CN113495644A - 显示装置 - Google Patents

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CN113495644A
CN113495644A CN202110256993.9A CN202110256993A CN113495644A CN 113495644 A CN113495644 A CN 113495644A CN 202110256993 A CN202110256993 A CN 202110256993A CN 113495644 A CN113495644 A CN 113495644A
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金泰翼
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Abstract

在此提供了一种显示装置，所述显示装置包括：基体层，具有非感测区域和被构造为围绕非感测区域的感测区域；触摸传感器，设置在基体层的感测区域中；光学结构，设置在基体层上；以及偏振层，设置在触摸传感器上以与感测区域叠置。触摸传感器和光学结构包括定位于非感测区域中的第一通孔，并且非感测区域包括与第一通孔对应的第一区域和被构造为围绕第一区域的第二区域。光学结构设置在第二区域中，并且包括包含多个开口的光学图案。

Description

显示装置
本申请要求于2020年3月19日提交的第10-2020-0034002号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请出于所有目的通过引用包含于此，如同在此充分地阐述一样。
技术领域
发明的示例性实施例/实施方式总体上涉及一种显示装置。
背景技术
显示装置可以包括显示面板和设置为与显示面板叠置的触摸传感器。例如，可以将触摸传感器附着到显示面板的一个表面，或者可以使用被制作为与显示面板一体的触摸传感器。目前，正在研究将传感器模块(包括相机装置等)设置在显示区域中的技术，以便使非显示区域(诸如显示装置的边框等)最小化。
发明内容
发明构思的各种实施例涉及一种能够减小入射到触摸传感器的孔的外围的光的反射率的显示装置。
将在以下的描述中阐述发明构思的附加特征，并且部分地将通过描述而明显，或者可以通过发明构思的实践而获知。
发明构思的实施例可以提供一种显示装置。显示装置可以包括：基体层，包括非感测区域和被构造为围绕非感测区域的感测区域；触摸传感器，设置在基体层的感测区域中；光学结构，设置在基体层上；以及偏振层，设置在触摸传感器上以与感测区域叠置。触摸传感器和光学结构可以限定定位于非感测区域中的第一通孔，并且非感测区域可以包括与第一通孔对应的第一区域和被构造为围绕第一区域的第二区域。光学结构可以包括设置在第二区域中并且包括多个开口的光学图案。
在实施例中，触摸传感器可以包括：第一电极层，设置在基体层的感测区域中；第一绝缘层，设置在基体层的感测区域的一部分和第一电极层上；第二电极层，设置在第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在第一绝缘层和第二电极层上。在第一感测电极之中，彼此相邻的第一感测电极可以通过穿透第一绝缘层并且连接到第一电极层而彼此结合，并且光学图案可以与第二电极层设置在同一层上。
在实施例中，光学结构还可以包括设置在基体层的第二区域中的第三绝缘层。第一绝缘层和第三绝缘层可以形成为单个主体，并且光学图案可以设置在第三绝缘层上。
在实施例中，光学结构还可以包括被构造为覆盖光学图案的第四绝缘层。第二绝缘层和第四绝缘层可以形成为单个主体，并且第四绝缘层的折射率可以低于光学图案的折射率。
在实施例中，第二电极层和光学图案可以包括相同的金属材料。
在实施例中，光学结构还可以包括设置在基体层的第二区域中的金属层和被构造为覆盖金属层的第三绝缘层。第一绝缘层和第三绝缘层可以形成为单个主体，并且金属层可以与第一电极层设置在同一层上。
在实施例中，光学结构还可以包括被构造为覆盖光学图案的第四绝缘层。第二绝缘层和第四绝缘层可以形成为单个主体。
在实施例中，光学结构还可以包括：第一金属氧化物膜，设置在基体层与金属层之间；以及第二金属氧化物膜，设置在金属层与第三绝缘层之间。
在实施例中，第一电极层和金属层可以包括相同的金属材料。
在实施例中，第一金属氧化物膜、第二金属氧化物膜和金属层可以包括相同的金属材料。
在实施例中，触摸传感器可以包括：第一电极层，设置在基体层的感测区域中；第一绝缘层，设置在基体层的感测区域的一部分和第一电极层上；第二电极层，设置在第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在第一绝缘层和第二电极层上。在第一感测电极之中，彼此相邻的第一感测电极可以通过穿透第一绝缘层并且连接到第一电极层而彼此结合，并且光学图案可以与第二绝缘层形成在同一层上。
在实施例中，光学结构还可以包括设置在基体层的第二区域中的金属层和被构造为覆盖金属层的盖层。金属层可以与第一电极层设置在同一层上，盖层可以与第二电极层设置在同一层上，光学图案可以设置在盖层上，并且第二绝缘层和光学图案可以包括相同的材料。
在实施例中，显示装置还可以包括：窗层，设置在偏振层和触摸传感器上；以及粘合层，被构造为在感测区域中将偏振层接合到窗层并且在非感测区域中将光学结构接合到窗层。
在实施例中，粘合层可以覆盖光学图案，并且粘合层的折射率可以低于光学图案的折射率。
在实施例中，显示装置还可以包括：窗层，设置在偏振层上以与感测区域叠置；以及粘合层，被构造为将偏振层接合到窗层。光学图案的至少一部分可以暴露于外部。
在实施例中，显示装置还可以包括基底、显示元件层和传感器模块，基底包括与非感测区域对应的非显示区域和与感测区域对应的显示区域，显示元件层设置在基底的第一表面与基体层之间并且被构造为限定与第一通孔对应的第二通孔，传感器模块设置在面对基底的第一表面的第二表面上以与第一区域的至少一部分对应。
发明构思的实施例可以提供一种显示装置。显示装置可以包括：基体层，包括非感测区域和被构造为围绕非感测区域的感测区域；触摸传感器，设置在基体层的感测区域中；光学结构，设置在基体层上；以及偏振层，设置在触摸传感器上以与感测区域叠置。触摸传感器和光学结构可以限定定位于非感测区域中的第一通孔，并且非感测区域可以包括与第一通孔对应的第一区域和被构造为围绕第一区域的第二区域。光学结构可以包括：第一金属氧化物膜，设置在基体层的第二区域中；金属层，设置在第一金属氧化物膜上；以及第二金属氧化物膜，设置在金属层上。
在实施例中，触摸传感器可以包括：第一电极层，设置在基体层的感测区域中；第一绝缘层，设置在基体层的感测区域的一部分和第一电极层上；第二电极层，设置在第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在第一绝缘层和第二电极层上。在第一感测电极之中，彼此相邻的第一感测电极可以通过穿透第一绝缘层并且连接到第一电极层而彼此结合，并且金属层、第一金属氧化物膜和第二金属氧化物膜可以与第一电极层设置在同一层上。
在实施例中，光学结构还可以包括设置在基体层的第二区域中的第三绝缘层。第一绝缘层和第三绝缘层可以形成为单个主体，并且第三绝缘层可以覆盖第二金属氧化物膜。
在实施例中，金属层、第一金属氧化物膜、第二金属氧化物膜和第一电极层可以包括相同的金属材料。
