CN113004771A - 一种设备保养剂以及设备的保养方法 - Google Patents
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- 238000012423 maintenance Methods 0.000 title claims abstract description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 9
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 8
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 8
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 5
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)-1h-imidazole Chemical class C1=CNC(C=2NC=CN=2)=N1 AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
- C09D163/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
- C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
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- Paints Or Removers (AREA)
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Abstract
本申请提供一种设备保养剂以及设备的保养方法，所述设备保养剂包括：八笼型倍半硅氧烷涂层，质量百分数为0.5‑30％；树脂，质量百分数为40‑80％；单体，质量百分数为0.1‑20％；以及光引发剂，质量百分数为1‑10％。该设备保养剂具有优异柔性和耐磨性，所述设备保养剂包括八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，该涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能，有机溶剂能够在GPOSS涂层上轻松和干净的滑动。将该设备保养剂涂覆在所述设备的表面形成所述固态保养层，有利于提升生产时间，减少设备使用故障率。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种设备保养剂以及设备的保养方法。
背景技术
随着显示技术的发展，薄膜晶体管液晶显示面板(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display，TFT-LCD)、有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Display，OLED)、低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon，LTPS)等显示技术呈现出产品规格多元化、产品技术多元化发展的趋势。目前，在市场上占有主导地位还是TFT-LCD，特别是大尺寸显示产品中凭借着价格优势、良率优势等仍占据主导地位。TFT-LCD想要持续保持价格优势，一方面，需要做到扩建工厂，增加产能；另一方面，需要为提升生产时间(Tact time)，降本增效。
其中，阵列基板(Array)和彩色滤光片(Color Filter，CF)作为TFT-LCD中最重要、最基本的制程，对于TFT-LCD的产品性能起到重要的作用。目前，很多产线的生产时间(Tacttime)已经达到机台所承受的极限，因此，通过继续提升生产时间提升产能会比较困难。根据产能损失时间进行分析，技术人员(用户)认为大部分的机台因此使用年限较长而导致设备出现故障。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种设备保养剂以及设备的保养方法，以解决设备无法提升生产时间，或者设备使用年限较长时容易出现故障的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种设备保养剂，包括：八笼型倍半硅氧烷涂层，质量百分数为0.5-30％；树脂，质量百分数为40-80％；单体，质量百分数为0.1-20％；以及光引发剂，质量百分数为1-10％。
进一步地，所述八笼型倍半硅氧烷涂层的分子结构式为
其中，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8均包括聚二甲基硅氧烷类衍生物、辛基[(3-环氧丙氧基丙基)二甲基甲硅烷]氧基辛基倍半硅氧烷、异辛基多面体低聚倍半硅氧烷中的任一种。
进一步地，所述聚二甲基硅氧烷类衍生物的分子结构式为
其中，n为1-50；且Si支链包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基中的任一种。
进一步地，所述树脂包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯中的任一种。
进一步地，所述单体包括丙烯酸异辛酯和/或丙烯酸酯。
进一步地，所述光引发剂包括肟脂衍生物、双咪唑衍生物、苯乙酮衍生物中的任一种。
为实现上述目的，本发明还提供一种设备的保养方法，包括如下步骤：提供一设备和前文所述的设备保养剂；涂布所述设备保养剂于所述设备的表面以使所述设备保养剂在所述设备的表面形成一液态保养层；以及对所述液态保养层进行光照处理，形成固态保养层。
