CN113564591B - 一种多孔气体分流板镀膜系统 - Google Patents

一种多孔气体分流板镀膜系统 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种多孔气体分流板镀膜系统，包括进样机构、镀膜机构和退火机构，进样机构能够将多孔气体分流板逐个输送至镀膜机构，镀膜机构对多孔气体分流板进行镀膜，退火机构对镀好膜的多孔气体分流板进行退火。由此，进样机构能够将多孔气体分流板连续的一个一个推送出去，进行进样，镀膜机构可以对多孔气体分流板进行均匀的镀膜，镀好膜的多孔气体分流板最后通过退火机构进行退火冷却，最终完成多孔气体分流板的镀膜。制备得到的多孔气体分流板可以广泛用于ALD,CVD,PECVD,MOCVD等半导体工艺设备中，不仅可以延长多孔气体分流板的使用寿命，而且可以改善所生长薄膜的质量，如均匀性，致密度等，降低制造商的生产成本。

Description

一种多孔气体分流板镀膜系统
技术领域
本发明涉及多孔气体分流板镀膜领域，尤其涉及一种多孔气体分流板镀膜系统。
背景技术
多孔气体分流板是可以广泛用于ALD, CVD, PECVD, MOCVD等半导体工艺设备中，对前驱体进行均匀分散的部件，由于多孔气体分流板要与不同的前驱体进行接触，因此需要提高防腐蚀等性能，延长使用寿命，现有的一般通过对多孔气体分流板进行镀膜，以提高防腐蚀性能，在镀膜时，通常将多孔气体分流板浸润在镀膜剂槽中，让镀膜剂覆盖在多孔气体分流板表面，实现镀膜，但是多孔气体分流板表面均布有较多的通气孔，在浸润镀膜时，由于镀膜剂较为浓稠，因为表面张力过大，镀膜剂难以对通气孔内壁进行均匀镀膜，而导致通气孔内抗腐蚀能力较弱，容易被腐蚀，导致通气孔尺寸变化，会使多孔气体分流板无法均匀分散前驱体。
发明内容
本发明的目的是在于提供一种多孔气体分流板镀膜系统，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
根据本发明的一个方面，提供一种多孔气体分流板镀膜系统，包括进样机构、镀膜机构和退火机构，进样机构能够将多孔气体分流板逐个输送至镀膜机构，镀膜机构对多孔气体分流板进行镀膜，退火机构对镀好膜的多孔气体分流板进行退火。
由此，进样机构能够将多孔气体分流板连续的一个一个推送出去，进行进样，镀膜机构可以对多孔气体分流板进行均匀的镀膜，镀好膜的多孔气体分流板最后通过退火机构进行退火冷却，最终完成多孔气体分流板的镀膜，制备得到的多孔气体分流板可以广泛用于ALD, CVD, PECVD, MOCVD等半导体工艺设备中，不仅可以延长孔气体分流板的使用寿命，而且可以改善所生长薄膜的质量，如均匀性，致密度等，进而降低制造商的生产成本。
在一些实施方式中：进样机构包括样盒、送样台和推送装置，样盒底部通过支撑脚设置于送样台，样盒底部设有出料口，出料口距离送样台台面的距离大于一块多孔气体分流板的厚度，且小于两块多孔气体分流板的厚度，推送装置将样盒内最下面一块多孔气体分流板推出。由此，样盒内可以储存较多的多孔气体分流板原料，推送装置将样盒内最下面一块多孔气体分流板推送到镀膜机构中，推送结束后，多孔气体分流板通过自身重力落下，原先最下面第二块落到最下面第一块的位置，如此反复，可以将样盒内的多孔气体分流板一个一个的进行送样，实现连续送样工作。
在一些实施方式中：推送装置包括电机、转盘、连杆和推送杆，电机驱动转盘旋转，连杆一端铰接转盘边缘处，另一端铰接推送杆一端，送样台设有滑槽，推送杆在滑槽内往复移动，推送杆的厚度小于等于一块多孔气体分流板的厚度。由此，电机驱动转盘旋转，转盘通过连杆带动推送杆前后往复移动，推送杆向前移动时将样盒内最下面一块多孔气体分流板推送出去，向后移动时，样盒内的多孔气体分流板向下落，实现将样盒内的多孔气体分流板一个一个的推送到镀膜机构。
在一些实施方式中：镀膜机构包括镀膜输送带、升降平台、主轴、镀头安装座、镀头、镀膜剂输送旋转接头和第一驱动电机,升降平台设置于镀膜输送带正上方，主轴和第一驱动电机设置于升降平台，第一驱动电机驱动主轴旋转，镀头安装座设置于主轴下端，镀头设置于镀头安装座，镀膜剂输送旋转接头设置于主轴，主轴内设有镀膜剂输送管，镀膜剂输送管上端与镀膜剂输送旋转接头连通，下端与镀头连通。由此，通过升降平台能够对镀头进行上下移动，第一驱动电机驱动主轴旋转，进而带动镀头旋转，能够对多孔气体分流板进行均匀镀膜，镀膜输送带用于输送多孔气体分流板，且输送至镀头下方时，暂时停止，进行镀膜，镀膜完成时，镀膜输送带继续前进，镀膜剂输送旋转接头可以将镀膜剂输送至镀头上。
