CN113013217A - Oled显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种OLED显示基板，包括OLED发光器件以及设置于所述OLED发光器件的出光侧的功能膜层，用于将外界环境光由相干光转换为非相干光，改善眩光。本发明还涉及一种显示装置。

Description

OLED显示基板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示产品制作技术领域，尤其涉及一种OLED显示基板及显示装置。

背景技术

在传统的OLED中，通常采用带有四分之一波片的偏光片(POL)来防止或减弱环境光(如太阳)的反射，以便增加对比度。但偏光片会造成透过率的损失(约50％)，目前的发展方向是在OLED的上方使用COE(BM+color filter的)方式来代替偏光片进行防眩，但是，由于增加的BM(黑矩阵)相当于一层光栅，环境光(复色光)反射后会发生强烈的衍射，出现彩色眩光现象，熄屏状态尤为明显。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种OLED显示基板及显示装置，解决COE产品眩光的问题。

为了达到上述目的，本发明实施例采用的技术方案是：一种OLED显示基板，其特征在于，包括OLED发光器件以及设置于所述OLED发光器件的出光侧的功能膜层，用于将外界环境光由相干光转换为非相干光。

可选的，还包括设置于所述OLED发光器件的出光侧的盖板，所述功能膜层设置于所述OLED发光器件和所述盖板之间，或者所述功能膜层设置于所述盖板远离所述OLED发光器件的一侧。

可选的，所述OLED发光器件包括衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的发光结构层和盖板，所述发光结构层包括彩膜层和黑矩阵层，所述黑矩阵层和所述盖板之间设置有所述功能膜层，所述功能膜层在所述衬底基板上的正投影完全覆盖所述黑矩阵层在所述衬底基板上的正投影。

可选的，所述黑矩阵层上设置有多个开口，所述彩膜层形成于所述开口处，所述彩膜层和所述黑矩阵层远离所述衬底基板的一侧设置有封装层，所述功能膜层设置于所述封装层远离所述衬底基板的一侧。

可选的，所述功能膜层为防眩雾化膜层，包括PET基材和均匀分布于所述PET基材内的亚克力微粒。

可选的，所述防眩雾化膜层的厚度为1-100um。

可选的，所述功能膜层为IDF膜层，包括沿垂直于所述OLED发光器件的出光方向的第一方向上交替排布的第一折射率层和第二折射率层，所述第一折射率层的折射率大于所述第二折射率层的折射率。

可选的，所述第一折射率层的材质包括乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯，所述第二折射率层的材质包括聚氨酯甲基丙烯酸齐聚物或者2-羟基-2-甲基丙苯酚。

可选的，所述IDF膜层的厚度为1-200um。

可选的，所述功能膜层为采用半灰阶掩膜板曝光形成的微观凹凸结构。

可选的，所述微观凹凸结构的厚度为0.1-20um。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的OLED显示基板。

本发明的有益效果是：通过所述功能膜层的设置，将环境光由相干光转换为非相干光，降低衍射，改善眩光。

附图说明

图1表示出现眩光现象的光路示意图；

图2表示本发明实施例中防眩雾化膜层的结构示意图；

图3表示本发明实施例中OLED显示基板结构示意图一；

图4表示本发明实施例中OLED显示基板结构示意图二；

图5表示本发明实施例中OLED显示基板结构示意图三；

图6表示本发明实施例中OLED显示基板结构示意图四；

图7表示本发明实施例中OLED显示基板结构示意图五；

图8表示本发明实施例中形成微观凹凸结构的工艺流程图一；

图9表示本发明实施例中形成微观凹凸结构的工艺流程图二；

图10表示本发明实施例中形成微观凹凸结构的工艺流程图三；

图11表示本发明实施例中微观凹凸结构的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

图1为外界环境光入射产生眩光的光路示意图。发生衍射有两个必要条件：1、光源为相干光源；2、有阻挡光线前进的狭缝或光栅(狭缝的宽度要和波长在一个数量级，甚至更小)。在COE技术方案中，BM(黑矩阵)是必须存在的，参考图1，黑矩阵层1的开口处形成有彩膜层2，而且受制于OLED像素的大小，BM的开口宽度也无法进行较大的调整，相当于光栅这个因素必然存在且很难优化。图1中入射的是相干光，经BM反射后的光仍然是相干光，因此，本实施例从光源的相干性入手，解决衍射造成的眩光问题