将理解的是，前面的一般描述和以下的详细描述都是示例性的和说明性的，并旨在提供对所要求保护的发明的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供发明的进一步理解，附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了发明的示例性实施例，并和描述一起用于解释发明构思。
图1是示出根据发明构思的实施例的显示装置的透视图。
图2是示出图1的显示装置的示例的俯视图。
图3是示出包括在图2的显示装置中的显示面板的俯视图。
图4是示出包括在图2的显示装置中的触摸传感器、光学结构和基体层的俯视图。
图5是示意性地示出沿着图2的显示装置中的线I-I’截取的一部分的示例的剖视图。
图6是示意性地示出沿着图2的显示装置中的线I-I’截取的一部分的另一示例的剖视图。
图7是示出图2的显示装置的第二非显示区域的示例的放大图。
图8是示出图4的触摸传感器、光学结构和基体层的放大区域EA部分的示例的放大图。
图9A至图9E是示意性地示出沿着线II-II’截取的图8的放大区域EA部分的示例的剖视图。
图10是示出图4的触摸传感器、光学结构和基体层的放大区域EA部分的另一示例的放大图。
图11是示意性地示出沿着线III-III’截取的图10的放大区域EA部分的示例的剖视图。
具体实施方式
在以下描述中，出于解释的目的，阐述了许多特定细节以便提供对发明的各种示例性实施例或实施方式的透彻理解。如在此所使用的，“实施例”和“实施方式”是可互换的词语，其是采用在此所公开的发明构思中的一个或更多个的装置或方法的非限制性示例。然而，明显的是，可以在没有这些特定细节或具有一个或更多个等同布置的情况下实践各种示例性实施例。在其它实例中，以框图形式示出了公知的结构和装置，以避免不必要地模糊的各种示例性实施例。此外，各种示例性实施例可以是不同的，但不必是排它性的。例如，在不脱离发明构思的情况下，示例性实施例的特定形状、构造和特性可以在另一示例性实施例中使用或实现。
除非另外说明，否则所示出的示例性实施例将理解为提供可以以其在实践中实现发明构思的一些方式的变化细节的示例性特征。因此，在不脱离发明构思的情况下，除非另外说明，否则各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，被单独地或统称为“元件”)可以另外组合、分离、互换和/或重新布置。
附图中的交叉影线和/或阴影的使用通常被提供以阐明相邻元件之间的边界。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或指示对元件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、所示出的元件之间的共性和/或任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或需求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实现示例性实施例时，可以与所描述的顺序不同地执行特定工艺顺序。例如，可以基本上同时执行或以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。另外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到或直接结合到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。为此，术语“连接”可以指具有或不具有中间元件的物理连接、电连接和/或流体连接。此外，DR1轴、DR2轴和DR3轴不限于直角坐标系的三个轴(诸如x轴、y轴和z轴)，并且可以在更广泛的含义上解释。例如，DR1轴、DR2轴和DR3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个(种/者)”和“选自由X、Y和Z组成的组中的至少一个(种/者)”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z或X、Y和Z中的两个或更多个的任何组合，诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。
尽管术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种类型的元件，但是这些元件不应该受这些术语限制。这些术语用于将一个元件与另一个元件区分开。因此，在不脱离公开的教导的情况下，下面所讨论的第一元件可以被称为第二元件。
诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高”、“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语可以在此用于描述性目的，并且由此描述如附图中所示出的一个元件与另一(另一些)元件的关系。空间相对术语旨在包含除了附图中所描绘的方位之外设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件将随后被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含上方和下方的两种方位。此外，设备可以另外定位(例如，旋转90度或在其它方位处)，并且如此，在此所使用的空间相对描述语被相应地解释。
在此所使用的术语是出于描述具体实施例的目的，并且不旨在成为限制。如在此所使用的，除非上下文另外清楚地指示，否则单数形式“一个(种/者)”和“该(所述)”也旨在包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”及其变型、“包括”和/或其变型时，所述术语说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或添加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。还注意的是，如在此所使用的，术语“基本上”、“约”和其它类似术语用作近似术语而不是程度术语，并且如此用于解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。
在此参照作为理想化示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖面图和/或分解图来描述各种示例性实施例。如此，将预期由例如制造技术和/或公差引起的图的形状的变化。因此，在此所公开的示例性实施例不应该必然被解释为限于区域的具体示出的形状，而是包括由例如制造引起的形状的偏差。以这种方式，附图中所示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，并且如此不必旨在成为限制。
除非另外定义，否则在此所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。术语(诸如在常用词典中定义的术语)应该被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且不应该以理想化或过于形式化的含义来解释，除非在此明确地如此定义。
图1是示出根据发明构思的实施例的显示装置的透视图，图2是示出图1的显示装置的示例的俯视图。
参照图1和图2，显示装置DD可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。
