CN113433794A - 能够对准图案的转印装置、制造图案基板的方法及记录介质 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种能够对准图案的转印装置、制造图案基板的方法及记录介质。具体地,根据本发明的一实施例可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂。
Description
技术领域
本发明是涉及一种能够对准图案的转印装置的发明。
背景技术
最近,在显示器工艺以及半导体工艺中,为了在基板(例如,显示面板以及晶圆(Wafer)等)的表面形成图案(例如,结构化的成型图案以及用于蚀刻或者蒸镀的掩模图案等),利用纳米压印(Nano Imprint Lithography)工艺。
纳米压印工艺由于可以替代现有的光刻(Photo Lithography)工艺,是能够经济且有效地制造纳米结构物(nano-structure)的技术。具体地,纳米压印工艺是通过将利用转印装置(Transfer Apparatus)形成有纳米级(nano-scale)图案的模具(Mold)和形成有树脂(Resin)的基板彼此加压而将图案转印于树脂的工艺。如此,在纳米压印工艺中使用的转印装置执行将模具按压(press)于基板之后从基板分离模具的工艺。
在将模具的图案转印于基板的树脂时,需要使得模具和基板位于预先确定的固定位置(right position)并彼此按压。然而,在将模具或者基板设置于转印装置或使得模具和基板彼此相对移动的过程中,由于各种因素,模具和基板可能不位于固定位置。如此,若模具和基板在没有位于固定位置的情况下彼此按压,则图案不会转印于树脂的预先确定的固定位置,可能制造出性能不良的图案基板。
因此,需要能够在将模具的图案转印于基板的树脂之前对准水平位置以使得模具和基板位于固定位置的装置。
发明内容
本发明的实施例是着眼于上述那样的背景而发明的,其目的在于提供能够在将模具的图案转印于基板的树脂之前对准水平位置以使得模具和基板位于预先确定的固定位置(right position)的装置。
另外,其目的在于提供能够将图案转印于树脂的预先确定的固定位置的装置。
根据本发明的一方面,可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,还包括:UV照射部,与所述拍摄部沿着水平方向隔开设置,并用于将UV照射于所述树脂;以及驱动部,使所述拍摄部以及所述UV照射部沿着水平方向移动,所述UV照射部构成为能够在用于将UV照射于所述树脂的照射位置和不照射UV的非照射位置之间沿着水平方向移动,所述拍摄部构成为能够在用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置和不识别所述定位标记以及所述定位键的非拍摄位置之间沿着水平方向移动,所述驱动部使所述拍摄部在拍摄位置和非拍摄位置之间移动,并使所述UV照射部在所述照射位置和非照射位置之间移动。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述驱动部包括:支承体,支承所述拍摄部以及所述UV照射部;以及致动器,使所述支承体沿着水平方向移动以使所述拍摄部以及所述UV照射部一起沿着水平方向移动,所述支承体以及所述致动器使所述拍摄部以及所述UV照射部移动,以当所述拍摄部位于拍摄位置时所述UV照射部位于非照射位置,并当所述拍摄部位于非拍摄位置时所述UV照射部位于照射位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述致动器包括滚珠螺杆马达。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述拍摄部构成为调整水平位置、垂直位置以及角度中的一个以上以使视场角朝向形成有所述定位标记以及所述定位键的位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述拍摄部具有识别所述定位标记的第一焦距以及识别所述定位键的第二焦距,并构成为焦距变更为所述第一焦距或者所述第二焦距。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述定位标记包括第一定位标记以及第二定位标记,所述定位键包括与所述第一定位标记相对应的第一定位键以及与所述第二定位标记相对应的第二定位键,所述拍摄部包括:第一拍摄部,用于识别所述第一定位标记以及所述第一定位键;以及第二拍摄部,用于识别所述第二定位标记以及所述第二定位键。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第二按压单元包括:基板安放部,用于安放所述基板;以及调位部,调整所述基板安放部的水平位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第二按压单元还包括使所述调位部升降的升降部。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述调位部包括第一调整部、第二调整部以及旋转部中的一个以上,所述第一调整部为了调整所述基板安放部的水平位置而使所述基板安放部沿着前后方向移动,所述第二调整部使所述基板安放部沿着左右方向移动,所述旋转部使所述基板安放部旋转。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第一按压单元还包括:模具支承件,用于支承所述模具;以及支承件移动部,使所述模具支承件沿着水平方向移动来移动所述模具的中心位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案的模具进行支承;第二按压单元,对形成有树脂的基板进行支承;模具夹具,一部分开放形成以使得所述模具的中心部朝向所述基板暴露,并支承所述模具的边缘部;以及夹钳,支承所述模具夹具的两侧边缘而将所述模具夹具固定于所述第一按压单元侧,所述夹钳形成有:下侧滑动部件,在下方支承所述模具夹具;以及上侧滑动部件,在上方支承被支承的所述模具夹具,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个能够朝向另一个移动,使得所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将在所述模具形成的图案转印于在所述基板形成的树脂,所述模具夹具滑动插入到所述上侧滑动部件和所述下侧滑动部件之间而被所述夹钳支承。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案的模具进行支承;以及第二按压单元,对形成有树脂的基板进行支承,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个能够朝向另一个移动,使得所述模具和所述基板彼此按压,从而将在所述模具形成的图案按压于在所述基板形成的树脂,所述第一按压单元包括:UV透过窗,支承所述模具,并使UV透过;密闭部,呈环状凸出且下方与所述模具夹具接触而能够将所述UV透过窗周围相对于外部密闭;以及第一排气部,当所述密闭部将所述UV透过窗周围的空间相对于外部密闭时,所述第一排气部用于将在密闭在所述密闭部的内部中的空间残留的气体排出到外部。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第二按压单元包括:波纹管,当按压所述模具和所述基板时,所述波纹管朝向所述第一按压单元伸缩,从而能够将所述基板周围的空间相对于外部密闭;以及第二排气部,当所述波纹管将所述基板周围的空间相对于外部密闭时,所述第二排气部用于将在密闭在所述波纹管的内部中的空间残留的气体排出到外部,所述第一排气部以及所述第二排气部进行防止所述密闭部内部的气体压力和所述波纹管内部的气体压力之差超出预定范围的工作。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述能够对准图案的转印装置还包括:模具夹具,使所述模具的中心部暴露,并支承所述模具的边缘部;以及夹钳,支承所述模具夹具的边缘而将所述模具夹具固定于所述第一按压单元侧。