屏障件72a和第二屏障件72b中的一者相同。
屏障件72包括可选地由金属材料、更可选地铁磁材料制成的板。该板沿着平行于前进方向A的方向纵向延伸，并且沿着垂直于输送器2的暴露表面E的方向竖向地、可选地垂直于沉积部段远离输送器2延伸。如果存在第一板72a和第二板72b，则所述屏障件的相应的板彼此平行地且平行于前进方向A地纵向延伸。
如上文所述，分配处理组合物C可以直接发生在输送器2(可选地输送器带)的暴露表面E上，或者直接发生在片材T的第二侧面上；根据这一点，屏障件72的板可以或多或少地远离输送器2的暴露表面E。例如，如果组合物被直接分配在暴露表面E上，则屏障件72的板可以设置成与暴露表面E接触或者处于包括在0.3mm至2mm之间的最小距离处。仍然在这种构型中，板可以邻近压力构件5a定位；因此，该板可以具有至少部分地定形状成与压力构件5a的外表面相对应的前轮廓(例如，参见图5)，使得屏障件可以限制处理组合物C直到初始接触区为止。
当组合物被直接分配在片材T的第二侧面T2上时，屏障件72——如果屏障件72被安置在片材上方——根据片材的厚度被安置在距输送器的表面的最小距离处，例如包括在0.3mm与2mm之间的距离处；相反，如果屏障件72被安置在片材T的旁边，则屏障件72可以被设置成与暴露表面E接触或者处于包括在0.3mm与2mm之间的最小距离处。
该板限定了内部约束表面77，内部约束表面77构造成直接接触处理组合物C并约束处理组合物C：约束表面是平坦的并且平行于前进方向A且垂直于暴露表面E延伸。如果存在第一屏障件72a和第二屏障件72b，则第一屏障件72a和第二屏障件72b包括相应的彼此面对的内部约束表面77，并且构造成根据垂直于前进方向且平行于沉积部段的方向侧向地限定沉积区域。
每个屏障件72可以固定至处理装置70的静置框架上并承载输送器2；在这种构型中，每个屏障件72可以仅采取一个位置来限制处理组合物。
作为替代方案，约束装置71可以包括定位装置73，定位装置73构造成使屏障件72(如果第一屏障件72a和第二屏障件72b存在的话)至少沿着横向于前进方向A、可选地垂直于前进方向A且平行于沉积部段的方向移动，使得所述至少一个屏障件72可以采取不同的位置来限制处理组合物C。
详细地，定位装置73包括支撑框架74，支撑框架74承载至少一个横向导引件75，横向导引件75横向于、可选地垂直于前进方向A且平行于暴露表面E(可选地平行于沉积部段)延伸：横向导引件75在处理装置70的使用状态下设置在输送器2上方，并且沿着输送器2的垂直于前进方向测量的整个宽度延伸。此外，定位装置73包括至少一个移位构件76，所述至少一个移位构件76例如通过在构件76上操作的致动器73a能够沿着横向导引件75滑动地移动：移位构件76构造成使所述至少一个屏障件72沿着横向于前进方向A、可选地垂直于前进方向A且平行于暴露表面(可选地平行于沉积部段)的方向移动。
此外，控制单元可以在对定位装置73的致动器73a的命令中起作用并且配置成命令定位装置73将屏障72件沿着横向导引件75移动。例如，致动器73a可以包括电动马达；控制单元由于电动马达的控制而可以管理移位构件76沿着导引件75的位置并且因此管理屏障件72的位置。控制单元配置成命令定位装置73将屏障件72至少在拾取位置与操作位置之间移动：屏障件72构造成在操作位置将处理组合物C限制在沉积区域中。再更具体地，由于致动器73a的控制，控制单元配置成使移位构件76至少在以下位置之间移动：
-第一操作位置，在第一操作位置中，移位构件76配置成在拾取位置中接合屏障件72，
-第二操作位置，在第二操作位置中，屏障件处于操作位置。
如果存在第一屏障件72a和第二屏障件72b，则定位装置包括相应的第一移位构件76a和第二移位构件76b，第一移位构件76a和第二移位构件76b分别作用于第一屏障件72a和第二屏障件72b，以使第一屏障件72a和第二屏障件72b沿着横向导引件75移动。
移位构件76可以直接在屏障件72板上操作。作为替代方案，屏障件72(每个屏障件)可以包括与内部约束表面77相反的外部联接部分78：移位构件76构造成接合外部联接部分78，以使屏障件72沿着横向导引件75移动。
附图示出了联接部分78，联接部分78包括支撑块，该支撑块在与内部约束表面77相反的位置处与板接合并且具有出现在屏障件72板上方的抓持部分79(参见图4A、图10A、图11至图14)：抓持部分79构造成与移位构件76接合，以使得能够将屏障件沿着横向导引件75移动。