显示区域DA被限定为其中显示图像的区域。显示装置DD可以包括显示面板，并且显示面板可以包括在显示区域DA中的多个像素。
显示装置DD可以通过显示区域DA(或前显示表面)显示图像。显示区域DA可以平行于由第一方向轴(即，沿第一方向DR1延伸的轴)和第二方向轴(即，沿第二方向DR2延伸的轴)限定的表面。显示表面的法线方向(即，显示装置DD的厚度方向)可以被限定为第三方向DR3。
可以基于第三方向DR3识别将在下面描述的显示装置DD的各个构件或单元中的每个的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)。然而，在本实施例中示出的第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3仅是示例。第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3是相对概念，并且可以改变为其它方向。在下文中，将由相同的附图标记表示第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3。
在实施例中，显示装置DD可以包括平面的显示区域DA，但不限于此。例如，显示装置DD可以包括弯曲的显示区域或立体的显示区域。
另外，显示区域DA不仅用作显示图像的区域而且用作被构造为识别由用户输入的触摸的区域(即，感测区域SA)。为此，显示装置DD可以包括触摸传感器。
在此，感测区域SA与显示区域DA对应，并且可以与显示区域DA的至少一部分叠置。
非显示区域NDA被限定为其中不显示图像的区域。非显示区域NDA可以包括被构造为围绕显示区域DA的外部的第一非显示区域NDA1和设置在显示区域DA中的第二非显示区域NDA2。
在实施例中，其中由用户输入的触摸未被识别的区域(即，非感测区域NSA)与非显示区域NDA对应，并且可以与非显示区域NDA叠置。另外，非感测区域NSA可以包括第一非感测区域NSA1和第二非感测区域NSA2。第一非感测区域NSA1可以与第一非显示区域NDA1对应，第二非感测区域NSA2可以与第二非显示区域NDA2对应。
第一非显示区域NDA1可以定位于显示区域DA外部。然而，不限于此，显示区域DA的形状和第一非显示区域NDA1的形状可以被设计为彼此相对。
在实施例中，显示装置DD可以包括形成为被显示区域DA围绕的第二非显示区域NDA2。即，第二非显示区域NDA2可以定位于显示区域DA内部。第二非显示区域NDA2包括孔AH，并且被限定为其中不显示图像的区域。
在实施例中，第二非显示区域NDA2可以包括与孔AH对应的第一区域HA1和被构造为围绕第一区域HA1的第二区域HA2。
在实施例中，光学图案可以设置在第二区域HA2的至少一部分中。光学图案包括在光学结构中，并且可以包括多个开口。稍后将参照图7至图9E描述光学图案。
孔AH可以在平坦表面上具有圆形形状。然而，不限于此，孔AH可以具有各种形状中的任何形状。例如，孔AH可以具有包括平坦矩形的多边形形状或不规则形状。
孔AH可以包括第一通孔和第二通孔。在此，第一通孔可以是孔AH的与触摸传感器对应的部分，第二通孔可以是孔AH的与显示面板对应的部分。
传感器模块可以设置在显示装置DD的下侧处(例如，在面对显示面板的前表面的后表面上)，以便对应于孔AH。即，传感器模块可以设置为从显示装置DD的下侧与孔AH叠置。在实施例中，传感器模块可以包括图像传感器(或相机)、照明传感器、近距离传感器、红外传感器和超声传感器中的至少一个。
在本说明书中，除非术语“叠置”被不同地限定，否则术语“叠置”指示两个组件均具有沿当从显示装置DD的厚度方向(即，第三方向DR3)观看时的方向的部分。
如上面参照图1和图2描述的，显示装置DD包括形成在第二非显示区域NDA2(或第二非感测区域NSA2)中的孔AH，包括相机等的传感器模块设置为与孔AH叠置。因此，与其中传感器模块仅设置在显示区域DA的一侧处(例如，第一非显示区域NDA1)的另一显示装置相比，显示装置DD可以具有最小化的无效区。
图3是示出包括在图2的显示装置中的显示面板的俯视图。
参照图1至图3，显示面板DP可以包括基底SUB、像素PX、扫描线SL、数据线DL、电力线PL、扫描控制线SCL、扫描驱动器420、显示驱动电路410、显示电极垫(“pad”，又被称为“焊盘”或“焊垫”)EP、数据结合线DLL和垫结合线PLL。另外，显示面板DP可以限定第二通孔TH2。
在此，第二通孔TH2可以是参照图1和图2描述的孔AH的与显示面板DP对应的部分。第二通孔TH2可以形成为与第二非显示区域NDA2的第一区域HA1对应。
显示面板DP可以包括显示区域DA、第一非显示区域NDA1和第二非显示区域NDA2。像素PX可以设置在显示区域DA中。
显示面板DP可以包括扫描线SL、数据线DL、电力线PL和像素PX。
在实施例中，扫描线SL可以沿第二方向DR2延伸，并且数据线DL可以沿第一方向DR1延伸。电力线PL可以包括沿第一方向DR1延伸的至少一条线和从所述至少一条线分支并沿第二方向DR2延伸的多条线。
像素PX中的每个可以结合到扫描线SL中的至少一条、数据线DL中的任何一条和电力线PL。像素PX中的每个可以包括驱动晶体管、至少一个开关晶体管、发光元件、电容器等。
在实施例中，显示面板DP还可以包括显示驱动电路410、扫描驱动器420、扫描控制线SCL、数据结合线DLL和垫结合线PLL。显示驱动电路410、扫描驱动器420、扫描控制线SCL、数据结合线DLL和垫结合线PLL可以设置在第一非显示区域NDA1中。
尽管在图3中扫描驱动器420示出为设置在显示区域DA的一侧外部的第一非显示区域NDA1中，但是其设置不限于此。例如，扫描驱动器420可以设置在显示区域DA的相对侧外部的第一非显示区域NDA1中。
显示驱动电路410可以通过垫结合线PLL结合到显示垫区域EPA的显示电极垫EP。显示驱动电路410可以通过数据结合线DLL向数据线DL供应数据信号。另外，显示驱动电路410可以产生被构造为控制扫描驱动器420的扫描控制信号，并通过扫描控制线SCL将扫描控制信号供应到扫描驱动器420。
在实施例中，显示驱动电路410形成为集成电路(IC)，从而使用玻璃上芯片(COG)方法、塑料上芯片(COP)方法、超声接合方法等接合到基底SUB。
图4是示出包括在图2的显示装置中的触摸传感器、光学结构和基体层的俯视图。
参照图2至图4，触摸传感器TS可以设置在显示面板DP上(即，在显示面板DP的前表面上)。然而，不限于此，触摸传感器TS和显示面板DP可以被制作为单个主体。
触摸传感器TS可以设置在基体层BSL的感测区域SA中。触摸传感器TS可以包括感测电极SE、信号线CL和触摸电极垫TP。另外，触摸传感器TS和光学结构OS可以限定第一通孔TH1。
在此，第一通孔TH1可以是参照图1和图2描述的孔AH的与触摸传感器TS对应的部分。第一通孔TH1可以形成为与第二非感测区域NSA2的第一区域HA1对应。第一通孔TH1可以形成在第一区域HA1内。
基体层BSL可以包括感测区域SA和非感测区域NSA，在感测区域SA中识别由用户输入的触摸，在非感测区域NSA中不识别由用户输入的触摸。在实施例中，基体层BSL可以是显示面板DP的封装层。在这种情况下，触摸传感器TS可以直接设置在显示面板DP上。在另一实施例中，基体层BSL可以是与显示面板DP分离的组件，在这种情况下，基体层BSL可以通过预定透明粘合构件接合到显示面板DP的上表面。
非感测区域NSA可以包括第一非感测区域NSA1和第二非感测区域NSA2。
第一非感测区域NSA1是感测区域SA的外围区域，并且可以被限定为从感测区域SA的外部到基体层BSL的边界的区域。