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第一按压单元包括:密封部件,为了切断气体向所述密闭部和所述模具夹具之间流入,所述密封部件位于所述密闭部和所述模具夹具之间。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第二按压单元包括:基板安放部,用于安放所述基板;以及调位部,调整安放有所述基板的基板安放部的水平位置,所述能够对准图案的转印装置还包括:控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述调位部的工作的控制。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述控制部控制所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,并控制所述拍摄部识别所述定位标记以及所述定位键,并且控制所述调位部调整所述基板安放部的水平位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:UV照射部,与所述拍摄部沿着水平方向隔开设置,并用于将UV照射于所述树脂;以及驱动部,使所述拍摄部以及所述UV照射部沿着水平方向移动,所述UV照射部构成为能够在用于将UV照射于所述树脂的照射位置和不照射UV的非照射位置之间沿着水平方向移动,所述拍摄部构成为能够在用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置和不识别所述定位标记以及所述定位键的非拍摄位置之间沿着水平方向移动,所述驱动部使所述拍摄部在拍摄位置和非拍摄位置之间移动,并使所述UV照射部在所述照射位置和非照射位置之间移动,所述控制部控制所述驱动部使得为了将UV照射于所述树脂而所述UV照射部位于所述照射位置,并控制所述驱动部使得为了识别所述定位标记以及所述定位键而所述拍摄部位于所述拍摄位置。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述调位部包括第一调整部、第二调整部以及旋转部中的一个以上,所述第一调整部为了调整所述基板安放部的水平位置而使所述基板安放部沿着前后方向移动,所述第二调整部使所述基板安放部沿着左右方向移动,所述旋转部使所述基板安放部旋转,所述控制部为了调整所述基板的水平位置而控制所述第一调整部、所述第二调整部以及所述旋转部中的一个以上。
另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,所述第二按压单元包括使所述调位部升降的升降部,所述控制部控制所述升降部、所述调位部以及所述拍摄部,以当所述基板通过所述升降部上升了预定距离时,所述拍摄部识别所述定位标记以及所述定位键,所述调位部调整所述基板安放部的水平位置,并当所述基板通过所述升降部上升了大于所述预定距离时,所述拍摄部重新识别所述定位标记以及所述定位键,所述调位部重新调整所述基板安放部的水平位置。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,将形成有图案以及定位标记的模具与形成有树脂以及定位键的基板按压而制造图案基板,其中,所述制造图案基板的方法包括:拍摄步骤,拍摄部对在所述模具形成的定位标记以及在基板形成的定位键进行拍摄;调位步骤,调位部调整所述基板的水平位置;基板按压步骤,将所述模具按压于所述基板;以及基板分离步骤,将所述模具从所述基板分离。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,还包括:升降步骤,升降部使所述调位部上升,执行多次所述升降步骤、所述拍摄步骤以及所述调位步骤,以当所述基板通过所述升降步骤上升了预定距离时,执行所述拍摄步骤以及所述调位步骤,并当所述基板通过所述升降步骤上升了大于预定距离时,再次执行所述拍摄步骤以及所述调位步骤。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,还包括:模具水平移动步骤,在所述拍摄步骤之前,使得用于支承所述模具的模具支承件的中心位置沿着水平方向移动。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,还包括:UV照射步骤,UV照射部将UV照射于所述树脂;拍摄部移动步骤,在所述拍摄步骤之前使拍摄部移动到用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置;以及UV照射部移动步骤,在所述基板按压步骤之后使所述UV照射部移动到用于将UV照射于所述树脂的照射位置。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,还包括:密闭步骤,在所述基板按压步骤之前且所述调位步骤之后将所述基板周围的空间相对于外部密闭,并将在所述基板周围的空间残留的气体排出到外部;以及密闭解除步骤,在所述基板按压步骤之后使气体流入所述基板周围的空间,将所述基板周围的空间相对于外部解除密闭。
另外,可以提供一种制造图案基板的方法,还包括:夹钳固定步骤,在所述拍摄步骤之前,用夹钳将安装有所述模具的模具夹具固定于第一按压单元侧;以及夹钳解除步骤,在所述基板按压步骤且所述基板分离步骤之后,解除将安装有所述模具的模具夹具固定的夹钳。
另外,可以提供一种计算机可读取的记录介质,存储有用于执行将形成有图案以及定位标记的模具与形成有树脂以及定位键的基板按压而制造图案基板的方法的计算机程序的计算机可读取的记录介质,其中,所述计算机程序编程为执行如下步骤:存储步骤,将由拍摄部拍摄的所述定位标记以及所述定位键的图像信息存储于所述计算机可读取的记录介质;运算步骤,基于存储在所述计算机可读取的记录介质中的所述图像信息,运算所述定位标记以及所述定位键的位置信息;以及输出步骤,基于运算出的所述位置信息,输出调整所述模具或者所述基板的位置的动作命令。
另外,可以提供一种计算机可读取的记录介质,所述输出步骤执行为基于针对所述定位标记运算出的位置信息和针对所述定位键运算出的位置信息而先判断所述模具和所述基板是否位于固定位置。
根据本发明的实施例,具有能够在将模具的图案转印于基板的树脂之前对准水平位置以使得模具和基板位于预先确定的固定位置的效果。
另外,具有能够将图案转印于树脂的预先确定的固定位置的效果。
附图说明
图1是根据本发明的一实施例的能够对准图案的转印装置的立体图。
图2是图1的模具的上面图。
图3是图1的基板的上面图。
图4是示出当模具和基板没有位于固定位置时定位标记和定位键的图。
图5是示出当模具和基板位于固定位置时定位标记和定位键的图。
图6是当图1的拍摄部移动到拍摄位置时沿着A-A'截取的截面图。
图7是沿着图1的A-A'截取的截面图。
图8是图6的B的放大图。
图9是图1的拍摄部的立体图。
图10是示出将模具的图案向具有比模具大的面积的基板局部地依次转印的模样的图。另外,(a)是示出模具支承件移动之前的模样的图,(b)是示出模具支承件移动之后沿着模具支承件的移动方向在基板转印有图案的模样的图。
图11是示出将模具的图案向多个基板一个一个依次转印的模样的图。另外,(a)是示出模具支承件移动之前的模样的图,(b)是示出模具支承件移动之后沿着模具支承件的移动方向在基板转印有图案的模样的图。
图12是图1的分解立体图。
图13是图2的下面分解立体图。
图14是图1的主视图。
图15是概要示出根据本发明的一实施例的制造图案基板的方法的流程图。
(附图标记说明)
1:能够对准图案的转印装置 10:模具
11:定位标记 11a:第一定位标记
11b:第二定位标记 20:基板
21:定位键 21a:第一定位键
21b:第二定位键 100:第一按压单元
111:模具夹具 112:夹钳
120:UV透过窗 130:密闭部
140:第一排气部 150:密封部件
200:第二按压单元 210:基板安放部
220:调位部 221:第一调整部
222:第二调整部 223:旋转部
230:升降部 240:波纹管
250:第二排气部 300:拍摄部
310:第一拍摄部 320:第二拍摄部
400:UV照射部 500:驱动部
510:支承体 520:致动器
600:控制部
具体实施方式
以下,针对用于实现本发明的技术构思的具体实施例,参照附图进行详细说明。
并且,在说明本发明时,当判断为针对相关公知结构或者功能的具体说明可能导致本发明的主旨模糊时,省略其详细的说明。