具体的，本实施例提供一种OLED显示基板，其特征在于，包括OLED发光器件以及设置于所述OLED发光器件的出光侧的功能膜层5，用于将外界环境光由相干光转换为非相干光，改善眩光。

如图3-图7所示，所述功能膜层5将外界环境光由相干光转换为非相干光，减轻或消除衍射，改善彩色眩光的问题。

所述功能膜层5的具体设置位置，以及具体结构形式可以有多种，本实施例中示例性的，所述OLED显示基板还包括设置于所述OLED发光器件的出光侧的盖板6，所述功能膜层5设置于所述OLED发光器件和所述盖板6之间，或者所述功能膜层5设置于所述盖板6远离所述OLED发光器件的一侧。

图3、图5和图7均表示所述功能膜层5设置于所述OLED发光器件和所述盖板6之间，图4和图6表示所述功能膜层5设置于所述盖板6远离所述OLED发光器件的一侧。以下对所述功能膜层5的位于不同位置的结构分别具体介绍。

本实施例中示例性的，所述OLED发光器件包括衬底基板1，以及依次设置于所述衬底基板1上的发光结构层和盖板6，所述发光结构层包括彩膜层3和黑矩阵层2，所述黑矩阵层2和所述盖板6之间设置有所述功能膜层5，所述功能膜层5在所述衬底基板1上的正投影完全覆盖所述黑矩阵层2在所述衬底基板1上的正投影。

本实施例中，主要是减轻或消除所述黑矩阵对环境光的衍射，以消除眩光，因此，所述功能膜层5设置于所述黑矩阵层2和所述盖板6之间，且所述功能膜层5在所述黑矩阵层2上的正投影完全覆盖所述黑矩阵层2。

为了有效的减少或消除进入所述OLED发光器件的相干光，不但在所述黑矩阵层2和所述盖板6之间设置有所述功能膜层5，所述彩膜层和所述盖板之间也设置有所述功能膜层5。为了简化工艺步骤，所述黑矩阵层2和所述盖板6之间的所述功能膜层5，以及所述彩膜层3和所述盖板6之间的所述功能膜层5为一体结构。

本实施例中示例性的，所述黑矩阵层2上设置有多个开口，所述彩膜层3形成于所述开口处，所述彩膜层3和所述黑矩阵层2远离所述衬底基板1的一侧设置有封装层4，所述功能膜层5设置于所述封装层4远离所述衬底基板1的一侧。

需要说明的是，所述盖板6具有硬度大、抗划伤能力强等特性，因此本实施例中优选的，所述功能膜层5设置于所述盖板6远离所述OLED发光器件的一侧。

本实施例中示例性的，所述功能膜层5为防眩雾化膜层，包括PET基材和均匀分布于所述PET基材内的亚克力微粒。本实施例中，通过所述防眩雾化膜层将入瞳的光线打散，消除光线的相干性。

如图2、图5和图6所示，所述防眩雾化膜层(AG，Anti-Glare)，是一种表面处理膜层，可以使光线产生漫反射，用来减少panel的镜面反射率，所述微粒是均匀分布于所述PET基材上的，所述微粒的密度越大，雾化度(haze)越高，则防眩功能越强。

本实施例中示例性的，所述微粒的直径小于或等于30um。

本实施例的一具体实施方式中，所述微粒的直径为0.1-5um，利于所述微粒均匀分布于所述PET基材内。

本实施例中示例性的，所述防眩雾化膜层的厚度为1-100um。

本实施例的一具体实施方式中，所述防眩雾化膜层的厚度为10-20um

本实施例中示例性的，所述防眩雾化膜层通过胶层与其他结构连接，图5中，所述防眩雾化膜层的两层分别通过压敏胶PSA胶与盖板6和封装层4连接，但并不以此为限。

本实施例中示例性的，所述功能膜层5为IDF(internal refractive-indexdistribution film)膜层，包括沿垂直于所述OLED发光器件的出光方向的第一方向(参考图3中的X方向)上交替排布的第一折射率层和第二折射率层，所述第一折射率层的折射率大于所述第二折射率层的折射率。

如图3和图4所示，所述IDF(internal refractive-index distribution film)膜层，是一种散射膜层，通过内部高低折射率交替分布的百叶窗结构设计，达到控制透射和散射光线的方向的效果，本实施例中，通过IDF膜层将入瞳的光线打散，消除光线的相干性。