第二非感测区域NSA2设置在感测区域SA中，并且可以形成为被感测区域SA围绕。第二非感测区域NSA2可以包括与第一通孔TH1对应的第一区域HA1和形成为围绕第一区域HA1的第二区域HA2。
多个感测电极SE可以设置在感测区域SA中，并且触摸垫区域TPA的触摸电极垫TP和被构造为将感测电极SE结合到触摸电极垫TP的信号线CL可以设置在第一非感测区域NSA1中。
感测电极SE可以包括在第一方向DR1上布置的第一感测电极SSE1。第一感测电极SSE1可以彼此电结合。例如，第一感测电极SSE1可以形成沿第一方向DR1延伸的第一感测电极线。
感测电极SE还可以包括沿第二方向DR2布置的第二感测电极SSE2。第二感测电极SSE2可以沿第二方向DR2电结合。例如，第二感测电极SSE2可以形成沿第二方向DR2延伸的第二感测电极线。
第一感测电极SSE1和第二感测电极SSE2在图4中示出为具有菱形形状，但是不限于此，第一感测电极SSE1和第二感测电极SSE2可以具有其它多边形形状。
根据实施例，第一感测电极SSE1和第二感测电极SSE2中的至少一些可以具有其中微图案交替的网格形状。在这种情况下，可以防止由感测电极SE引起的显示装置的开口率和透射率的减小。
第一感测电极线(例如，感测电极列)和第二感测电极线(例如，感测电极行)可以通过相应的信号线CL结合到相应的触摸电极垫TP。在实施例中，感测电极行和感测电极列中的一者可以通过信号线CL接收被构造为感测触摸的驱动信号，并且另一者可以通过信号线CL发送触摸感测信号。
触摸电极垫TP结合到外部驱动电路(诸如位置检测电路)(未示出)，并且感测电极SE和外部驱动电路可以彼此电结合。
图5是示意性地示出沿着线I-I’截取的图2的显示装置的一部分的示例的剖视图。
参照图2至图5，显示装置DD可以包括显示面板DP、基体层BSL、触摸传感器TS、光学结构OS、偏振层POL、窗层WDL、粘合层ADL和传感器模块300。
显示面板DP可以包括基底SUB和显示元件层DEL。
基底SUB可以是刚性基底或能够弯曲、折叠、卷曲等的柔性基底。基底SUB可以由诸如玻璃、石英、聚合物树脂等的绝缘材料形成。聚合物树脂的示例可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(CAT)、乙酸丙酸纤维素(CAP)或其组合。可选择地，基底SUB可以包括金属材料。
显示元件层DEL设置在基底SUB上，并且可以包括像素电路层PCL和发射元件层EML。
像素电路层PCL可以设置在基底SUB上。在像素电路层PCL上，不仅可以设置像素PX中的每个的晶体管，而且可以设置扫描线SL、数据线DL、电力线PL、扫描控制线SCL、数据结合线DLL、垫结合线PLL等。每个晶体管可以包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极。
发射元件层EML可以设置在像素电路层PCL上。
在实施例中，发射元件层EML可以包括被构造为通过顺序堆叠的第一电极、发光层和第二电极而发射光的像素PX和被构造为限定像素PX的像素限定层。发射元件层EML的像素PX可以设置在显示区域DA中。
发光层可以是包括有机材料的有机发光层。在这种情况下，发光层可以包括空穴传输层、有机发光层和电子传输层。
在实施例中，发射元件层EML可以包括无机发光元件。在这种情况下，第一电极和第二电极设置在同一层上，并且无机发光元件可以电结合到第一电极和第二电极。
在实施例中，显示面板DP(或显示元件层DEL)可以限定第二通孔TH2。例如，第二通孔TH2可以通过穿透像素电路层PCL和发射元件层EML而形成，以便与第一区域HA1对应。在这种情况下，基底SUB不包括孔，并且可以覆盖第一区域HA1。然而，不限于此，第二通孔TH2可以通过穿透基底SUB而形成。
基体层BSL可以是刚性基底或能够弯曲、折叠、卷曲等的柔性基底。基体层BSL可以由绝缘材料(诸如玻璃、石英、聚合物树脂等)形成。聚合物树脂的示例可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(CAT)、乙酸丙酸纤维素(CAP)或其组合。可选择地，基体层BSL可以包括金属材料。
在实施例中，基体层BSL可以用作被构造为封装发射元件层EML的封装层。
触摸传感器TS可以设置在基体层BSL的感测区域SA中。触摸传感器TS可以包括参照图4描述的触摸电极垫TP、被构造为使用电容方法感测由用户输入的触摸的感测电极SE以及被构造为将触摸电极垫TP结合到感测电极SE的信号线CL。例如，触摸传感器TS可以使用自电容方法或互电容方法来感测由用户输入的触摸。
在实施例中，触摸传感器TS可以限定第一通孔TH1。例如，第一通孔TH1可以通过穿透触摸传感器TS而形成，以便与第一区域HA1对应。在这种情况下，基体层BSL不包括孔，并且可以覆盖第一区域HA1。然而，不限于此，第一通孔TH1可以通过穿透基体层BSL而形成。第一通孔TH1可以具有与第二通孔TH2的圆周和半径相同的圆周和半径。圆周和半径可以基本上匹配第一区域HA1的尺寸。
偏振层POL和窗层WDL可以设置在触摸传感器TS上。偏振层POL可以设置在光学结构OS的一部分和触摸传感器TS上，窗层WDL可以通过粘合层ADL接合到偏振层POL、触摸传感器TS和光学结构OS。在此，光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)可以用作粘合层ADL。
第一通孔TH1可以延伸穿过粘合层ADL、偏振层POL和触摸传感器TS。第一通孔TH1可以沿着在触摸传感器TS层中的光学结构OS的边缘逐渐变窄。第一通孔TH1在偏振层POL中可以比在触摸传感器TS层中宽。
在实施例中，光学结构OS可以进一步设置在基体层BSL的第二区域HA2中。
在实施例中，光学结构OS可以包括设置在第二区域HA2的至少一部分中的光学图案。光学图案可以包括多个开口。光学图案可以形成在第二区域HA2的至少一部分中，使得防止在第二区域HA2(或与第二区域HA2相邻的显示区域DA)中的孔AH周围绕行的多条线对用户可见。稍后将参照图7至图9E描述光学图案。
偏振层POL可以是膜型或液晶涂覆型。膜型可以包括拉伸型合成树脂膜，液晶涂覆型可以包括以预定排列布置的液晶。
在实施例中，偏振层POL可以设置为与感测区域SA(或显示区域DA)叠置。另外，偏振层POL可以设置为与第二非感测区域NSA2(或第二非显示区域NDA2)的至少一部分叠置。
窗层WDL设置在偏振层POL、触摸传感器TS和光学结构OS上，从而保护显示面板DP或触摸传感器TS免受外部刮擦等。窗层WDL的前表面(或上表面)可以是与用户的输入手段(手指)接触的表面。
窗层WDL不包括孔AH，并且可以覆盖第一区域HA1和第二区域HA2。然而，不限于此，孔AH可以通过穿透窗层WDL而形成。
尽管发射元件层EML与基体层BSL之间的空间在图5中示出为空的，但是发明构思的实施例不限于此。例如，填充膜可以设置在发射元件层EML与基体层BSL之间。填充膜可以是环氧填充膜、硅填充膜等。
传感器模块300可以设置在显示面板DP(或基底SUB)下面(例如，在显示面板DP的后表面上)。即，传感器模块300可以设置为与第一通孔TH1和第二通孔TH2叠置。因此，光接收器(诸如包括在传感器模块中的相机等)可以通过孔AH接收来自外部的光。为此，不包括孔AH的基底SUB、基体层BSL和窗层WDL可以形成为透明的。
图6是示意性地示出沿着线I-I’截取的图2的显示装置的一部分的另一示例的剖视图。