另外,当提及某构成要件被其它构成要件“支承”、“流入”、“排出”、“固定”时,虽可以被其其它构成要件直接支承、流入、排出、固定,但应理解为也可以在中间存在其它构成要件。
在本说明书中使用的用语只是用于说明特定的实施例,并不用作限定本发明的意图。单数的表达包括复数的表达,除非在文脉上明确地不同表示。
另外,如第一、第二等那样包括序数的用语可能在对各种构成要件的说明中使用,但相应构成要件不限于这样的用语。其用语仅用于将一个构成要件与其它构成要件区分的目的。
在说明书中使用的“包括”的含义是将特定特性、区域、整数、步骤、动作、因素及/或成分具体化,并不排除其它特定特性、区域、整数、步骤、动作、因素、成分及/或组的存在或附加。
另外,预先明确,在本说明书中,上侧、下侧、下面等表达是以附图中的图示为基准所说明的,若相应对象的方向改变则可以不同地表达。另一方面,在本说明书中,左右方向可以是图1以及图14的x轴方向(x1是右侧,x2是左侧)。另外,前后方向可以是图1、图6以及图7的y轴方向(y1是前方侧,y2是后方侧),上下方向可以是图1、图6、图7以及图14的z轴方向(z1是上侧,z2是下侧)。另外,θ轴方向可以是以图1的z轴方向作为中心轴进行旋转的方向。另外,水平方向可以是x轴方向以及y轴方向中的一个或者组合。另外,水平位置可以是x轴方向以及y轴方向的虚拟的上面上一位置。另外,垂直方向可以是z轴方向。另外,垂直位置可以是z轴方向的虚拟的直线上一位置。
以下,参照附图,对根据本发明的一实施例的能够对准图案的转印装置1的具体结构进行说明。
以下,参照图1,根据本发明的一实施例的能够对准图案的转印装置1可以使得模具10和基板20彼此按压(press),从而彼此加压而将在模具10形成的图案转印于在基板20形成的树脂。
参照图2,在模具10的一面可以形成要转印于基板20的树脂的图案(未图示)。另外,在模具10可以形成有成为用于对准以使得与基板20位于预先确定的固定位置(rightposition)的基准的定位标记11。另外,当模具10配置成图案朝向下侧时,定位标记11可以形成在比图案靠上侧处。另外,模具10可以是透明的硬质材质。例如,可以是石英、玻璃以及蓝宝石中的任一个。如此,模具10提供为透明,从而后述的拍摄部300可以透过模具10识别定位键21。如此,定位标记11可以在模具10提供为多个。
参照图3,在基板20的一面可以形成要转印图案的树脂。如此,树脂可以在基板20的表面上涂层来形成。另外,在基板20中,可以在与形成有定位标记11的位置相对应的位置形成定位键21,该定位键21成为用于对准以使得基板20和模具10位于预先确定的固定位置的基准。另外,当基板20配置成树脂朝向上侧时,定位键21可以形成于比树脂靠下侧处。另外,树脂可以至少在照射紫外线(UV,Ultraviolet)之前透明。如此,通过将树脂提供为透明,后述的拍摄部300可以透过树脂来识别定位键21。如此,定位键21可以在基板20提供多个。
参照图4,定位标记11和定位键21可以形成为彼此相对应的的模样。例如,定位标记11可以形成为十字架模样。另外,当从上侧观察时,定位键21可以形成为形成定位标记11能够位于内侧的空间的排列有多个四边形的形状。
定位标记11以及定位键21可以成为模具10和基板20是否位于固定位置的基准。例如,若定位标记11与定位键21的至少一部分重叠,或不与定位键21相邻,则模具10和基板20可能不在固定位置(参照图4)。作为另一例,当定位标记11匹配地位于定位键21之间时,模具10和基板20可以在固定位置(参照图5)。
另一方面,将模具10转印于基板20的含义可以是将在模具10形成的图案转印于在基板20形成的树脂的含义。另外,将图案转印于树脂的含义可以是将在模具10形成的图案转印于在基板20形成的树脂的含义。
再参照图1,能够对准图案的转印装置1可以支承模具10以及基板20。另外,能够对准图案的转印装置1可以使得模具10和基板20彼此按压,从而彼此加压而将图案转印于树脂。另外,能够对准图案的转印装置1可以在将图案转印于树脂之前对准水平位置以使得模具10和基板20位于固定位置。即,能够对准图案的转印装置1可以对准水平位置以使图案准确地转印于树脂的固定位置。在此,固定位置可以意指,在当从上侧观察模具10以及基板20时定位标记11配置成匹配于定位键21之间的状态下模具10和基板20的水平位置。
如此,能够对准图案的转印装置1具有能够在将模具10的图案转印于基板20的树脂之前对准水平位置以使得模具10和基板20位于预先确定的固定位置的效果。另外,具有能够将图案准确地转印于树脂的预先确定的固定位置的效果。
参照图1、图6以及图7,能够对准图案的转印装置1可以包括第一按压单元100、第二按压单元200、拍摄部300、UV照射部400以及驱动部500。
第一按压单元100可以支承模具10。
第二按压单元200可以支承基板20。
第一按压单元100以及第二按压单元200中的任一个可以朝向另一个移动。即,第一按压单元100以及第二按压单元200中的任一个可以向垂直方向移动。另外,第一按压单元100以及第二按压单元200中的一个以上可以基于定位标记11以及定位键21沿着水平方向移动而对准水平位置以使得模具10和基板20位于固定位置。另外,第一按压单元100以及第二按压单元200中的一个以上可以升降而使得对准水平位置的模具10和基板20彼此按压,从而彼此加压而将图案准确地转印于树脂的固定位置。
拍摄部300可以识别模具10的定位标记11和基板20的定位键21。例如,拍摄部300可以是拍摄定位标记11和定位键21的相机。另外,拍摄部300可以透过模具10以及基板20的树脂来识别定位键21。另外,拍摄部300可以同时识别定位标记11和定位键21,或先识别定位标记11和定位键21中的任一个并基于此识别另一个。因此,可以通过拍摄部300识别定位标记11和定位键21的位置而确认定位标记11和定位键21之间针对固定位置的误差。如此,拍摄部300可以为了识别定位标记11以及定位键21而在拍摄位置和非拍摄位置之间沿着水平方向移动。例如,拍摄部300可以向用于识别定位标记11以及定位键21的拍摄位置移动。在此,如图6所示,拍摄位置可以意指,拍摄部300为了识别定位标记11以及定位键21而配置于模具10以及基板20的上侧预定位置。作为另一例,拍摄部300可以移动到不识别定位标记11以及定位键21的非拍摄位置。在此,如图7所示,非拍摄位置可以意指,拍摄部300为了不识别定位标记11以及定位键21而从拍摄位置即模具10以及基板20的上侧预定位置沿着水平方向移动来配置。即,非拍摄位置可以意指从拍摄位置沿着水平方向隔开配置。
UV照射部400可以为了将在基板20形成的树脂硬化而向树脂照射UV。如此,UV照射部400可以为了向树脂照射UV而在照射位置和非照射位置之间沿着水平方向移动。例如,UV照射部400可以移动到用于向树脂照射UV的照射位置。在此,如图7所示,照射位置可以意指,UV照射部400为了向树脂照射UV而配置于模具10以及基板20的上侧预定位置。此时,第二按压单元200可以是朝向第一按压单元100上升的状态。作为另一例,UV照射部400可以移动到用于不照射UV的非照射位置。在此,如图6所示,非照射位置可以意指,UV照射部400为了不向树脂照射UV而从照射位置即模具10以及基板20的上侧预定位置沿着水平方向移动来配置。即,非照射位置可以意指从照射位置沿着水平方向隔开配置。
拍摄部300和UV照射部400可以在水平方向上隔开设置。另外,拍摄部300和UV照射部400可以位于第一按压单元100的上侧。
参照图6以及图7,驱动部500可以使拍摄部300在拍摄位置和非拍摄位置之间沿着水平方向移动。另外,驱动部500可以使UV照射部400在照射位置和非照射位置之间沿着水平方向移动。
驱动部500可以包括支承体510以及致动器520。
支承体510可以支承拍摄部300以及UV照射部400。如此,支承体510可以构成为若支承体510水平移动则拍摄部300和UV照射部400一起水平移动。
致动器520可以通过使支承体510沿着水平方向移动,使得拍摄部300和UV照射部400一起沿着水平方向移动。例如,支承体510以及致动器520可以使拍摄部300移动到拍摄位置以使拍摄部300识别定位标记11以及定位键21。此时,支承体510以及致动器520可以使UV照射部400移动到非照射位置。作为另一例,支承体510以及致动器520可以使UV照射部400移动到照射位置以使UV照射部400向树脂照射UV。此时,支承体510以及致动器520可以使拍摄部300移动到非拍摄位置。