在一些实施方式中：多孔气体分流板上沿径向均布有出气孔，镀头内设有与出气孔对应设置的活动镀头，还包括驱动装置，驱动装置驱动活动镀头从镀头内旋转伸出。由此，活动镀头能够对多孔气体分流板的出气孔内壁进行均匀镀膜。
在一些实施方式中：镀头安装座设有与活动镀头对应设置的活动块，活动镀头对应设置于活动块，镀头安装座内设有供活动块上下移动的活动槽，活动槽上下具有开口，活动槽上下开口对活动块进行限位，活动镀头能够从下开口伸出，活动槽上开口设有能够吸住活动块的第一磁铁。由此，活动块能够带动活动镀头活动，使活动镀头从镀头内伸出，进入多孔气体分流板的出气孔内进行镀膜。
在一些实施方式中：驱动装置包括驱动平台、驱动杆组件、第二驱动电机，驱动杆组件为多个，与活动块对应设置，第二驱动电机设置于驱动平台，第二驱动电机驱动驱动杆组件，驱动杆组件包括驱动齿轮、升降杆、转杆和导向管，驱动齿轮可转动设置于驱动平台，在驱动平台上同一半径的驱动齿轮之间相互啮合，第二驱动电机驱动驱动齿轮转动，驱动齿轮中心设有螺纹孔，驱动平台设有与螺纹孔对应设置的穿孔，升降杆穿设于螺纹孔，并穿过驱动平台穿孔，升降杆设有与螺纹孔配合的螺纹，导向管设置于驱动平台下方，且对应驱动平台穿孔设置，升降杆下部伸入导向管内，转杆上端设置于升降杆下端，转杆相对于升降杆可转动设置，转杆上部位于导向管内，导向管内设有竖直导向块和螺纹导向槽，竖直导向块位于螺纹导向槽上方，升降杆下部侧面设有与竖直导向块配合的竖直导向槽，转杆上部侧面设有与螺纹导向槽配合的滑块；转杆下端设有第二磁铁，第二磁铁能够吸住活动块，转杆下端与第二磁铁之间设有缓冲橡胶垫。由此，第二驱动电机驱动驱动齿轮转动，驱动齿轮通过螺纹孔和螺纹配合，驱动升降杆上下移动，竖直导向块和竖直导向槽对升降杆起导向作用，升降杆带动转杆上下移动，通过滑块与螺纹导向槽的配合，转杆在上下移动的同时旋转，转杆通过第二磁铁与活动块之间形成可拆卸的固定连接，进而带动活动镀头在上下移动的过程中旋转，活动镀头能够对多孔气体分流板的出气孔进行均匀镀膜。
在一些实施方式中：镀头和活动镀头材质相同，均为海绵橡胶材质。由此，能够对多孔气体分流板进行均匀镀膜。
在一些实施方式中：退火机构包括退火输送带、退火通道、加热装置和热风风扇，退火输送带设置于退火通道内，退火输送带一端靠近镀膜机构设置，加热装置包括进风通道和加热陶瓷片，进风通道设置于退火通道内，加热陶瓷片设置于进风通道内，热风风扇设置于进风通道的出风口。由此，热风风机将经过加热陶瓷片加热的热空气送入到退火通道内，对镀好膜的载波片进行烘干。
在一些实施方式中：还包括散热通道、散热输送带、冷风风扇和散热风扇，散热通道与退火通道连通，散热输送带设置于散热通道内，散热输送带与退火输送带连接，冷风风扇设置于散热通道底部，且位于散热输送带下方，冷风风扇将冷风吹入散热通道内，散热风扇设置于散热通道顶部，将散热通道内的热量排出。由此，通过冷风风扇将冷空气从散热输送带底部送入，能够将温度较高的多孔气体分流板进行冷却，方便包装，散热风扇将与多孔气体分流板换热后的空气排出，提高冷却效果。
附图说明
图1是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的结构示意图。
图2是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的样盒的结构示意图；
图3是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的镀膜机构的结构示意图；
图4是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的镀膜机构活动块的结构示意图；
图5是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的镀膜驱动装置的结构示意图；