在构型中，联接部分78的抓持部分79至少部分地由铁磁材料制成；移位构件76包括磁体、电磁体中的至少一者。在这种构型中，移位构件76构造成(由于磁效应)将支撑块并且因此将屏障件72朝向其自身吸引，然后屏障件72会由于移位构件76的移动而沿着横向导引件75移动。
如果移位构件76包括电磁体，那么定位装置73可以包括发生器，该发生器构造成：
-限定激活状态，在激活状态下，发生器向移位构件76的电磁体提供电流，使得所述电磁体产生能够将联接部分78并且因此将屏障件72朝向其自身吸引(接合)的磁场，
-限定非激活状态，在非激活状态下，发生器不向电磁体提供任何电流。
控制单元在对电磁体的发生器的命令中起作用并且配置成：
-命令移位构件76移动至第一操作状态，
-命令电磁体处于激活状态，使得移位构件76可以接合屏障件72，
-命令移位构件76移动至第二操作状态，使得所述移位构件76可以将屏障件72移动至操作位置。
控制单元在驱动移位构件76移动至第二操作位置之后还配置成：
-命令电磁体处于非激活状态，使得移位构件76与屏障件72断开接合，
-在与屏障件72断开接合之后，将移位构件从第二操作位置移动至静止、远离位置，在静止、远离位置中，移位构件76远离置于操作位置的屏障件。
在实施方式中，例如，如图13和图14所示，移位构件76可以由通过致动器73a能够沿着横向导引件43移动的施加器12承载。由于施加器12的移位，因此可以使屏障件72沿着横向导引件75移动。在这种构型中，控制单元在对致动器73a和电磁体的命令中起作用，以便能够管理施加器12沿着横向导引件43的运动，并且同时命令电磁体进入激活状态和非激活状态，以便控制屏障件72的抓持和释放。
如上文所述，处理装置70可以包括运动装置40，运动装置40可以稳定地承载约束装置71以使约束装置71沿着平行于前进方向A的方向移动。特别地，运动装置40构造成使屏障件72沿着平行于前进方向A的方向移动。
附图示出了施加器12和约束装置71的运动；在这种构型中，运动装置40构造成使至少一个屏障件72沿着平行于前进方向A的方向与施加器12一体地来回移动。因此，屏障件72可以执行施加器12的移位，并且因此处理组合物C被分配成使得能够适当地将所述组合物限制在沉积区域内。特别地，由装置40承载的屏障件72也能够在相应的第一操作位置与第二操作位置之间移动，该第一操作位置和该第二操作位置基本上与施加器12的第一操作位置和第二操作位置一致。
作为替代方案，运动装置可以仅承载施加器12，施加器12将能够沿着平行于方向A的方向移动，而约束装置71由处理装置的静置框架承载：在这种构型中，施加器和屏障件能够沿着平行于前进方向A的方向相对于彼此移动。
此外，运动装置40可以仅承载约束装置40，而施加器12仅与处理装置70的静置框架接合并且可能仅能够沿着横向于前进方向A的方向移动。附图以非限制性方式示出了下述处理装置：在该处理装置中，运动装置40稳定地承载能够沿着横向导引件43移动的施加器12(特别地多个施加器)、具有至少一个屏障件72(特别地第一屏障件72a和第二屏障件72b)的约束装置71、以及压力辊5a：所有这些元件沿着平行于前进方向A的方向一体地移动。
如在附图中可见的，处理装置70可以包括供应站14，供应站14就片材T沿着操作部段3的前进方向而言设置在施加器12和约束装置71的上游，供应站14构造成将片材T带至处理装置70。供应站14可以包括安置在由马达旋转地驱动的滚筒上的一卷片材T，片材T从滚筒解绕并移动至处理装置70。此外，供应站14可以包括一个或更多个空转辊14a，空转辊14a构造成接纳从滚筒解绕的片材T并且在将片材T输送至处理装置70之前适当地张紧片材T。在实施方式变型中，片材T可以从构造成将片材T存储为平坦层或圈(这种情况未在附图中示出)的不同的供应站14拾取。在供应站14与处理装置70之间，提供有与所描述的不同的张紧系统，例如使用松紧调节辊。
打印设备1
本发明的另一目的是片材T、例如呈连续腹板的形状的片材T的数字打印设备1。设备1能够用于对片材T进行油墨打印，片材T包括例如织物、非织造织物或其他类型的片材。设备1可以用于纺织领域或待油墨打印的针织织物或非织造织物。