致动器520可以包括滚珠螺杆马达,支承体510可以通过滚珠螺杆马达的驱动沿着水平方向移动。
为了拍摄部300和UV照射部400顺畅地工作,需要将拍摄部300以及UV照射部400配置于模具10以及基板20的上侧预定位置。然而,由于拍摄部300和UV照射部400彼此所占的面积,存在拍摄部300和UV照射部400难以同时配置于模具10以及基板20的上侧预定位置的问题。因此,驱动部500选择性地使拍摄部300移动到拍摄位置或使UV照射部400移动到照射位置,可以分别在配置于模具10以及基板20的上侧预定位置的状态下工作。
如此,具有如下效果:驱动部500选择性地使拍摄部300移动到拍摄位置或使UV照射部400移动到照射位置,可以彼此无干涉地在分别配置于模具10以及基板20的上侧预定位置的状态工作。
参照图9,拍摄部300可以构成为在拍摄位置识别定位标记11以及定位键21,并可以调节拍摄位置。这样的拍摄部300可以构成为调整水平位置、垂直位置以及角度中的一个以上以使得形成有定位标记11以及定位键21的位置属于视场角内。另外,后述的第一拍摄部310和第二拍摄部320之间的距离可以构成为比第一定位标记11a和第二定位标记11b之间的距离更短。
拍摄部300可以具有用于识别模具10的定位标记11或者基板20的定位键21的焦距。如此,焦距可以包括识别定位标记11的第一焦距以及识别定位键21的第二焦距。另外,拍摄部300的焦距可以构成为能够从第一焦距以及第二焦距中的任一个变更为另一个。例如,拍摄部300的焦距可以构成为识别定位标记11后为了识别定位键21从第一焦距变更为第二焦距。
再参照图2以及图3,定位标记11可以包括第一定位标记11a以及从第一定位标记11a隔开设置的第二定位标记11b。另外,定位键21可以包括与第一定位标记11a相对应的第一定位键21a以及与第二定位标记11b相对应的第二定位键21b。
如此,拍摄部300可以包括第一拍摄部310以及第二拍摄部320以与多个定位标记11以及定位键21相对应。
第一拍摄部310可以识别第一定位标记11a以及第一定位键21a。
第二拍摄部320可以识别第二定位标记11b以及第二定位键21b。
如此,第一拍摄部310以及第二拍摄部320分别识别第一定位标记11a和第一定位键21a之间的相对位置以及第二定位标记11b和第二定位键21b之间的相对位置,从而具有第一拍摄部310和第二拍摄部320互补地识别位置而能够更准确地识别模具10和基板20是否位于固定位置的效果。
参照图6,第二按压单元200可以包括基板安放部210、调位部220、升降部230。
基板安放部210可以提供用于安放基板20的部分。
参照图6以及图7,升降部230可以使基板安放部210升降。即,升降部230可以使基板安放部210沿着垂直方向移动。如此,升降部230可以通过使基板安放部210升降,使基板20朝向第一按压单元100靠近,或从第一按压单元100隔开。如此,升降部230可以通过使基板20向第一按压单元100侧移动,将基板20按压于模具10。
调位部220可以调整基板安放部210的水平位置。例如,调位部220可以使基板安放部210沿着前后左右方向(水平方向)移动,并可以使基板安放部210旋转。如此,调位部220可以通过调整基板安放部210的位置,对准成模具10和基板20位于固定位置。另外,调位部220可以位于升降部230的上侧而通过升降部230升降。如此,调位部220可以包括第一调整部221、第二调整部222以及旋转部223。
第一调整部221可以为了调整基板安放部210的水平位置而使基板安放部210沿着前后方向(y轴方向)移动。换句而言,第一调整部221可以通过使基板安放部210沿着前后方向移动,使基板20沿着前后方向移动。
第二调整部222可以为了调整基板安放部210的水平位置而使基板安放部210沿着左右方向(x轴方向)移动。换句而言,第二调整部222可以通过使基板安放部210沿着左右方向移动,使基板20沿着左右方向移动。如此,第二调整部222可以为了使基板安放部210沿着左右方向移动,设置于第一调整部221的上方而使第一调整部221沿着左右方向移动。
旋转部223可以为了调整基板20和模具10的相对角度而使基板安放部210旋转。换句而言,旋转部223可以通过使基板安放部210旋转,调整基板20针对模具10的角度。
如此,调位部220可以是定位台(Alignment stage)。例如,调位部220可以是通过独立工作的多个模组形成移动工作(即,通过沿着x轴方向、y轴方向以及θ轴方向移动的各个模组的独立工作形成x轴方向、y轴方向以及θ轴方向上的移动工作)的xyθ台。作为另一例,调位部220可以是通过协同工作的多个模组形成移动工作(即,通过沿着u轴、v轴以及w轴移动的各个模组的工作组合形成x方向、Y方向以及θ方向上的移动工作)的uvw台。
如此,具有调位部220基于定位标记11以及定位键21调整基板安放部210的水平位置而能够对准成模具10和基板20位于固定位置的效果。
另一方面,第一按压单元100可以包括模具支承件(未图示)以及支承件移动部(未图示)。
模具支承件可以为了支承模具10而提供。
支承件移动部可以使模具支承件沿着水平方向移动而使得模具10的中心位置沿着水平方向移动。例如,当基板20具有比模具10相对大的面积时,支承件移动部可以使模具支承件移动以使模具10从基板20的上侧一位点移到另一位点,将模具10的图案局部地依次转印于具有比模具10大的面积的基板20(参照图10)。作为另一例,当多个基板20安放于基板安放部210时,支承件移动部可以使模具支承件移动以使模具10从多个基板20中的任一个的上侧移到另一个的上侧,将模具10的图案一个一个地依次转印于多个基板20(参照图11)。
参照图12以及图13,能够对准图案的转印装置1可以包括模具夹具111以及夹钳112。
模具夹具111可以支承模具10。另外,模具夹具111可以一部分开放形成为模具10的中心部朝向基板20暴露。此时,通过模具夹具111暴露的模具10的中心部可以意指在模具10形成有图案的部分或者被后述的UV透过窗120支承的模具10的部分。另外,模具夹具111可以支承模具10的边缘部。因此,模具夹具111可以通过使模具10的中心部暴露且支承模具10的边缘,固定支承模具10。这样的模具夹具111可以滑动插入到后述的上侧滑动部件和下侧滑动部件之间而被夹钳112支承。
夹钳112可以支承模具夹具111的边缘并将模具夹具111固定于第一按压单元100侧。另外,在夹钳112可以形成在下方支承模具夹具111的下侧滑动部件以及将被支承的模具夹具111在上方支承的上侧滑动部件。在这样的下侧滑动部件和上侧滑动部件之间可以插入模具夹具111。
另一方面,存在若向模具10施加的上侧压力以及下侧压力中的任一个压力超出预定范围而变高则模具10被弯曲的问题。
参照图6至图8,第一按压单元100可以包括UV透过窗120、密闭部130、第一排气部140以及密封部件150。
参照图7,UV透过窗120可以构成为使得从UV照射部400照射的UV透过。如此,UV透过窗120的下面可以支承模具10。另外,UV透过窗120可以被密闭部130环绕以与外部切断。
参照图8,密闭部130可以将UV透过窗120周围相对于外部密闭。换句而言,密闭部130提供为环绕UV透过窗120,从而可以将UV透过窗120与外部切断。如此,密闭部130的下方可以与模具夹具111接触。例如,密闭部130可以是一部分凸出成与模具夹具111接触的环状。另外,密闭部130可以提供为密闭部130的一部分和UV透过窗120隔开。换句而言,在密闭部130和UV透过窗120之间可以形成有预定的隔开空间S。如此,隔开空间S可以与第一排气部140连通。另外,残留在隔开空间S的内侧中的气体可以通过第一排气部140排出到外部。因此,隔开空间S可以是真空状态。
第一排气部140可以将UV透过窗120和密闭部130之间的气体排出到外部。换句而言,当密闭部130将UV透过窗120周围的空间相对于外部密闭时,第一排气部140可以将在隔开空间S内侧残留的气体排出到外部。如此,第一排气部140可以包括在密闭部130的内周面暴露的喷嘴。