参照图5和图6，除了图6的粘合层ADL’和窗层WDL’未遍及整个第二非显示区域NDA2设置之外，图6的显示装置DD’与图5的显示装置DD相同或类似。因此，将省略重复的描述。
参照图2和图6，显示装置DD’可以包括显示面板DP、基体层BSL、触摸传感器TS、光学结构OS、偏振层POL、窗层WDL’、粘合层ADL’和传感器模块300。
在实施例中，窗层WDL’可以包括包含第一通孔TH1’和第二通孔TH2的孔AH’。即，孔AH’(或第一通孔TH1’)可以通过穿透窗层WDL’而形成。另外，窗层WDL’可以通过粘合层ADL’接合到偏振层POL。
在此，偏振层POL设置为与感测区域SA(或显示区域DA)叠置，由此窗层WDL’和粘合层ADL’也可以设置为与感测区域SA(或显示区域DA)叠置。另外，当偏振层POL设置为与第二非感测区域NSA2(或第二非显示区域NDA2)的至少一部分叠置时，窗层WDL’和粘合层ADL’也可以设置为与第二非感测区域NSA2(或第二非显示区域NDA2)的至少一部分叠置。因此，光学结构OS的至少一部分可以暴露于外部。
图7是示出图2的显示装置的第二非显示区域的示例的放大图。
参照图2至图5和图7，第二非感测区域NSA2(或第二非显示区域NDA2)可以包括第一区域HA1和第二区域HA2。
孔AH可以形成在第一区域HA1中。孔AH可以包括参照图3至图5描述的第一通孔TH1和第二通孔TH2。
在第二区域HA2中，数据线DL和扫描线SL可以通过在孔AH周围绕行而形成在显示面板DP的像素电路层PCL上。
在实施例中，光学图案OM可以形成在第二区域HA2中的触摸传感器TS层中的光学结构OS上，以便防止在孔AH周围绕行的数据线DL和扫描线SL对用户可见。
在实施例中，光学图案OM可以包括多个开口OP。光学图案OM通过包括多个开口OP而引起入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的散射，从而减小入射光的反射率。例如，通过光学图案OM减小从外部通过孔AH入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面的光的反射率，由此可以减小在孔AH的附近(即，在第二区域HA2中)的光的反射率。因此，在孔AH的附近的光学结构OS(或触摸传感器TS)下面的线(例如，数据线DL、扫描线SL等)和在孔AH的附近的反射光可以对用户不可见。
另外，当来自外部的光再次从传感器模块300反射并且然后通过孔AH入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的下表面时，入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的下表面的光的反射率通过光学图案OM减小，由此通过从光学结构OS(或触摸传感器TS)的下表面反射而再次进入传感器模块300的光的量可以减少。因此，可以减少由再次进入包括在传感器模块300中的相机的光引起的捕获图像的耀斑(flare)现象。
偏振层POL可以设置在第二区域HA2的至少一部分中。当偏振层POL在对准工艺中对准到一侧时，偏振层POL的一部分可以设置在其中形成有孔AH的第一区域HA1中。因此，为了防止偏振层POL的一部分设置在第一区域HA1中，偏振层POL可以设置在第二区域HA2外部或第二区域HA2的一部分中。
图8是示出图4的触摸传感器、光学结构和基体层的放大区域EA部分的示例的放大图，并且图9A至图9E是示意性地示出沿着图8的放大区域EA部分的线II-II’截取的示例的剖视图。为了便于描述，在图9A至图9D中示出了参照图5描述的粘合层ADL。
参照图8和图9A，触摸传感器TS可以设置在基体层BSL的感测区域SA中。触摸传感器TS可以包括第一电极层910、第二电极层920、第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2。
第一电极层910可以设置在基体层BSL的感测区域SA中。在实施例中，第一电极层910可以由不透明金属导电层形成，例如，由钼(Mo)、铌(Nb)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)和铜(Cu)中的任何一种或其合金形成的单层或多层。
第一电极层910可以包括设置在感测区域SA中的结合电极CE。因为结合电极CE由不透明金属导电层形成，所以其不与像素(图3的PX)叠置。这种不叠置防止像素(图3的PX)的开口率减小，但是结合电极CE可以设置为与像素限定层叠置。
结合电极CE可以起到将第一感测电极SSE1结合到触摸岛状电极SEI的作用。即，结合电极CE可以通过第一触摸接触孔TCNT1结合到触摸岛状电极SEI，第一触摸接触孔TCNT1被构造为通过穿透第一绝缘层INS1来暴露触摸岛状电极SEI。结合电极CE可以通过第二触摸接触孔TCNT2结合到第一感测电极SSE1，第二触摸接触孔TCNT2被构造为通过穿透第一绝缘层INS1来暴露第一感测电极SSE1。因此，第一感测电极SSE1和触摸岛状电极SEI可以通过结合电极CE彼此电结合。
在实施例中，第一电极层910可以未设置在第二非感测区域NSA2中。
第一绝缘层INS1可以设置在第一电极层910上，第一电极层910设置在感测区域SA中。在实施例中，第一绝缘层INS1可以设置在基体层BSL的感测区域SA的一部分(其中未设置第一电极层910的区域)和第一电极层910上。第一绝缘层INS1可以设置为覆盖第一电极层910。第一绝缘层INS1可以使触摸岛状电极SEI与第一感测电极SSE1绝缘。
在实施例中，第三绝缘层INS3可以设置在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中的基体层BSL上。在此，第一绝缘层INS1和第三绝缘层INS3可以形成为单个主体。即，第一绝缘层INS1(或第三绝缘层INS3)可以从感测区域SA延伸到第二区域HA2。
第一绝缘层INS1可以包括无机膜(例如，氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氧化钛和氧化铝中的至少一种)。因为第三绝缘层INS3和第一绝缘层INS1形成为单个主体，所以第三绝缘层INS3可以包括与第一绝缘层INS1的材料相同的材料。
第二电极层920可以设置在第一绝缘层INS1上。第二电极层920可以包括能够透射光的透明导电材料。例如，第二电极层920可以包括透明导电材料(诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等)。
第二电极层920可以包括第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI，第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI在感测区域SA中设置为彼此间隔开。因为第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI包括透明导电材料，所以即使第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI与像素(图3的PX)叠置，像素(图3的PX)的开口率也不会减小。
第一感测电极SSE1和触摸岛状电极SEI可以沿第一方向DR1交替地设置，但是可以设置为彼此间隔开。彼此靠近的第一感测电极SSE1和触摸岛状电极SEI可以通过结合电极CE彼此电结合。