图6是本发明一种多孔气体分流板镀膜系统的驱动杆组件的结构示意图；
具体实施方式
下面结合附图说明，对本发明作进一步详细说明。
如图1-6所示，一种多孔气体分流板镀膜系统，包括进样机构1、镀膜机构2和退火机构3，进样机构1能够将多孔气体分流板逐个输送至镀膜机构2，镀膜机构2对多孔气体分流板进行镀膜，退火机构3对镀好膜的多孔气体分流板进行退火。
其中，进样机构1包括样盒101、送样台102和推送装置103，样盒101底部四个角处通过支撑脚104固定安装于送样台102上面，样盒101底部开设有出料口105，出料口105距离送样台102台面的距离大于一块多孔气体分流板的厚度，且小于两块多孔气体分流板的厚度，推送装置103将样盒101内最下面一块多孔气体分流板推出。
由此，样盒内可以储存较多的多孔气体分流板原料，推送装置将样盒内最下面一块多孔气体分流板推送到镀膜机构中，推送结束后，多孔气体分流板通过自身重力落下，原先最下面第二块落到最下面第一块的位置，如此反复，可以将样盒内的多孔气体分流板一个一个的进行送样，实现连续送样工作。
推送装置103包括电机106、转盘107、连杆108和推送杆109，电机106可以通过齿轮或皮带驱动转盘107旋转，连杆108一端铰接转盘107边缘处，另一端铰接推送杆109一端，送样台102开设有滑槽推送杆109滑动设置于滑槽内，推送杆109在滑槽内往复移动，推送杆109的厚度小于等于一块多孔气体分流板的厚度。
由此，电机驱动转盘旋转，转盘通过连杆带动推送杆前后往复移动，推送杆向前移动时将样盒内最下面一块多孔气体分流板推送出去，向后移动时，样盒内的多孔气体分流板向下落，实现将样盒内的多孔气体分流板一个一个的推送到镀膜机构。
镀膜机构2包括镀膜输送带201、升降平台202、主轴203、镀头安装座204、镀头205、镀膜剂输送旋转接头206和第一驱动电机207,升降平台202设置于镀膜输送带201正上方，主轴203和第一驱动电机207设置于升降平台202，第一驱动电机207驱动主轴203旋转，镀头安装座204设置于主轴203下端，镀头205设置于镀头安装座204，镀膜剂输送旋转接头206设置于主轴203，主轴203内设有镀膜剂输送管208，镀膜剂输送管208上端与镀膜剂输送旋转接头206连通，下端与镀头205连通。由此，通过升降平台能够对镀头进行上下移动，第一驱动电机驱动主轴旋转，进而带动镀头旋转，能够对多孔气体分流板进行均匀镀膜，镀膜输送带用于输送多孔气体分流板，且输送至镀头下方时，暂时停止，进行镀膜，镀膜完成时，镀膜输送带继续前进，镀膜剂输送旋转接头可以将镀膜剂输送至镀头上。
多孔气体分流板上沿径向均布有出气孔，镀头205内设有与出气孔对应设置的活动镀头209，还包括驱动装置，驱动装置驱动活动镀头209从镀头205内旋转伸出。由此，活动镀头能够对多孔气体分流板的出气孔内壁进行均匀镀膜。
镀头安装座204设有与活动镀头209对应设置的活动块210，活动镀头209对应设置于活动块210，镀头安装座204内设有供活动块210上下移动的活动槽211，活动槽211上下具有开口，活动槽211上下开口对活动块210进行限位，活动镀头209能够从下开口伸出，活动槽211上开口设有能够吸住活动块210的第一磁铁212。由此，活动块能够带动活动镀头活动，使活动镀头从镀头内伸出，进入多孔气体分流板的出气孔内进行镀膜。
驱动装置包括驱动平台213、驱动杆组件227、第二驱动电机214，驱动杆组件227为多个，与活动块210对应设置，第二驱动电机214设置于驱动平台213，第二驱动电机214驱动驱动杆组件227，驱动杆组件227包括驱动齿轮215、升降杆216、转杆217和导向管218，驱动齿轮215可转动设置于驱动平台213，在驱动平台213上同一半径的驱动齿轮215之间相互啮合，第二驱动电机214驱动驱动齿轮215转动，在本实施例中，第二驱动电机214输出端键连接有主动齿轮228，驱动平台213通过轴承可转动设置于传动齿轮229，传动齿轮229内圈和外圈均设有齿口，传动齿轮229内圈齿口与驱动齿轮215啮合，传动齿轮229外圈齿口与主动齿轮228啮合，驱动齿轮215中心设有螺纹孔219，驱动平台213设有与螺纹孔219对应设置的穿孔，升降杆216穿设于螺纹孔219，并穿过驱动平台213