参照图8,密闭部130的下端与模具夹具111接触而密闭隔开空间S。此时,密封部件150可以切断气体向模具夹具111和密闭部130之间流入。如此,密封部件150可以位于模具夹具111和密闭部130之间。例如,密封部件150可以包括嵌入在密闭部130的下面形成的槽中的弹性环。
参照图12至图14,第二按压单元200可以包括波纹管240以及第二排气部250。
波纹管240可以构成为将基板20周围的空间相对于外部密闭。换句而言,波纹管240可以通过伸长而将基板20周围的空间相对于外部密闭。另外,波纹管240可以为了当按压模具10和基板20时朝向第一按压单元100伸缩而具有多个折叠部。如此,波纹管240可以设置成一端部支承于基板安放部210且另一端部可以朝向第一按压单元100伸缩。例如,波纹管240可以朝向第一按压单元100伸长,此时,波纹管240的端部可以与第一按压单元100接触。如此,波纹管240与第一按压单元100接触,从而可以将基板20与外部切断。另外,波纹管240朝向基板20收缩,从而可以使基板20暴露到外部。
当波纹管240将基板20周围的空间相对于外部密闭时,第二排气部250可以将在密闭在波纹管240内部中的空间残留的气体排出到外部。如此,第二排气部250将在密闭在波纹管240内部中的空间残留的气体排出到外部,从而可以将基板20周围的空间保持为真空状态。如此,第二排气部250可以包括在波纹管240的内侧暴露的喷嘴。
如此,第一排气部140以及第二排气部250可以进行防止密闭部130内部的气体压力和波纹管240内部的气体压力之差超出预定范围的工作。
另外,可以是,密闭部130内部的气体压力影响向模具10上侧施加的压力,波纹管240内部的气体压力影响向模具10的下侧施加的压力。
因此,若第一排气部140以及第二排气部250防止密闭部130内部的气体压力和波纹管240内部的气体压力之差超出预定范围,则可以防止向模具10的上侧和下侧施加的压力之差超出预定范围。
如此,防止密闭部130内部的气体压力和波纹管240内部的气体压力之差超出预定范围来防止向模具10的上侧和下侧施加的压力之差超出预定范围,因此最终具有防止模具10被弯曲的效果。
参照图6,能够对准图案的转印装置1可以还包括控制部600。
控制部600可以执行用于第一按压单元100、第二按压单元200、拍摄部300、调位部220、UV照射部400、驱动部500以及调位部220的工作的控制。
控制部600可以进行使得第一按压单元100以及第二按压单元200中的任一个朝向另一个移动的控制。此时,控制部600可以为了使基板20升降而控制升降部230。
控制部600可以控制拍摄部300以识别定位标记11以及定位键21。
控制部600可以控制调位部220以调整所述基板安放部210的水平位置。此时,控制部600可以为了调整基板20的水平位置而控制第一调整部221、第二调整部222以及旋转部223中的一个以上。
控制部600可以控制驱动部500以使得为了将UV照射于树脂而UV照射部400位于照射位置。此时,控制部600可以控制驱动部500以使拍摄部300移动到非拍摄位置。另外,控制部600可以为了使拍摄部300识别定位标记11以及定位键21而控制驱动部500以使拍摄部300位于拍摄位置。此时,控制部600可以控制驱动部500以使UV照射部400移动到非照射位置。
控制部600可以控制升降部230、拍摄部300以及调位部220,以当基板20通过升降部230上升了预定距离时,拍摄部300识别定位标记11以及定位键21,调位部220调整基板安放部210的水平位置。另外,控制部600可以控制调位部220、升降部230以及拍摄部300,以当基板20通过升降部230上升了大于预定距离时,拍摄部300重新识别定位标记11以及定位键21,调位部220重新调整基板安放部210的水平位置。
控制部600可以控制驱动部500以使得若按压模具10和基板20则UV照射部400位于照射位置。另外,控制部600可以控制UV照射部400以使得为了硬化基板20的树脂而UV照射部400向树脂照射UV。
以下,参照图15,对根据本发明的一实施例的将形成有图案以及定位标记11的模具10与形成有树脂以及定位键21的基板20按压而制造图案基板的方法(S10)进行说明。在此,所谓“图案基板”定义为模具10的图案转印在基板20的树脂中的基板20。
制造图案基板的方法(S10)可以生产转印有图案的基板20。如此,在制造图案基板的方法(S10)中,可以将形成有图案以及定位标记11的模具10与形成有树脂以及定位键21的基板20按压而将图案转印于树脂。制造图案基板的方法(S10)可以包括夹钳固定步骤(S100)、移动步骤(S200)、升降步骤(S300)、拍摄步骤(S400)、调位步骤(S500)、密闭步骤(S600)、基板按压步骤(S700)、硬化步骤(S800)、密闭解除步骤(S900)、基板分离步骤(S1000)以及夹钳解除步骤(S1100)。
在夹钳固定步骤(S100)中,可以通过夹钳112将模具夹具111固定于第一按压单元100侧。此时,在夹钳112之间可以固定支承模具夹具111,在模具夹具111中可以安装模具10。如此,夹钳固定步骤(S100)可以在拍摄步骤(S400)之前执行。
在移动步骤(S200)中,可以使模具10沿着水平方向移动,并可以使拍摄部300沿着水平方向移动。如此,移动步骤(S200)可以包括模具水平移动步骤(S210)以及拍摄部移动步骤(S220)。
在模具水平移动步骤(S210)中,可以使得用于支承模具10的模具支承件的中心位置沿着水平方向移动。换句而言,在模具水平移动步骤(S210)中,可以通过使模具支承件沿着水平方向移动,移动模具10以将模具10配置于基板20的上侧预定位置。如此,模具水平移动步骤(S210)可以在拍摄步骤(S400)之前执行。
在拍摄部移动步骤(S220)中,可以使拍摄部300移动到用于识别定位标记11以及定位键21的拍摄位置。如此,在拍摄部移动步骤(S220)中,可以通过驱动部500使拍摄部300沿着水平方向移动。另外,拍摄部移动步骤(S220)可以在拍摄步骤(S400)之前执行,可以与模具水平移动步骤(S210)同时或者单独执行。
在升降步骤(S300)中,可以通过升降部230使调位部220上升,从而使基板20朝向第一按压单元100靠近。
在拍摄步骤(S400)中,拍摄部300可以拍摄在模具10形成的定位标记11以及在基板20形成的定位键21。另外,在拍摄步骤(S400)中,拍摄部300可以识别定位标记11以及定位键21,并可以识别模具10以及基板20是否位于固定位置。
在调位步骤(S500)中,调位部220可以调整基板20的水平位置。如此,在调位步骤(S500)中,可以基于在拍摄步骤(S400)中识别到的定位标记11以及定位键21的位置,调整基板20的水平位置以使定位标记11位于定位键21之间。
如此,拍摄步骤(S400)以及调位步骤(S500)可以当在升降步骤(S300)中基板20上升了预定距离时执行。另外,拍摄步骤(S400)以及调位步骤(S500)可以当通过升降步骤(S300)而基板20上升了大于预定距离时再次执行。如此,升降步骤(S300)、拍摄步骤(S400)以及调位步骤(S500)可以在基板20上升的期间执行多次。
在密闭步骤(S600)中,可以通过波纹管240将基板20周围的空间相对于外部密闭,并可以通过第二排气部250将在基板20周围的空间残留的气体排出到外部。另外,可以通过密闭部130将UV透过窗120周围的空间相对于外部密闭,并可以通过第一排气部140将在UV透过窗120周围的空间残留的气体排出到外部。如此,密闭步骤(S600)可以在调位步骤(S500)之后且基板按压步骤(S700)之前执行。
在基板按压步骤(S700)中,可以通过升降部230使调位部220上升,从而将模具10与基板20按压。此时,在模具10形成的图案可以转印于在基板20形成的树脂。
在硬化步骤(S800)中,可以通过向基板20的树脂照射UV,使树脂硬化。如此,硬化步骤(S800)可以包括UV照射部移动步骤(S810)以及UV照射步骤(S820)。
在UV照射部移动步骤(S810)中,可以使UV照射部400移动到用于向树脂照射UV的照射位置。如此,UV照射部移动步骤(S810)可以在基板按压步骤(S700)之后执行。
在UV照射步骤(S820)中,UV照射部400可以向树脂照射UV。如此,在UV照射步骤(S820)中,可以通过向树脂照射UV,使树脂硬化。