在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中，第二电极层920可以包括设置在其中的光学图案OM。即，光学图案OM可以与设置在感测区域SA中的第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI设置在同一层上。在实施例中，光学图案OM可以在与第二电极层920(即，第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI)的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI的材料相同的材料(例如，相同的金属材料)。
光学图案OM可以设置在第二区域HA2中的第三绝缘层INS3上。
第二绝缘层INS2可以设置在感测区域SA中设置的第二电极层920(即，第一感测电极SSE1、第二感测电极SSE2和触摸岛状电极SEI)上。在实施例中，第二绝缘层INS2可以设置在第二电极层920上并且在其中感测区域SA中设置有第一绝缘层INS1的区域(其中未设置第二电极层920的区域)的一部分中。第二绝缘层INS2设置为覆盖第二电极层920，从而使第二电极层920绝缘。
在实施例中，第四绝缘层INS4可以设置在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中。在此，第二绝缘层INS2和第四绝缘层INS4可以形成为单个主体。即，第二绝缘层INS2(或第四绝缘层INS4)可以通过从感测区域SA延伸到第二区域HA2来设置。
在实施例中，第四绝缘层INS4可以在第二区域HA2中覆盖光学图案OM。因此，可以防止光学图案OM被损坏。
第二绝缘层INS2可以由无机膜(例如，氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氧化钛或氧化铝)形成。因为第四绝缘层INS4和第二绝缘层INS2形成为单个主体，所以第四绝缘层INS4可以包括与第二绝缘层INS2的材料相同的材料。
在实施例中，光学图案OM可以包括多个开口OP。如上面参照图7描述的，因为光学图案OM包括多个开口OP，所以引起入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的散射，由此入射光的反射率可以减小。为此，其中包括有光学图案OM的第二电极层920的折射率可以高于覆盖第二电极层920的第二绝缘层INS2(或第四绝缘层INS4)的折射率。另外，其中包括有光学图案OM的第二电极层920的折射率可以高于设置在第二电极层920下面的第一绝缘层INS1(或第三绝缘层INS3)的折射率。
例如，第二电极层920的折射率与第一绝缘层INS1的折射率之间的差(或第二电极层920的折射率与第二绝缘层INS2的折射率之间的差)可以等于或高于约0.3。例如，当第二电极层920由ITO形成并且当第一绝缘层INS1(或第二绝缘层INS2)包括氧化硅(例如，SiO2)时，因为ITO的折射率为约1.85并且SiO2的折射率为约1.45，所以它们之间的差可以为约0.40。
在这种情况下，根据包括在光学图案OM中的多个开口OP中的折射率的差引起漫反射，这引起光学图案OM中的光的散射，由此入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。因此，可以防止在孔AH的附近的光学结构OS(或触摸传感器TS)下面的线(例如，数据线DL、扫描线SL等)和在孔AH的附近的反射光对用户可见，并且可以减少设置在显示面板(图5的DP)下面的传感器模块(图5的300)(例如，相机)的耀斑现象。
在实施例中，光学图案OM的开口OP的平面形状可以是圆形的或椭圆形的。另外，不限于此，开口OP的平面形状可以是多边形等。
参照图9A和图9B，除了第四绝缘层INS4未设置在图9B的剖视图中的第二区域HA2中之外，图9B的剖视图与图9A的剖视图相同。因此，将省略重复的描述。
参照图8和图9B，因为第四绝缘层INS4未形成在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中形成的第二电极层920上，即，因为第四绝缘层INS4未形成在光学图案OM上，所以粘合层ADL可以设置为覆盖光学图案OM。在此，形成光学图案OM的第二电极层920的折射率可以高于粘合层ADL的折射率。例如，当第二电极层920由ITO形成时并且当粘合层ADL由OCA形成时，因为ITO的折射率为约1.85并且OCA的折射率为约1.50，所以它们之间的差可以为约0.35。光学图案OM的折射率与粘合层ADL的折射率之间的差引起光学图案OM中的光的散射，由此入射到触摸传感器TS的上表面和下表面的光的反射率可以减小。
参照图6、图8和图9B，因为孔AH’是通过穿透图6的显示装置DD’中的窗层WDL’而形成，所以光学图案OM可以暴露于外部，而不是被粘合层ADL覆盖。在这种情况下，因为外部的折射率为约1.00，所以即使不是第二电极层920而是光学图案OM通过在与第二绝缘层INS2的工艺相同的工艺中形成而与第二绝缘层INS2设置在同一层上，光学图案OM中的光的散射也由光学图案OM的折射率与外部的折射率之间的差而引起，由此入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。例如，当第二绝缘层INS2包括氧化硅(例如，SiO2)时，因为SiO2的折射率为约1.45并且外部的折射率为约1.00，所以它们之间的差可以为约0.45。
参照图9B和图9C，除了第三绝缘层INS3未形成在图9C的剖视图中的第二区域HA2中之外，图9C的剖视图与图9B的剖视图相同。因此，将省略重复的描述。
参照图8和图9C，第三绝缘层INS3未形成在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中形成的第二电极层920下面(即，在光学图案OM下面)。即，光学图案OM可以直接设置在基体层BSL上。如上面描述的，即使光学结构OS在第二区域HA2中不包括第三绝缘层INS3，光学图案OM中的光的散射也由光学图案OM的折射率与形成为覆盖光学图案OM的粘合层ADL的折射率之间的差而引起，由此入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。
尽管在图9C中粘合层ADL示出为覆盖光学图案OM，但是构造不限于此。例如，第二绝缘层INS2可以通过设置为从感测区域SA延伸到第二区域HA2来覆盖光学图案OM。即，光学结构OS可以包括被构造为覆盖光学图案OM的第四绝缘层INS4。在这种情况下，光学图案OM中的光的散射由光学图案OM的折射率与形成为覆盖光学图案OM的第四绝缘层INS4的折射率之间的差而引起，由此入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。
参照图6、图8和图9C，因为孔AH’是通过穿透图6的显示装置DD’中的窗层WDL’而形成，所以光学图案OM可以暴露于外部，而不是被粘合层ADL覆盖。在这种情况下，因为外部的折射率为约1.00，所以即使不是第二电极层920而是光学图案OM通过在与第一绝缘层INS1或第二绝缘层INS2的工艺相同的工艺中形成而与第一绝缘层INS1或第二绝缘层INS2设置在同一层上，光学图案OM中的光的散射也由光学图案OM的折射率与外部的折射率之间的差而引起，由此可以减小入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率。例如，当第一绝缘层INS1或第二绝缘层INS2包括氧化硅(例如，SiO2)时，因为SiO2的折射率为约1.45并且外部的折射率为约1.00，所以它们之间的差可以为约0.45。