所述第一折射率层和所述第二折射率层的材质可根据实际需要设定，本实施例中示例性的，所述第一折射率层的材质主要包括乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯，所述第二折射率层的材质主要包括聚氨酯甲基丙烯酸齐聚物或者2-羟基-2-甲基丙苯酚。

乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯的分子式如下：

聚氨酯甲基丙烯酸齐聚物的分子式如下：

2-羟基-2-甲基丙苯酚的分子式如下：

本实施例中示例性的，所述IDF膜层的厚度为1-200um。

本实施例的一具体实施方式中，所述IDF膜层的厚度为50-100um。

本实施例中示例性的，所述IDF膜层通过胶层与其他结构连接，图3中，所述IDF膜层的两层分别通过压敏胶PSA胶与盖板6和封装层4连接，但并不以此为限。

本实施例中示例性的，所述功能膜层5为采用半灰阶掩膜板曝光形成的微观凹凸结构。

如图7所示，所述功能膜层5为所述微观凹凸结构的示意图，图8-图10为形成所述微观凹凸结构的流程示意图。

微观凹凸结构(Embossing)是利用half tone mask(半灰阶掩膜板)在有机层上曝光形成的具有微观凹凸形貌bump，实现外界环境光的散射。

所述微观凹凸结构的具体形貌可以有多种，图7和图10表示出了本实施例的一实施方式中的一种微观形貌，图11中表示出了微观凹凸结构的一种具体结构形式，为六边形的双环形结构，但并不以此为限。

图8表示在所述封装层4上形成透明树脂层51后的结构示意图；所述透明树脂层需要满足透明度大于80％，可以采用亚克力或PLN(聚酰亚胺)，但并不以此为限；

图9表示通过半灰阶掩膜板52对所述透明树脂层51进行曝光的状态示意图；

图10表示形成所述微观凹凸结构后的示意图。

本实施例中示例性的，所述微观凹凸结构的厚度为0.1-20um。

本实施例的一具体实施方式中，所述微观凹凸结构的厚度为1-2um。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的OLED显示基板。

所述显示装置可以为：液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。

以上所述为本发明较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明保护范围。

Claims (12)

1.一种OLED显示基板，其特征在于，包括OLED发光器件以及设置于所述OLED发光器件的出光侧的功能膜层，用于将外界环境光由相干光转换为非相干光。

2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，还包括设置于所述OLED发光器件的出光侧的盖板，所述功能膜层设置于所述OLED发光器件和所述盖板之间，或者所述功能膜层设置于所述盖板远离所述OLED发光器件的一侧。

3.根据权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述OLED发光器件包括衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的发光结构层和盖板，所述发光结构层包括彩膜层和黑矩阵层，所述黑矩阵层和所述盖板之间设置有所述功能膜层，所述功能膜层在所述衬底基板上的正投影完全覆盖所述黑矩阵层在所述衬底基板上的正投影。

4.根据权利要求3所述的OLED显示基板，其特征在于，所述黑矩阵层上设置有多个开口，所述彩膜层形成于所述开口处，所述彩膜层和所述黑矩阵层远离所述衬底基板的一侧设置有封装层，所述功能膜层设置于所述封装层远离所述衬底基板的一侧。

5.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述功能膜层为防眩雾化膜层，包括PET基材和均匀分布于所述PET基材内的亚克力微粒。

6.根据权利要求5所述的OLED显示基板，其特征在于，所述防眩雾化膜层的厚度为1-100um。

7.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述功能膜层为IDF膜层，包括沿垂直于所述OLED发光器件的出光方向的第一方向上交替排布的第一折射率层和第二折射率层，所述第一折射率层的折射率大于所述第二折射率层的折射率。

8.根据权利要求7所述的OLED显示基板，其特征在于，所述第一折射率层的材质包括乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯，所述第二折射率层的材质包括聚氨酯甲基丙烯酸齐聚物或者2-羟基-2-甲基丙苯酚。

9.根据权利要求7所述的OLED显示基板，其特征在于，所述IDF膜层的厚度为1-200um。

10.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述功能膜层为采用半灰阶掩膜板曝光形成的微观凹凸结构。

11.根据权利要求10所述的OLED显示基板，其特征在于，所述微观凹凸结构的厚度为0.1-20um。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述的OLED显示基板。

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