在密闭解除步骤(S900)中,可以使气体流入基板20周围的空间,使基板20周围的空间向外部开放。此时,波纹管240可以收缩。另外,可以使气体流入UV透过窗120周围的空间。如此,密闭解除步骤(S900)可以在基板按压步骤(S700)之后执行。
在基板分离步骤(S1000)中,可以通过升降部230使调位部220下降,从而将模具10从基板20分离。
在夹钳解除步骤(S1100)中,可以将夹钳112从第一按压单元100侧解除固定。此时,可以是,在夹钳112中固定支承有模具夹具111,在模具夹具111中安装有模具10。如此,夹钳解除步骤(S1100)可以在基板按压步骤(S700)之后执行。
另一方面,根据本发明的一实施例的制造图案基板的方法(S10)可以以执行其的计算机程序形式实现而存储在计算机可读取的记录介质中。计算机可读取的记录介质可以单独或者组合包括程序命令、数据文件、数据结构等。记录在计算机可读取的记录介质中的程序命令可以是为了实施例而特意设计并构成的,或者是计算机软件技术人员公知并可使用的。计算机可读取的记录介质的例子包括硬盘、软盘以及磁带之类磁性介质(magneticmedia),CD-ROM、DVD之类光记录介质(optical media),光磁软盘(floptical disk)之类磁光介质(magneto-optical media),以及只读存储器(ROM)、随机存取存储器(RAM)、闪存存储器等之类特意构成为存储程序命令并执行的硬件装置。
例如,存储在计算机可读取的记录介质中的计算机程序可以是编程为执行存储步骤、运算步骤以及输出步骤。
在存储步骤中,由拍摄部300拍摄的定位标记11以及定位键21的图像信息可以存储于计算机可读取的记录介质。
在运算步骤中,可以基于存储在计算机可读取的记录介质中的图像信息,运算定位标记11以及定位键21的位置信息。例如,运算的位置信息可以是与定位标记11和定位键21之间的固定位置有关的误差值。
在输出步骤中,可以基于运算出的位置信息,输出调整模具10或者基板20的位置的动作命令。另外,可以基于在输出动作命令之前运算出的位置信息预先判断模具10和基板20是否位于固定位置,并可以基于判断出的信息确定是否输出调整模具10或者基板20的位置的动作命令。在此,是否位于固定位置的判断可以通过各种方式判断。例如,若如图4所示,定位标记11与定位键21的至少一部分重叠,或者定位标记11不与定位键21相邻,则可以判断为模具10和基板20不在固定位置。作为另一例,如图5所示,当定位标记11匹配地位于定位键21之间时,可以判断为模具10和基板20位于固定位置。
以上,将本发明的实施例以具体实施方式进行了说明,但其只是例示,本发明不限于此,应解释为具有基于本说明书中公开的技术构思的最广的范围。本领域技术人员可以将公开的实施方式进行组合/替换来实施未提出的形状的图案,但其仍不超出本发明的范围。除此之外,本领域技术人员可以基于本说明书对公开的实施方式容易地进行变更或者变形,如此,变更或者变形也显而易见地属于本发明的权利范围。
Claims (26)
1.一种能够对准图案的转印装置,包括:
第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;
第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;
拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键;以及
UV照射部,与所述拍摄部沿着水平方向隔开设置,并用于将UV照射于所述树脂,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂,
所述UV照射部构成为能够在用于将UV照射于所述树脂的照射位置和不照射UV的非照射位置之间沿着水平方向移动,
所述拍摄部构成为能够在用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置和不识别所述定位标记以及所述定位键的非拍摄位置之间沿着水平方向移动,
当所述拍摄部位于拍摄位置时,所述UV照射部移动以位于非照射位置,当所述拍摄部位于非拍摄位置时,所述UV照射部移动以位于照射位置。
2.根据权利要求1所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
驱动部,使所述拍摄部以及所述UV照射部沿着水平方向移动,
所述驱动部使所述拍摄部在拍摄位置和非拍摄位置之间移动,并使所述UV照射部在所述照射位置和非照射位置之间移动。
3.根据权利要求2所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述驱动部包括:
支承体,支承所述拍摄部以及所述UV照射部;以及
致动器,使所述支承体沿着水平方向移动以使所述拍摄部以及所述UV照射部一起沿着水平方向移动。
4.根据权利要求3所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述致动器包括滚珠螺杆马达。
5.根据权利要求1所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
驱动部,使所述拍摄部以及所述UV照射部沿着水平方向移动;以及
控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述UV照射部的工作的控制,
所述驱动部使所述拍摄部在拍摄位置和非拍摄位置之间移动,并使所述UV照射部在所述照射位置和非照射位置之间移动,
所述控制部控制所述驱动部使得为了将UV照射于所述树脂而所述UV照射部位于所述照射位置,并控制所述驱动部使得为了识别所述定位标记以及所述定位键而所述拍摄部位于所述拍摄位置。
6.一种能够对准图案的转印装置,包括:
第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;
第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及
拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂,
所述拍摄部构成为,调整水平位置、垂直位置以及角度中的一个以上,以视场角朝向形成有所述定位标记以及所述定位键的位置。
7.根据权利要求6所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述拍摄部构成为具有识别所述定位标记的第一焦距以及识别所述定位键的第二焦距,并且焦距变更为所述第一焦距或者所述第二焦距。
8.根据权利要求6所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述定位标记包括第一定位标记以及第二定位标记,
所述定位键包括与所述第一定位标记相对应的第一定位键以及与所述第二定位标记相对应的第二定位键,
所述拍摄部包括:
第一拍摄部,用于识别所述第一定位标记以及所述第一定位键;以及
第二拍摄部,用于识别所述第二定位标记以及所述第二定位键。
9.根据权利要求1或6所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第二按压单元包括:
基板安放部,用于安放所述基板;以及
调位部,调整所述基板安放部的水平位置。
10.根据权利要求9所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第二按压单元还包括使所述调位部升降的升降部。
11.根据权利要求9所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述调位部包括第一调整部、第二调整部以及旋转部中的一个以上,
所述第一调整部为了调整所述基板安放部的水平位置而使所述基板安放部沿着前后方向移动,
所述第二调整部使所述基板安放部沿着左右方向移动,
所述旋转部使所述基板安放部旋转。
12.根据权利要求1或6所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第一按压单元还包括:
模具支承件,用于支承所述模具;以及
支承件移动部,使所述模具支承件沿着水平方向移动来移动所述模具的中心位置。
13.根据权利要求1或6所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第二按压单元包括:
基板安放部,用于安放所述基板;以及
调位部,调整安放有所述基板的基板安放部的水平位置,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述调位部的工作的控制。
14.根据权利要求9所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述调位部的工作的控制,
所述控制部控制所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,并控制所述拍摄部识别所述定位标记以及所述定位键,并且控制所述调位部调整所述基板安放部的水平位置。
15.根据权利要求11所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述调位部的工作的控制,
所述控制部为了调整所述基板的水平位置而控制所述第一调整部、所述第二调整部以及所述旋转部中的一个以上。
16.一种能够对准图案的转印装置,包括:
第一按压单元,对形成有图案的模具进行支承;
第二按压单元,对形成有树脂的基板进行支承;
模具夹具,一部分开放形成以使得所述模具的中心部朝向所述基板暴露,并支承所述模具的边缘部;以及
夹钳,支承所述模具夹具的两侧边缘而将所述模具夹具固定于所述第一按压单元侧,
所述夹钳形成有:
下侧滑动部件,在下方支承所述模具夹具;以及
上侧滑动部件,在上方支承被支承的所述模具夹具,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个能够朝向另一个移动,
使得所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将在所述模具形成的图案转印于在所述基板形成的树脂,
所述模具夹具滑动插入到所述上侧滑动部件和所述下侧滑动部件之间而被所述夹钳支承。
17.一种能够对准图案的转印装置,包括:
第一按压单元,对形成有图案的模具进行支承;
第二按压单元,对形成有树脂的基板进行支承;以及
模具夹具,支承所述模具的边缘部以使所述模具的中心部暴露,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个能够朝向另一个移动,
使得所述模具和所述基板彼此按压,从而将在所述模具形成的图案按压于在所述基板形成的树脂,
所述第一按压单元包括:
UV透过窗,支承所述模具,并使UV透过;
密闭部,呈环状凸出且下方与所述模具夹具接触而能够将所述UV透过窗周围相对于外部密闭;以及
第一排气部,当所述密闭部将所述UV透过窗周围的空间相对于外部密闭时,所述第一排气部用于将在密闭在所述密闭部的内部中的空间残留的气体排出到外部。
18.根据权利要求17所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第二按压单元包括:
波纹管,当按压所述模具和所述基板时,所述波纹管朝向所述第一按压单元伸缩,从而能够将所述基板周围的空间相对于外部密闭;以及
第二排气部,当所述波纹管将所述基板周围的空间相对于外部密闭时,所述第二排气部用于将在密闭在所述波纹管的内部中的空间残留的气体排出到外部,
所述第一排气部以及所述第二排气部进行防止所述密闭部内部的气体压力和所述波纹管内部的气体压力之差超出预定范围的工作。
19.根据权利要求17所述的能够对准图案的转印装置,其中,所述能够对准图案的转印装置还包括:
夹钳,支承所述模具夹具的边缘而将所述模具夹具固定于所述第一按压单元侧。
20.根据权利要求19所述的能够对准图案的转印装置,其中,
所述第一按压单元包括:
密封部件,为了切断气体向所述密闭部和所述模具夹具之间流入,所述密封部件位于所述密闭部和所述模具夹具之间。
21.一种能够对准图案的转印装置,包括:
第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;
第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及
拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,
所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂,
所述第二按压单元包括:
基板安放部,用于安放所述基板;
调位部,调整安放有所述基板的基板安放部的水平位置;以及
升降部,使所述调位部升降,
所述能够对准图案的转印装置还包括:
控制部,执行用于所述第一按压单元、所述第二按压单元、所述拍摄部以及所述调位部的工作的控制,
所述控制部控制所述升降部、所述调位部以及所述拍摄部,以当所述基板通过所述升降部上升了预定距离时,所述拍摄部识别所述定位标记以及所述定位键,所述调位部调整所述基板安放部的水平位置,并当所述基板通过所述升降部上升了大于所述预定距离时,所述拍摄部重新识别所述定位标记以及所述定位键,所述调位部重新调整所述基板安放部的水平位置。
22.一种制造图案基板的方法,将形成有图案以及定位标记的模具与形成有树脂以及定位键的基板按压而制造图案基板,其中,
所述制造图案基板的方法包括:
升降步骤,升降部使得用于对安放有所述基板的基板安放部的水平位置进行调整的调位部上升;
拍摄步骤,拍摄部对在所述模具形成的定位标记以及在基板形成的定位键进行拍摄;
调位步骤,基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而所述调位部调整所述基板的水平位置;以及
基板按压步骤,支承所述模具的第一按压单元以及支承所述基板的第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,从而使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,
执行多次所述升降步骤、所述拍摄步骤以及所述调位步骤,以当所述基板通过所述升降步骤上升了预定距离时,执行所述拍摄步骤以及所述调位步骤,并当所述基板通过所述升降步骤上升了大于预定距离时,再次执行所述拍摄步骤以及所述调位步骤。
23.根据权利要求22所述的制造图案基板的方法,其中,
所述制造图案基板的方法还包括:
模具水平移动步骤,通过支承件移动部使得用于支承所述模具的模具支承件沿着水平方向移动,从而使所述模具的中心位置沿着水平方向移动。
24.一种制造图案基板的方法,将形成有图案以及定位标记的模具与形成有树脂以及定位键的基板按压而制造图案基板,其中,
所述制造图案基板的方法包括:
拍摄步骤,拍摄部对在所述模具形成的定位标记以及在基板形成的定位键进行拍摄;
调位步骤,基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而调位部调整所述基板的水平位置;
基板按压步骤,支承所述模具的第一按压单元以及支承所述基板的第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,从而使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压;
UV照射步骤,UV照射部将UV照射于所述树脂;
拍摄部移动步骤,在所述拍摄步骤之前使拍摄部移动到用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置;以及
UV照射部移动步骤,在所述基板按压步骤之后使所述UV照射部移动到用于将UV照射于所述树脂的照射位置,
当所述拍摄部位于所述拍摄位置时,所述UV照射部移动步骤使所述UV照射部移动以使所述UV照射部位于不照射UV的非照射位置,
当所述UV照射部位于所述照射位置时,所述拍摄部移动步骤使所述拍摄部移动以使所述拍摄部位于不识别所述定位标记以及所述定位键的非拍摄位置。
25.根据权利要求22至24中任一项所述的制造图案基板的方法,其中,
所述制造图案基板的方法还包括:
基板分离步骤,在所述基板按压步骤之后将所述模具从所述基板分离。
26.一种计算机可读取的记录介质,存储有用于执行权利要求22至24中任一项的方法所包括的各步骤的计算机程序,其中,
所述计算机程序编程为执行如下步骤:
存储步骤,将由拍摄部拍摄的所述定位标记以及所述定位键的图像信息存储于所述计算机可读取的记录介质;