打印设备1包括打印站6，打印站6构造成对安置在操作部段3上的片材T进行油墨打印。具体而言，打印站6构造成对片材T的第二侧面T2进行打印，该第二侧面T2与第一侧面T1相反，第一侧面T1与暴露表面E接触(可选地粘附至暴露表面E)。
打印站6可以是扫描型的，换句话说，打印站6可以具有一个或更多个头部8，头部8构造成在头部8沿着横向于片材T的前进方向A的方向移动期间在片材上执行喷墨打印。特别地，头部8(每个头部8)构造成相对于片材T平移，以便将打印限定在片材T的整个宽度上。
为了能够通过扫描型打印站6适当地对片材T进行打印，需要使片材T通过输送器2根据间歇前进或连续步骤(不连续的)前进移动；头部8的运动与输送器2的停止状态同步，使得头部8在片材T不沿着操作部段3移动时可以将油墨沉积在片材T上。事实上，头部8构造成在输送器2的前进状态期间、换句话说在片材沿着操作部段3移动时不对片材T进行打印(并且通常保持静止)。
此外，头部8的运动被传递至致动器、例如由控制单元50连接和控制的电动马达，控制单元50配置成对以下参数中的至少一个参数进行调节：
-头部8的运动速度，
-头部8垂直于前进方向A的运动，
-头部8运动的持续时间。
此外，控制单元50还以已知的方式在对头部8的命令中起作用，以便能够通过头部8的喷嘴供应期望类型和数量的油墨。因此，控制单元配置成在输送器2的停止状态和前进状态下管理头部8的打印步骤的同步，并且因此管理头部8的运动，并且也管理墨水分配。
不排除使用打印站6的可能性，打印站6包括横向于、可选地垂直于前进方向A且平行于输送器2的暴露表面E延伸的至少一个打印模块7。每个打印模块7具有垂直于所述运动方向测量的宽度，该宽度略小于(例如，从5％至10％)、等于或大于输送器2的宽度。每个打印模块7构造成限定等于或大于纤维材料T的宽度的宽度，所述纤维材料T在使用中粘附至输送器。每个打印模块7在输送器2的操作状态下——其中，输送器2使片材以大于0的预定速度连续移动——配置成：
-将打印限定在纤维材料T的整个宽度上，
-保持在固定位置并对在操作部段3上滑动的纤维材料T的第二侧面T2进行打印。
本质上，提供沿着纤维材料T的整个宽度延伸的打印模块7使得能够同时使模块自身在输送器的操作状态(使片材T连续移动)期间保持静止——特别地不能沿着相对于前进方向A的纵向方向和/或横向方向进行任何类型的移位——并且仅通过赋予纤维材料T的运动在纤维材料T上连续进行打印。
更详细地，每个打印模块7包括多个头部8，头部8构造成通过相应的喷嘴覆盖输送器的整个宽度、特别是纤维材料T的宽度。每个打印模块的结构和通过控制单元对打印模块的控制可以根据在专利申请No.WO2018/020420A1第85页第25行至第88页第5行中所描述的内容。
打印站6相对于片材T在输送器2的操作部段3上沿着前进方向A的前进方向设置在处理装置70的下游。在这种构型中，处理装置70基本上限定了用于在打印步骤之前对片材T进行预处理的站：片材T在从处理装置70移动时被预先处理，并且之后片材T在移动通过打印站6时被打印。
如上文参照处理装置70所述，施加器12可以由运动装置40承载，并且能够在第一操作位置与第二操作位置之间移动；位于第一操作位置的施加器12设置在距打印站6下述距离处：该距离大于打印站6与位于第二操作位置的施加器12之间存在的距离。施加器12与打印头之间的上述距离是沿着前进方向A测量的(见图7和图8)。
在这点上，向前行程限定了施加器12在输送器2的前进状态下从第一操作位置以等同于输送器2的前进方向的方向朝向打印站6移动至第二操作位置。反之亦然，返回行程限定了施加器2在输送器2的停止状态期间从第二操作位置远离打印站6移动至第一操作位置。
在约束装置71由运动装置40稳定承载的构型中，朝向打印站6和远离打印站6的相同的运动可以通过约束装置71来执行。在这种构型中，屏障件72也能够沿着平行于前进方向A的方向至少在第一操作位置与第二操作位置件移动：处于第一操作位置的屏障件72距打印站6的沿着前进方向测量的距离大于打印站与置于第二操作位置的至少一个屏障件72之间的距离。
如上所述，打印设备1也可以包括与处理装置70的控制单元分离的控制单元，或者可以是相同的控制单元50。这种控制单元配置成使输送器2(因此片材)的运动与打印站6同步。特别地，在扫描打印站6的情况下，控制单元配置成使输送器2的运动与可移动头部8的运动同步，使得打印步骤可以在输送器2的停止步骤期间执行。此外，控制单元配置成使头部8的运动与施加器12沿着导引件43的运动和运动装置40的移位同步，可选地与施加器12和/或屏障件72沿着平行于前进方向A的向前行程和返回行程的运动同步。