参照图9A和图9D，除了第一金属层MTL1另外形成在图9D的剖视图中的第二区域HA2中之外，图9D的剖视图与图9A的剖视图相同。因此，将省略重复的描述。
参照图8和图9D，第一电极层910还可以包括设置在第二区域HA2中的第一金属层MTL1。第一金属层MTL1可以设置在基体层BSL的第二区域HA2中。另外，光学结构OS可以包括被构造为覆盖第一金属层MTL1的第三绝缘层INS3。即，第一金属层MTL1和形成在感测区域SA中的结合电极CE可以设置在同一层上。即，第一金属层MTL1可以在与结合电极CE的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与结合电极CE的材料相同的材料(例如，相同的金属材料)。
如上面描述的，光学结构OS还可以包括设置在基体层BSL的第二区域HA2中的第一金属层MTL1。在此，入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的下表面的光的反射率可以通过第一金属层MTL1进一步减小。因此，可以进一步减少由再次进入包括在传感器模块300中的相机的光引起的捕获图像的耀斑现象。
第四绝缘层INS4示出为覆盖图9D中的光学图案OM，但是不限于此，如参照图9B描述的，第四绝缘层INS4未设置在第二区域HA2中并且粘合层ADL可以覆盖光学图案OM。
第一金属层MTL1可以包括主金属层、第一金属氧化物膜和第二金属氧化物膜。稍后将参照图11描述这些。
参照图9C和图9E，除了不包括粘合层ADL，光学图案OM与第二绝缘层INS2设置在同一层上并且在图9E的剖视图中还包括第一金属层MTL1和盖层CPL之外，图9E的剖视图与图9C的剖视图相同。因此，将省略重复的描述。
参照图6、图8和图9E，孔AH’可以通过穿透如参照图6描述的窗层WDL’和粘合层ADL’而形成。
在实施例中，第一电极层910可以包括形成在第二非感测区域NSA2的第二区域HA2中的第一金属层MTL1。第一金属层MTL1可以设置在基体层BSL的第二区域HA2中。另外，盖层CPL可以覆盖第一金属层MTL1。第一金属层MTL1和形成在感测区域SA中的结合电极CE可以设置在同一层上。即，第一金属层MTL1可以在与结合电极CE的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与结合电极CE的材料相同的材料(例如，相同的金属材料)。另外，盖层CPL和第二电极层920可以设置在同一层上。即，盖层CPL可以在与第二电极层920的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与第二电极层920的材料相同的材料(例如，相同的金属材料)。因为形成盖层CPL的第二电极层920由诸如ITO、IZO等的金属氧化物形成，所以可以防止第一金属层MTL1被氧化。
另外，入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面的光的反射率可以通过由第二电极层920形成的盖层CPL进一步减小。
如上面描述的，光学结构OS还包括设置在基体层BSL上的第一金属层MTL1，由此可以进一步减小光学结构OS(或触摸传感器TS)的下表面处的反射率。因此，可以进一步减少由再次进入包括在传感器模块300中的相机的光引起的捕获图像的耀斑现象。
光学图案OM可以设置在盖层CPL上。
在实施例中，光学图案OM由第四绝缘层INS4形成，并且光学图案OM可以与第二绝缘层INS2设置在同一层上。因为图6的显示装置DD’被构造为使得孔AH’通过穿透窗层WDL’而形成，所以光学图案OM可以暴露于外部，而不是被粘合层ADL覆盖。在这种情况下，因为外部的折射率为约1.00，所以即使光学图案OM通过在与第二绝缘层INS2的工艺相同的工艺中形成而与第二绝缘层INS2设置在同一层上，光学图案OM中的光的散射也由光学图案OM的折射率与外部的折射率之间的差而引起，由此入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。
如上面参照图9A至图9E描述的，光学图案OM通过包括多个开口OP而引起入射到在孔AH的附近的光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的散射，由此入射光的反射率可以减小。因此，在孔AH的附近的光学结构OS(或触摸传感器TS)下面的线(例如，数据线DL、扫描线SL等)和在孔AH的附近的反射光可以对用户不可见。
在实施例中，在图9E中可以省略光学图案OM。在这种情况下，即使不包括光学图案OM，入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率也可以通过第一金属层MTL1和盖层CPL而减小。
图10是示出图4的触摸传感器、光学结构和基体层的放大区域EA部分的另一示例的放大图，并且图11是示意性地示出沿着图10的放大区域EA部分的线III-III’截取的示例的剖视图。
参照图8和图10，除了在图10的放大区域EA部分的视图中未示出光学图案OM并且示出了第二金属层MTL2之外，图10的放大区域EA部分的视图与图8的放大区域EA部分的视图相同。因此，将省略重复的描述。
参照图10和图11，第一电极层910可以包括第二金属层MTL2。第二金属层MTL2可以设置在基体层BSL的第二区域HA2中。即，第二金属层MTL2包括在光学结构OS中，并且第二金属层MTL2可以与设置在感测区域SA中的第一电极层910设置在同一层上。在实施例中，光学图案OM可以在与第一电极层910的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与第一电极层910的材料相同的材料(例如，相同的金属材料)。
在实施例中，第二金属层MTL2可以包括主金属层922、第一金属氧化物膜921和第二金属氧化物膜923。
主金属层922可以在与结合电极CE的工艺相同的工艺中形成，并且可以包括与形成结合电极CE的材料相同的材料(例如，钼(Mo)、铌(Nb)等)。
第一金属氧化物膜921可以设置在基体层BSL与主金属层922之间。第二金属氧化物膜923可以设置在主金属层922与第三绝缘层INS3之间。
在实施例中，第一金属氧化物膜921和第二金属氧化物膜923在与结合电极CE的工艺相同的工艺中形成，并且可以由形成结合电极CE的材料(例如，诸如钼(Mo)、铌(Nb)等的金属)和氧(例如，金属氧化物)的化合物形成。因为由这种金属氧化物形成的第一金属氧化物膜921和第二金属氧化物膜923的反射率低于仅由金属形成的主金属层922的反射率，所以入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以减小。因此，在孔AH的附近的光学结构OS(或触摸传感器TS)下面的线(例如，数据线DL、扫描线SL等)和在孔AH的附近的反射光可以对用户不可见，并且可以减少设置在显示面板(图5的DP)下面的传感器模块(例如，相机)的耀斑现象。
另外，第一金属氧化物膜921和第二金属氧化物膜923设置在主金属层922的前表面和后表面上，由此可以防止主金属层922被氧化。
参照图9D和图11，当图9D的第一金属层MTL1包括主金属层922、第一金属氧化物膜921和第二金属氧化物膜923时，与图11的第二金属层MTL2一样，入射到光学结构OS(或触摸传感器TS)的上表面和下表面的光的反射率可以进一步减小。