穿孔，升降杆216设有与螺纹孔219配合的螺纹220，导向管218设置于驱动平台213下方，且对应驱动平台213穿孔设置，升降杆216下部伸入导向管218内，转杆217上端设置于升降杆216下端，转杆217相对于升降杆216可转动设置，转杆217上部位于导向管218内，导向管218内设有竖直导向块221和螺纹导向槽222，竖直导向块221位于螺纹导向槽222上方，升降杆216下部侧面设有与竖直导向块221配合的竖直导向槽223，转杆217上部侧面设有与螺纹导向槽222配合的滑块224；转杆217下端设有第二磁铁225，第二磁铁225能够吸住活动块210，转杆217下端与第二磁铁225之间设有缓冲橡胶垫226。由此，第二驱动电机驱动驱动齿轮转动，驱动齿轮通过螺纹孔和螺纹配合，驱动升降杆上下移动，竖直导向块和竖直导向槽对升降杆起导向作用，升降杆带动转杆上下移动，通过滑块与螺纹导向槽的配合，转杆在上下移动的同时旋转，转杆通过第二磁铁与活动块之间形成可拆卸的固定连接，进而带动活动镀头在上下移动的过程中旋转，活动镀头能够对多孔气体分流板的出气孔进行均匀镀膜。
镀头205和活动镀头209材质相同，均为海绵橡胶材质。由此，能够对多孔气体分流板进行均匀镀膜。
此外，退火机构3包括退火输送带301、退火通道302、加热装置和热风风扇303，退火输送带301固定安装于退火通道302内，退火输送带301一端靠近镀膜机构2的镀膜输送带201设置，镀膜输送带201和退火输送带301可以为同一个输送带，其之间无缝连接。加热装置包括进风通道304和加热陶瓷片305，进风通道304设置于退火通道302内顶部，加热陶瓷片305固定安装于进风通道304内，热风风扇303固定安装于进风通道304的出风口。由此，热风风机将经过加热陶瓷片加热的热空气送入到退火通道内，对镀好膜的载波片进行烘干。
此外，还可以包括散热通道306、散热输送带307、冷风风扇308和散热风扇309，散热通道306与退火通道302的退火输送带301连通，退火输送带301和散热输送带307可以为同一个输送带，其之间无缝连接，散热输送带307固定安装于散热通道306内，冷风风扇308开设于散热通道306底部，且位于散热输送带307下方，冷风风扇308将冷风吹入散热通道306内，散热风扇309设置于散热通道306顶部，将散热通道306内的热量排出。由此，通过冷风风扇将冷空气从散热输送带底部送入，能够将温度较高的多孔气体分流板进行冷却，方便包装，散热风扇将与多孔气体分流板换热后的空气排出，提高冷却效果。
综上所述，进样机构能够将多孔气体分流板连续的一个一个推送出去，进行进样，镀膜机构可以对多孔气体分流板进行均匀的镀膜，镀好膜的多孔气体分流板最后通过退火机构进行退火冷却，最终完成多孔气体分流板的镀膜，制备得到的多孔气体分流板可以广泛用于ALD, CVD, PECVD, MOCVD等半导体工艺设备中，不仅可以延长孔气体分流板的使用寿命，而且可以改善所生长薄膜的质量，如均匀性，致密度等，进而降低制造商的生产成本。
以上所述仅是本发明的一种实施方式，应当指出，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干相似的变形和改进，这些也应视为本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：包括进样机构（1）、镀膜机构（2）和退火机构（3），所述进样机构（1）能够将多孔气体分流板逐个输送至所述镀膜机构（2），所述镀膜机构（2）对所述多孔气体分流板进行镀膜，所述退火机构（3）对镀好膜的多孔气体分流板进行退火；所述镀膜机构（2）包括镀膜输送带（201）、升降平台（202）、主轴（203）、镀头安装座（204）、镀头（205）、镀膜剂输送旋转接头（206）和第一驱动电机（207）,所述升降平台（202）设置于所述镀膜输送带（201）正上方，所述主轴（203）和第一驱动电机（207）设置于所述升降平台（202），所述第一驱动电机（207）驱动所述主轴（203）旋转，所述镀头安装座（204）设置于所述主轴（203）下端，所述镀头（205）设置于所述镀头安装座（204），所述镀膜剂输送旋转接头（206）设置于所述主轴（203），所述主轴（203）内设有镀膜剂输送管（208），所述镀膜剂输送管（208）上端与所述镀膜剂输送旋转接头（206）连通，下端与所述镀头（205）连通；所述多孔气体分流板上沿径向均布有出气孔，所述镀头（205）内设有与所述出气孔对应设置的活动镀头（209），还包括驱动装置，所述驱动装置驱动所述活动镀头（209）从所述镀头（205）内旋转伸出。