如上文参照处理装置70所述，该单元配置成管理运动装置40和输送器，使得该单元设定了由运动装置40承载的施加器12的位移(或运动速度)与由输送器2承载的片材T的位移(或移动运度)的预定比率。
然而，控制单元可以在对施加器12、输送器2和运动装置的命令中起作用并且可以配置成确定以下操作参数中的至少一个操作参数：
-由分配器分配的处理组合物、可选地处理泡沫的量，
-片材T沿着前进方向朝向打印站的运动速度，
-片材T沿着前进方向A的连续或间歇的前进模式。
控制单元构造成可以通过驱动施加器12、输送器2和运动装置40中的至少一者来控制所述操作参数中的至少一个操作参数，以便能够在所述片材T到达打印站6之前对处理组合物在片材T上的停留时间进行管理。例如，控制单元可以配置成使得在片材T到达打印站6之前，处理组合物在片材T上的停留时间等于或大于1秒、可选地包括在1秒与20秒之间。
如上所述，处理装置70安置在打印站的上游。不排除额外地或作为替代方案地在打印站6的下游提供处理装置70的可能性，使得所述装置70——根据上文所描述——可以限定用于对经打印的片材T进行后处理的站。在这种构型中，处理装置70——可选地至少一个施加器12——构造成将处理组合物施加到片材T的第二打印侧面T2上。在这种情况下，由处理装置70分配的处理组合物可以与由位于打印站6上游的相同的装置70分配的处理组合物不同；例如，由打印站6下游的装置70分配的处理组合物可以包括pH控制剂和水溶助剂。此外，不排除提供两个根据上文所述的处理装置70的可能性：安置在打印站6上游的第一处理装置70和安置在打印站6下游的第二处理装置70。
例如，如图1和图3中可见的，打印设备1可以包括置于处理装置70与打印站6之间的干燥站，其中，处理装置70相对于片材T沿着操作部段3的前进方向设置在打印站6的上游。干燥站可以用于在于打印站6中对片材T打印之前对由处理组合物C处理的片材T进行干燥。干燥站可以包括加热器和/或鼓风机。
处理方法
此外，本发明的一个目的是一种对片材T进行处理的方法，该方法特别地由根据所附权利要求中的任一项和/或根据以上给出的描述的处理装置70来执行。
该方法包括存储例如来自供应站14的片材T并将其输送至输送器2(可选地输送至输送器带)的步骤；输送步骤可以通过从供应站14的滚筒连续解绕的片材T来进行。可以使片材T经过一组适于实现适当张紧的空转辊。之后，将片材T约束至输送器2(可选地输送器带)的暴露表面E，以便限定操作部段3，输送器2在该操作部段3中支撑片材T。第一侧面T1与输送器2的暴露表面E接触；然后，片材T通过输送器2(可选地输送器带)沿着前进方向A移动。片材T可以(例如，通过施加粘合材料)被约束至输送器2的暴露表面E，使得输送器2可以稳定地支撑移动的片材T。
片材T的运动可以由输送器2根据间歇前进来执行，在间歇前进中，片材T的前进状态与停止状态交替；以便使片材T在两个连续的前进状态与停止状态交替下间歇前进。作为替代方案，可以使材料以恒定大于0的速度、特别地包括在20m/min与70m/min之间的速度沿着操作部段3连续前进。片材的这种(间歇的和连续的)运动可以由控制单元来管理，该控制单元在对具有使输送器2移动的能力的致动器/马达的命令中起作用。
该方法包括通过根据以上给出的描述的一个或更多个施加器12对处理组合物C进行分配的步骤，处理组合物C用于对片材T的至少一个侧面进行处理。施加可以直接在片材T的第一侧面T1上进行，而不直接施加至待打印的第二侧面T2上，或者可以直接在所述第二侧面T1上进行。
附图图示了将处理组合物施加至片材T的侧面T1上的步骤；该步骤可以通过由一个或更多个施加器12将组合物C直接施加至沉积部段3a来进行，沉积部段3a相对于相同片材的前进方向位于操作部段3上游。然后，在片材接触输送器2的暴露表面E之后，对片材T进行处理。不排除将处理组合物C直接分配在与输送器2的暴露表面E接触的片材T的第二侧面T2上的可能性。
在由输送器2承载的片材T的间歇或连续前进期间，连续地执行处理组合物C的供应。对处理组合物C进行分配的步骤可以通过下述施加方式中的一者或更多者来进行：
-通过喷洒式分配器18或喷射头进行分配，
-通过滚筒施加，该滚筒具有横向于前进方向A的旋转轴线和远离输送器的侧向表面，该滚筒具有用于容纳预定量的处理组合物的中空内部并且设置有用于分配组合物的预定数量的喷嘴或槽，