运算步骤,基于存储在所述计算机可读取的记录介质中的所述图像信息,运算所述定位标记以及所述定位键的位置信息;以及
输出步骤,基于运算出的所述位置信息,输出调整所述模具或者所述基板的位置的动作命令,
所述输出步骤执行为基于针对所述定位标记运算出的位置信息和针对所述定位键运算出的位置信息而先判断所述模具和所述基板是否位于固定位置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030222966A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Pattern writing apparatus and pattern writing method |
CN1782882A (zh) * | 2001-10-25 | 2006-06-07 | 东丽工程株式会社 | 利用激光束的识别码的打印方法和装置 |
KR20090083555A (ko) * | 2008-01-30 | 2009-08-04 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
JP2014071315A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Hitachi High-Technologies Corp | アライメントマーク検出装置、プロキシミティ露光装置、及び基板のアライメント方法 |
CN104249547A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 重机自动化系统有限公司 | 位置检测装置、基板制造装置、位置检测方法及基板的制造方法 |
CN104375395A (zh) * | 2013-08-13 | 2015-02-25 | 佳能株式会社 | 光刻装置、对准方法及物品的制造方法 |
US20170043511A1 (en) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, and method of manufacturing article |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI553701B (zh) * | 2003-10-09 | 2016-10-11 | 尼康股份有限公司 | Exposure apparatus and exposure method, component manufacturing method |
JP2008066850A (ja) * | 2005-09-08 | 2008-03-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | コンタクトイメージセンサが備える受光素子アレイ基板の位置調整方法、コンタクトイメージセンサの製造方法およびコンタクトイメージセンサ |
JP5061525B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-10-31 | 株式会社日立製作所 | インプリント方法及びインプリント装置 |
KR101313774B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2013-10-01 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 미세패턴 형성장치 |
KR20100026103A (ko) * | 2008-08-29 | 2010-03-10 | 주식회사 디엠에스 | 임프린트 장치 |
KR101105410B1 (ko) * | 2009-08-20 | 2012-01-17 | 주식회사 디엠에스 | 임프린트 장치 |
JP6021606B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2016-11-09 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法、およびインプリント方法 |
JP5813555B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-11-17 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置及び露光描画方法 |
JP6063650B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2017-01-18 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法 |
JP6415120B2 (ja) * | 2014-06-09 | 2018-10-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP7116552B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2022-08-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品製造方法 |
-
2020
- 2020-06-02 KR KR1020200066662A patent/KR102227885B1/ko active IP Right Grant
-
2021
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- 2021-05-31 TW TW110119673A patent/TWI784550B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1782882A (zh) * | 2001-10-25 | 2006-06-07 | 东丽工程株式会社 | 利用激光束的识别码的打印方法和装置 |
US20030222966A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Pattern writing apparatus and pattern writing method |
KR20090083555A (ko) * | 2008-01-30 | 2009-08-04 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
JP2014071315A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Hitachi High-Technologies Corp | アライメントマーク検出装置、プロキシミティ露光装置、及び基板のアライメント方法 |
CN104249547A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 重机自动化系统有限公司 | 位置检测装置、基板制造装置、位置检测方法及基板的制造方法 |
CN104375395A (zh) * | 2013-08-13 | 2015-02-25 | 佳能株式会社 | 光刻装置、对准方法及物品的制造方法 |
US20170043511A1 (en) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, and method of manufacturing article |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114609861A (zh) | 2022-06-10 |
TWI784550B (zh) | 2022-11-21 |
TW202147045A (zh) | 2021-12-16 |
KR102227885B1 (ko) | 2021-03-15 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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