2.根据权利要求1所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述进样机构（1）包括样盒（101）、送样台（102）和推送装置（103），所述样盒（101）底部通过支撑脚（104）设置于所述送样台（102），所述样盒（101）底部设有出料口（105），所述出料口（105）距离所述送样台（102）台面的距离大于一块多孔气体分流板的厚度，且小于两块多孔气体分流板的厚度，所述推送装置（103）将所述样盒（101）内最下面一块多孔气体分流板推出。
3.根据权利要求2所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述推送装置（103）包括电机（106）、转盘（107）、连杆（108）和推送杆（109），所述电机（106）驱动所述转盘（107）旋转，所述连杆（108）一端铰接所述转盘（107）边缘处，另一端铰接所述推送杆（109）一端，所述送样台（102）设有滑槽，所述推送杆（109）在所述滑槽内往复移动，所述推送杆（109）的厚度小于等于一块多孔气体分流板的厚度。
4.根据权利要求1所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述镀头安装座（204）设有与所述活动镀头（209）对应设置的活动块（210），所述活动镀头（209）对应设置于所述活动块（210），所述镀头安装座（204）内设有供所述活动块（210）上下移动的活动槽（211），所述活动槽（211）上下具有开口，所述活动槽（211）上下开口对所述活动块（210）进行限位，所述活动镀头（209）能够从所述下开口伸出，所述活动槽（211）上开口设有能够吸住所述活动块（210）的第一磁铁（212）。
5.根据权利要求4所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述驱动装置包括驱动平台（213）、驱动杆组件（227）、第二驱动电机（214），所述驱动杆组件（227）为多个，与所述活动块（210）对应设置，所述第二驱动电机（214）设置于所述驱动平台（213），第二驱动电机（214）驱动所述驱动杆组件（227），所述驱动杆组件（227）包括驱动齿轮（215）、升降杆（216）、转杆（217）和导向管（218），所述驱动齿轮（215）可转动设置于所述驱动平台（213），在驱动平台（213）上同一半径的所述驱动齿轮（215）之间相互啮合，所述第二驱动电机（214）驱动所述驱动齿轮（215）转动，所述驱动齿轮（215）中心设有螺纹孔（219），所述驱动平台（213）设有与所述螺纹孔（219）对应设置的穿孔，所述升降杆（216）穿设于所述螺纹孔（219），并穿过所述驱动平台（213）穿孔，所述升降杆（216）设有与所述螺纹孔（219）配合的螺纹（220），所述导向管（218）设置于所述驱动平台（213）下方，且对应所述驱动平台（213）穿孔设置，所述升降杆（216）下部伸入所述导向管（218）内，所述转杆（217）上端设置于所述升降杆（216）下端，所述转杆（217）相对于所述升降杆（216）可转动设置，所述转杆（217）上部位于所述导向管（218）内，所述导向管（218）内设有竖直导向块（221）和螺纹导向槽（222），所述竖直导向块（221）位于所述螺纹导向槽（222）上方，所述升降杆（216）下部侧面设有与所述竖直导向块（221）配合的竖直导向槽（223），所述转杆（217）上部侧面设有与所述螺纹导向槽（222）配合的滑块（224）；所述转杆（217）下端设有第二磁铁（225），所述第二磁铁（225）能够吸住所述活动块（210），所述转杆（217）下端与所述第二磁铁（225）之间设有缓冲橡胶垫（226）。