-由分配器90施加。
再更详细地，可以根据专利申请No.WO 2018/020420 A1第53页第16行至第56页第23行中描述的模式对处理组合物C进行分配/施用。
如果片材T根据间歇模式移动，则在片材T运动的同时，该方法可以提供使施加器12沿着平行于前进方向A的方向移动的步骤。施加器12的运动由运动装置40沿着向前行程和返回行程来实现；在输送器2的前进状态期间，沿着向前行程的运动以小于片材T的运动速度的第一速度进行。在输送器2的停止状态期间，施加器12以第二速度沿着返回行程移动，该第二速度基本上等于施加器12沿着向前行程的第一运动速度，因此小于片材T的运动速度。
在施加器12沿着向前行程移动期间以及在施加器12沿着返回行程移动期间，观察由施加器12执行的处理组合物C的供应是有用的。由于施加器12以比片材T的运动速度小的速度移动，因此施加器12的纵向移动在前进状态以及在停止状态期间都小于片材T的预定纵向位移。
特别地，片材T的前进速度/移动速度与施加器12的移动速度(第一速度和/或第二速度)的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。因此，由于片材T和施加器12的移动以相等的时间间隔发生，因此片材T的预定纵向位移与施加器12在前进行程期间及在返回行程期间的位移的比率包括在1.8与2.2之间、可选地基本上为2。
该方法还包括通过约束装置71的至少一个屏障件72将处理组合物C限制在沉积区域内的步骤，从而防止所述处理组合物C根据横向于前进方向A的方向穿过屏障件72。事实上，对处理组合物C的分配直接发生在由屏障件(由第一屏障件72a和第二屏障件72b，如果存在)界定的沉积区域内，使得所述至少一个屏障件能够适当地限制组合物C。
在分配处理组合物C的步骤之前，该方法可以包括使屏障件72移动成通过定位装置73将屏障件72定位在期望的限制操作位置的步骤。特别地，屏障件72的运动可以提供以下子步骤：
-通过定位装置73的移位构件76拦截置于拾取位置的至少一个屏障件72，
-通过移位构件76使所述屏障件72从拾取位置沿着横向于前进方向A、可选地垂直于前进方向A的方向移动至限制操作位置，屏障件72构造成在操作位置将处理组合物C限制在沉积区域中。
将屏障件72移动至期望的操作限制位置可以通过控制单元进行管理，该控制单元在对定位装置73的命令中起作用。例如，控制单元可以配置成根据代表以下各者的至少一个参数来命令屏障件72移动至期望的操作限制位置：
-片材的待处理的部段，
-屏障件72相对于预定拾取位置的位置，
-一个或更多个施加器12的位置，
-一个或多个施加器12的运动行程，
-沉积区域的(垂直于前进方向A且平行于暴露表面E测量的)宽度延伸，
-距片材的周缘的预定距离，
-屏障件相对于输送器的纵向端部边缘的位置。
如上文参照装置70所述，约束装置71可以由运动装置40承载。因此，该方法可以包括使屏障件72沿着平行于前进方向A的方向进一步来回移动。如果施加器12由装置40承载，屏障件72的运动与施加器12的运动可以一体地发生。
屏障件72在运动装置40的作用下的运动与上面参照施加器的运动所描述的运动相同。
参照上述方法，主要参照施加器12和屏障件72；然而，如上文参照处理装置所描述的，处理装置可以包括多个施加器12和/或多个屏障件(例如，第一屏障件72a和第二屏障件72b)。关于单个施加器12和单个屏障件72的方法步骤可以转移至处理装置70的一个或更多个施加器或屏障件。
打印方法
本发明的另一目的是对片材进行打印的方法，该方法可选地由根据一个或更多个所附权利要求和/或根据以上给出的描述的打印设备1来执行。
打印方法包括通过输送器2使片材在前进方向A上沿着操作部段3移动的打印步骤；通过打印站6对操作部段3上的片材T进行油墨打印。
如上所述，打印站6可以是扫描型的(这种情况在附图中示出)，换句话说，打印站6具有适于通过沿着垂直于运动方向A的方向平移来执行油墨打印操作的至少一个头部8。打印步骤与输送器2的前进状态和停止状态同步；具体而言，仅在输送器的停止状态期间，头部8在片材上方移动，以用于将油墨沉积在第二侧面T2上：在前进状态期间，头部8保持在片材T旁边(例如，外侧)。