根据发明构思的实施例的显示装置可以包括光学图案，该光学图案包括围绕通孔的多个开口。因此，引起入射到在通孔的附近的触摸传感器的上表面和下表面的光的散射，由此可以减小在通孔的附近的光的反射率。
另外，根据发明构思的实施例的显示装置包括在第二区域中(在通孔的附近)的包括第一金属氧化物膜和第二金属氧化物膜的第二金属层，由此入射到在通孔的附近的触摸传感器的上表面和下表面的光的反射率可以减小。
因此，可以防止在孔的附近的触摸传感器下面的线和在孔的附近的反射光对用户可见，并且可以减少设置在显示面板下面的传感器模块(例如，相机)的耀斑现象。
本公开的效果不限于上面提及的效果，并且可以在不脱离本公开的精神和范围的情况下进行各种扩展。
上面详细的描述例示了本公开。此外，上面描述仅示出和描述了本公开的优选实施例，并且本公开可以在各种组合、改变和环境下使用。即，在不脱离本说明书中描述的本公开的构思的范围、其等同物和/或本公开属于其的技术或常识的范围的情况下，可以进行修改和改变。因此，本公开的详细描述不旨在将本公开限制于所公开的实施例。此外，应该理解的是，所附权利要求包括甚至另一实施例。

Claims (13)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
基体层，包括非感测区域和被构造为围绕所述非感测区域的感测区域；
触摸传感器，设置在所述基体层的所述感测区域中；
光学结构，设置在所述基体层上；以及
偏振层，设置在所述触摸传感器上以与所述感测区域叠置，
其中：
所述触摸传感器和所述光学结构限定定位于所述非感测区域中的第一通孔，
所述非感测区域包括与所述第一通孔对应的第一区域和被构造为围绕所述第一区域的第二区域，并且
所述光学结构包括设置在所述第二区域中并且包括多个开口的光学图案。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述触摸传感器包括：第一电极层，设置在所述基体层的所述感测区域中；第一绝缘层，设置在所述基体层的所述感测区域的一部分和所述第一电极层上；第二电极层，设置在所述第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在所述第一绝缘层和所述第二电极层上，
在所述第一感测电极之中，彼此相邻的所述第一感测电极通过穿透所述第一绝缘层并且连接到所述第一电极层而彼此结合，并且
所述光学图案与所述第二电极层设置在同一层上。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中：
所述光学结构还包括设置在所述基体层的所述第二区域中的第三绝缘层，
所述第一绝缘层和所述第三绝缘层形成为单个主体，并且
所述光学图案设置在所述第三绝缘层上。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中：
所述光学结构还包括被构造为覆盖所述光学图案的第四绝缘层，
所述第二绝缘层和所述第四绝缘层形成为单个主体，并且
所述第四绝缘层的折射率低于所述光学图案的折射率。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中：
所述光学结构还包括设置在所述基体层的所述第二区域中的金属层和被构造为覆盖所述金属层的第三绝缘层，
所述第一绝缘层和所述第三绝缘层形成为单个主体，并且
所述金属层与所述第一电极层设置在同一层上。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中：
所述光学结构还包括被构造为覆盖所述光学图案的第四绝缘层，并且
所述第二绝缘层和所述第四绝缘层形成为单个主体。
7.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述光学结构还包括：第一金属氧化物膜，设置在所述基体层与所述金属层之间；以及第二金属氧化物膜，设置在所述金属层与所述第三绝缘层之间。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述触摸传感器包括：第一电极层，设置在所述基体层的所述感测区域中；第一绝缘层，设置在所述基体层的所述感测区域的一部分和所述第一电极层上；第二电极层，设置在所述第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在所述第一绝缘层和所述第二电极层上，
在所述第一感测电极之中，彼此相邻的所述第一感测电极通过穿透所述第一绝缘层并且连接到所述第一电极层而彼此结合，并且
所述光学图案与所述第二绝缘层形成在同一层上。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中：
所述光学结构还包括设置在所述基体层的所述第二区域中的金属层和被构造为覆盖所述金属层的盖层，
所述金属层与所述第一电极层设置在同一层上，
所述盖层与所述第二电极层设置在同一层上，
所述光学图案设置在所述盖层上，并且
所述第二绝缘层和所述光学图案包括相同的材料。
10.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：
窗层，设置在所述偏振层和所述触摸传感器上；以及
粘合层，被构造为在所述感测区域中将所述偏振层接合到所述窗层并且在所述非感测区域中将所述光学结构接合到所述窗层，
其中，所述粘合层覆盖所述光学图案，并且
其中，所述粘合层的折射率低于所述光学图案的折射率。
11.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：
窗层，设置在所述偏振层上以与所述感测区域叠置；以及
粘合层，被构造为将所述偏振层接合到所述窗层，
其中，所述光学图案的至少一部分暴露于外部。
12.一种显示装置，所述显示装置包括：
基体层，包括非感测区域和被构造为围绕所述非感测区域的感测区域；
触摸传感器，设置在所述基体层的所述感测区域中；
光学结构，设置在所述基体层上；以及
偏振层，设置在所述触摸传感器上以与所述感测区域叠置，
其中：
所述触摸传感器和所述光学结构限定定位于所述非感测区域中的第一通孔，
所述非感测区域包括与所述第一通孔对应的第一区域和被构造为围绕所述第一区域的第二区域，并且
所述光学结构包括：第一金属氧化物膜，设置在所述基体层的所述第二区域中；金属层，设置在所述第一金属氧化物膜上；以及第二金属氧化物膜，设置在所述金属层上。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其中：
所述触摸传感器包括：第一电极层，设置在所述基体层的所述感测区域中；第一绝缘层，设置在所述基体层的所述感测区域的一部分和所述第一电极层上；第二电极层，设置在所述第一绝缘层上并且包括布置为彼此间隔开的第一感测电极和第二感测电极；以及第二绝缘层，设置在所述第一绝缘层和所述第二电极层上，
在所述第一感测电极之中，彼此相邻的所述第一感测电极通过穿透所述第一绝缘层并且连接到所述第一电极层而彼此结合，
所述金属层、所述第一金属氧化物膜和所述第二金属氧化物膜与所述第一电极层设置在同一层上，
所述光学结构还包括设置在所述基体层的所述第二区域中的第三绝缘层，
所述第一绝缘层和所述第三绝缘层形成为单个主体，并且
所述第三绝缘层覆盖所述第二金属氧化物膜。
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