6.根据权利要求1所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述镀头（205）和活动镀头（209）材质相同，均为海绵橡胶材质。
7.根据权利要求1所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：所述退火机构（3）包括退火输送带（301）、退火通道（302）、加热装置和热风风扇（303），所述退火输送带（301）设置于所述退火通道（302）内，所述退火输送带（301）一端靠近所述镀膜机构（2）设置，所述加热装置包括进风通道（304）和加热陶瓷片（305），所述进风通道（304）设置于所述退火通道（302）内，所述加热陶瓷片（305）设置于所述进风通道（304）内，所述热风风扇（303）设置于所述进风通道（304）的出风口。
8.根据权利要求7所述的一种多孔气体分流板镀膜系统，其特征在于：还包括散热通道（306）、散热输送带（307）、冷风风扇（308）和散热风扇（309），所述散热通道（306）与所述退火通道（302）连通，所述散热输送带（307）设置于所述散热通道（306）内，所述散热输送带（307）与所述退火输送带（301）连接，所述冷风风扇（308）设置于所述散热通道（306）底部，且位于所述散热输送带（307）下方，所述冷风风扇（308）将冷风吹入所述散热通道（306）内，所述散热风扇（309）设置于所述散热通道（306）顶部，将所述散热通道（306）内的热量排出。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102978591A (zh) * 2012-12-14 2013-03-20 中国建筑材料科学研究总院 多孔陶瓷管的内外壁压差化学镀设备及其镀膜方法
CN105233883A (zh) * 2015-09-16 2016-01-13 河海大学 用于多孔陶瓷材料表面负载光催化膜真空镀膜装置及方法
JP2017043110A (ja) * 2015-08-24 2017-03-02 株式会社豊田中央研究所 機能性成分搬送装置
CN213507191U (zh) * 2020-08-17 2021-06-22 福建华佳彩有限公司 一种基板镀膜装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080148595A1 (en) * 2006-12-20 2008-06-26 Lam Research Corporation Method and apparatus for drying substrates using a surface tensions reducing gas
US10526703B2 (en) * 2018-03-15 2020-01-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Film formation apparatus for forming semiconductor structure having shower head with plural hole patterns and with corresponding different plural hole densities

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102978591A (zh) * 2012-12-14 2013-03-20 中国建筑材料科学研究总院 多孔陶瓷管的内外壁压差化学镀设备及其镀膜方法
JP2017043110A (ja) * 2015-08-24 2017-03-02 株式会社豊田中央研究所 機能性成分搬送装置
CN105233883A (zh) * 2015-09-16 2016-01-13 河海大学 用于多孔陶瓷材料表面负载光催化膜真空镀膜装置及方法
CN213507191U (zh) * 2020-08-17 2021-06-22 福建华佳彩有限公司 一种基板镀膜装置

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