如果该方法包括通过扫描站进行的打印步骤，则片材沿着操作部段间歇地前进；在这种情况下，可以提供施加器12(一个或更多个施加器12)和/或约束装置71(可选地一个或更多个屏障件)沿着平行于前进方向A的方向的运动。这种运动提供了施加器和/或屏障件沿着向前行程朝向打印站的移动和沿着返回行程远离打印站的移动。在施加器12和/或屏障件72沿着向前行程移动期间，施加器和/或屏障件移动至打印站6，而在施加器12和/或屏障件72沿着返回行程移动期间，施加器和/或屏障件远离打印站6。如上所述，沿着向前行程和返回行程的移动与输送器的前进状态和停止状态同步。
此外，不排除包括根据上文所描述的将处理组合物C分配到位于打印站下游的一侧上以便对经打印的片材进行后处理的步骤的可能性。此外，不排除包括两个不同处理步骤的可能性：在打印片材T之前对片材T进行预处理的步骤和对经打印的片材进行后处理的步骤。
本发明的优点
本发明能够提供一种片材T的处理装置，该处理装置能够执行对片材精确且均匀的处理；特别地，至少一个屏障件的存在确保了将处理组合物精确地沉积在片材上以及随后约束该处理组合物的动作，使得处理组合物不会流出期望区域。以此方式，处理装置防止处理组合物流出片材并堆积在输送器带上，从而因此防止对打印站、特别是对打印头造成不期望的损坏。以此方式，处理装置可以保持高效率的施用，并且同时可以确保片材T处理的均匀性和精度。
Claims (27)
1.一种片材(T)的处理装置(70)，所述处理装置包括：
-至少一个输送器(2)，所述至少一个输送器(2)构造成使所述片材(T)根据前进方向(A)至少沿着操作部段(3)移动，
-至少一个施加器(12)，所述至少一个施加器(12)构造成分配处理组合物(C)，所述处理组合物(C)用于对所述片材(T)的至少一个侧面进行处理，
其特征在于，所述处理装置(70)包括至少一个约束装置(71)，所述至少一个约束装置(71)在所述处理装置(70)的使用状态下设置在所述输送器(2)上方和所述施加器(12)处，所述约束装置(71)包括至少一个屏障件(72)，所述至少一个屏障件(72)构造成将所述处理组合物(C)限制在沉积区域内，从而防止所述处理组合物(C)根据横向于所述前进方向(A)的方向穿过所述屏障件(72)。
2.根据权利要求1所述的处理装置，其中，所述输送器(2)包括暴露表面(E)，所述暴露表面(E)构造成接纳所述片材(T)并且使所述片材(T)根据所述前进方向(A)沿着所述操作部段(3)移动，其中，所述屏障件(72)在所述处理装置(70)的使用状态下设置在所述暴露表面(E)的沉积部段、可选地平坦的沉积部段上方。
3.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中，所述屏障件(72)构造成且能够相对于所述输送器(2)安置成防止由所述施加器(12)供应的所述处理组合物(C)根据横向于所述前进方向(A)且平行于所述沉积部段的方向穿过所述屏障件自身。
4.根据权利要求2或3所述的处理装置，其中，所述操作部段(3)被限定成：
-至少部分处于所述沉积部段处，或者
-相对于所述前进方向(A)位于所述沉积部段下游。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，其中，所述至少一个屏障件(72)包括彼此面对且远离的第一屏障件(72a)和第二屏障件(72b)，所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(772b)彼此协作地界定所述沉积区域。
6.根据前一权利要求所述的处理装置，其中，所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(72b)构造成且能够相对于所述输送器安置成将所述处理组合物(C)限制在所述沉积区域内。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，其中，所述施加器(12)在所述处理装置(70)的使用状态下定位于所述至少一个屏障件(72)上方、可选地定位于所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(72b)上方。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，其中，所述施加器(12)构造成将所述处理组合物(C)分配在所述沉积区域内。
9.根据权利要求2至8中的任一项所述的处理装置，其中，所述约束装置(71)包括至少一个定位装置(73)，所述至少一个定位装置(73)构造成使所述屏障件(72)至少沿着横向于、可选地垂直于所述前进方向(A)并且平行于所述沉积区域的方向移动。
10.根据当从属于权利要求5至8中的任一项时的权利要求9所述的装置，其中，所述定位装置(73)对所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(72b)中的至少一者进行作用，并且构造成使所述屏障件中的至少一个屏障件沿着横向于、可选地垂直于所述前进方向(A)并且平行于所述沉积部段的方向移动。
11.根据权利要求9或10所述的处理装置，其中，所述定位装置(73)包括：
-支撑框架(74)，
-至少一个横向导引件(75)，所述至少一个横向导引件(75)由所述支撑框架(74)支撑并且横向于、可选地垂直于所述前进方向(A)且平行于所述沉积部段延伸，所述横向导引件(75)在所述处理装置(70)的使用状态下设置在所述输送器(2)上方并且沿着所述输送器的垂直于所述前进方向(A)测量的整个宽度延伸，
-至少一个移位构件(76)，所述至少一个移位构件(76)能够沿着所述横向导引件(75)滑动地移动，所述移位构件(76)构造成使所述至少一个屏障件(72)沿着横向于、可选地垂直于所述前进方向(A)且平行于所述沉积部段的方向移动。
12.根据前一权利要求所述的处理装置，其中，所述至少一个屏障件(72)包括：
-内部约束表面(77)，所述内部约束表面(77)构造成直接接触所述处理组合物(C)并且限制所述处理组合物(C)，
-外部联接部分(78)，所述外部联接部分(78)与所述内部约束表面(77)相反，
其中，所述移位构件(76)构造成接合所述至少一个屏障件(72)的所述外部联接部分(78)，以使所述至少一个屏障件(72)沿着所述横向导引件(75)移动。
13.根据前一权利要求所述的处理装置，其中，所述外部联接部分(78)包括铁磁或可磁化材料，
其中，所述移位构件(76)包括以下各者中的至少一者：磁体、电磁体，
其中，所述移位构件(76)构造成将所述至少一个屏障件(72)磁性地吸引至所述移位构件自身，以便能够实现沿着所述横向导引件(75)的移位。
14.根据权利要求12或13所述的处理装置，其中，所述至少一个屏障件(72)包括：
-板，所述板限定了所述内部约束表面(77)，
-支撑块，所述支撑块在与所述内部约束表面(77)相反的位置与所述板接合，并且所述支撑块至少部分地限定所述联接部分(78)。
15.根据前述权利要求所述的处理装置，其中，所述至少一个屏障件(72)的所述板沿着平行于所述前进方向(A)的方向纵向延伸，可选地，所述板沿着垂直于所述沉积部段的方向远离所述输送器(2)竖向延伸。
16.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，包括至少一个压力构件(5a)、可选地包括至少一个压力缸，所述至少一个压力构件(5a)在所述输送器(2)上方操作，
其中，所述约束装置(71)的所述至少一个屏障件(72)相对于所述前进方向(A)安置在所述压力构件(5a)的上游。
17.根据前一权利要求所述的装置，其中，所述至少一个屏障件(72)邻近所述压力构件(5a)安置并且具有至少部分地定形状成与所述压力构件(5a)的外表面相对应的前轮廓。
18.根据权利要求9至17中的任一项所述的处理装置，其中，所述定位装置(73)包括发生器，所述发生器构造成：
-限定激活状态，在所述激活状态下，所述发生器向所述移位构件(76)的电磁体供应电流，使得所述电磁体产生能够将所述屏障件(72)吸引至所述移位构件自身的磁场，
-限定非激活状态，在所述非激活状态下，所述发生器不向电磁体提供任何电流，
其中，所述处理装置包括控制单元，所述控制单元在对所述定位装置(73)的命令中起作用，所述控制单元配置成命令所述定位装置(73)以使所述至少一个屏障件(72)沿着所述横向导引件(75)至少在拾取位置与操作位置之间移动，
所述至少一个屏障件(72)构造成在所述操作位置中将所述处理组合物(C)限制在所述沉积区域中，
其中，所述控制单元配置成使所述移位构件(76)至少在以下状态之间移动：
-第一操作状态，在所述第一操作状态中，所述移位构件(76)构造成接合处于所述拾取位置中的所述屏障件(72)，
-第二操作状态，在所述第二操作状态中，所述屏障件处于所述操作位置。
19.根据前一权利要求所述的处理装置，其中，所述控制单元在对与所述电磁体相关联的所述发生器的命令中起作用并且配置成：
-命令所述移位构件(76)移动至所述第一操作状态，
-命令所述电磁体处于所述激活状态，使得所述移位构件(76)能够接合所述屏障件(72)，
-命令所述移位构件移动至所述第二操作状态，使得所述移位构件能够将所述屏障件移动至所述操作位置。
20.根据前一权利要求所述的装置，其中，所述控制单元配置成在命令所述移位构件(76)移动至所述第二操作状态之后执行以下进一步的步骤：
-命令电磁体处于非激活状态，使得所述移位构件(76)与所述屏障件(72)断开接合，
-在使所述屏障件(72)断开接合之后，将所述移位构件从所述第二操作状态移动至远离静止状态，在所述远离静止状态中，所述移位构件(76)远离置于所述操作位置的所述屏障件。
21.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，其中，所述施加器(12)包括以下各者中的至少一者：
-至少一个喷洒式分配器(18)，
-至少一个滚筒，所述至少一个滚筒安置成使所述至少一个滚筒的旋转轴线横向于所述前进方向并且使所述至少一个滚筒的侧向表面能够远离所述输送器带，所述滚筒具有用于容纳预定量的所述处理组合物、特别地处理泡沫的中空内部，并且设置有预定数目的喷嘴或槽以便分配所述组合物、特别地分配泡沫，
-至少一个分配器(90)，所述至少一个分配器(90)包括：
ο至少一个贮存器(91)，所述至少一个贮存器(91)在所述至少一个贮存器内部限定有构造成使得能够接纳所述处理组合物(C)的隔室(92)，所述贮存器(91)包括至少一个入口(93)和至少一个出口(94)，所述至少一个入口(93)构造成使得能够将预定量的所述处理组合物(C)引入所述贮存器自身的所述隔室(92)中，所述至少一个出口(94)构造成使得能够将所述处理组合物(C)从所述贮存器自身排出，
ο至少一个推动器(95)，所述至少一个推动器(95)至少部分地接合在所述贮存器中并且构造成使得能够从所述贮存器的所述至少一个出口(94)分配所述处理组合物(C)。
22.根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置，包括承载所述约束装置(71)的至少一个运动装置(40)，所述运动装置(40)构造成使所述约束装置(71)沿着平行于所述前进方向(A)的方向移动。
23.根据前一权利要求所述的处理装置，其中，所述施加器(12)由所述运动装置(40)承载，所述运动装置(40)构造成使所述施加器(12)沿着平行于所述前进方向(A)的方向移动，可选地至少在所述片材(T)沿着所述操作部段(3)移动期间使所述施加器(12)沿着平行于所述前进方向(A)的方向移动。
24.根据权利要求22或23所述的处理装置，其中，所述运动装置(40)稳定地承载所述施加器(12)和所述至少一个屏障件(72)、可选地所述第一屏障件(72a)和所述第二屏障件(72)，所述运动装置(40)构造成使所述施加器(12)和所述至少一个屏障件(72)沿着平行于所述前进方向(A)的方向一体地移动。
25.一种片材(T)的数字打印设备(1)，所述打印设备包括：
-至少一个根据前述权利要求中的任一项所述的处理装置(70)，
-至少一个打印站(6)，所述至少一个打印站(6)构造成对放置在所述操作部段(3)上的所述片材(T)进行油墨打印。
26.一种使用根据权利要求1至24中的任一项所述的处理装置(70)对片材进行处理的处理方法，其中，所述处理方法包括以下步骤：
-使片材(T)沿着前进方向(A)移动，
-通过施加器分配处理组合物(C)，所述处理组合物(C)用于通过施加器(12)对所述片材(T)的至少一个侧面进行处理，
-通过约束装置(71)的至少一个屏障件(72)将所述处理组合物(C)限制在沉积区域内，从而防止所述处理组合物(C)根据横向于所述前进方向(A)的方向穿过所述屏障件(72)。
27.一种使用根据权利要求25所述的打印设备(1)进行的数字打印方法，所述打印方法包括通过数字打印站对放置在所述操作部段上的所述片材(T)进行油墨打印的步骤。
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