进一步地，在所述涂布所述设备保养剂于一设备的表面步骤之前还包括包括如下步骤：采用丙酮擦拭所述设备的表面；采用无尘布擦拭所述设备的表面进行二次清洁处理。
进一步地，在所述形成固态保养层的步骤中，采用紫外光照射所述液态保养层1-20分钟，形成所述固态保养层。
进一步地，所述设备包括清洗设备、涂布设备、热烤设备、曝光设备、显影设备以及修补设备。
本发明的技术效果在于，提供一种设备保养剂以及设备的保养方法，该设备保养剂具有优异柔性和耐磨性，所述设备保养剂包括八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，该涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能，有机溶剂能够在GPOSS涂层上轻松和干净的滑动。将该设备保养剂涂覆在所述设备的表面形成所述固态保养层，该固态保养层为多功能透明超疏液涂层，可以减少设备保养时间、保养工作，另外该固态保养层具有优异柔性和耐磨性，所述固态保养层中的SiOx无机组分赋予涂层优异的防刮性能，因此，可以保护所述设备的表面免受运行或保养时造成的磨损，从而有利于提升生产时间，减少设备使用故障率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供设备的保养方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本实施例提供一种设备保养剂，所述设备保养剂包括：八笼型倍半硅氧烷涂层，质量百分数为0.5-30％；树脂，质量百分数为40-80％；单体，质量百分数为0.1-20％；以及光引发剂，质量百分数为1-10％。
在本实施例中，所述八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，其分子结构式为
其中，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8均包括聚二甲基硅氧烷类衍生物、辛基[(3-环氧丙氧基丙基)二甲基甲硅烷]氧基辛基倍半硅氧烷(octakis[(3-glycidoxypropyl)dimethylsiloxy]octasilsesquioxane)、异辛基多面体低聚倍半硅氧烷(isooctylpolyhedral oligomeric silsesquioxane)、氨基丙基异丁基硅氧烷类衍生物(aminopropylisobutyl)中的任一种。所述八笼型倍半硅氧烷涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能。
在本实施例中，所述聚二甲基硅氧烷类衍生物的分子结构式为
其中，n为1-50；且Si支链包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基中的任一种。
在本实施例中，所述树脂包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯中的任一种。
在本实施例中，所述单体包括丙烯酸异辛酯和/或丙烯酸酯。
在本实施例中，所述光引发剂包括肟脂衍生物、双咪唑衍生物、苯乙酮衍生物中的任一种。
本实施例提供一种设备保养剂，该设备保养剂具有优异柔性和耐磨性，所述设备保养剂包括八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，该涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能，有机溶剂能够在GPOSS涂层上轻松和干净的滑动。
如图1所示，本申请实施例提供设备的保养方法的流程图。
本实施例还提供一种设备的保养方法，该方法用以保养设备，该设备包括清洗设备(如清洗机)、涂布设备(Coater)、热烤设备(如UV设备)、曝光设备、显影设备、修补设备、AOI设备、Oven设备、Roller设备以及测试等设备。
所述设备的保养方法包括如下步骤S1)-S5)。
S1)采用丙酮擦拭所述设备的表面。具体的采用所述丙酮擦拭所述设备的表面进行初步清洁。
S2)采用无尘布擦拭所述设备的表面进行二次清洁处理。该无尘布为百级无尘布。
S3)提供一设备和前文所述的设备保养剂。
具体的，所述设备保养剂组分按质量分数包括：0.5-30％八笼型倍半硅氧烷涂层；40-80％树脂；0.1-20％单体；以及1-10％光引发剂。
在本实施例中，所述八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，其分子结构式为
其中，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8均包括聚二甲基硅氧烷类衍生物、辛基[(3-环氧丙氧基丙基)二甲基甲硅烷]氧基辛基倍半硅氧烷(octakis[(3-glycidoxypropyl)dimethylsiloxy]octasilsesquioxane)、异辛基多面体低聚倍半硅氧烷(isooctylpolyhedral oligomeric silsesquioxane)、氨基丙基异丁基硅氧烷类衍生物(aminopropylisobutyl)中的任一种。所述八笼型倍半硅氧烷涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能。
在本实施例中，所述聚二甲基硅氧烷类衍生物的分子结构式为
其中，n为1-50；且Si支链包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基中的任一种。
在本实施例中，所述树脂包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯中的任一种。
在本实施例中，所述单体包括丙烯酸异辛酯和/或丙烯酸酯。
在本实施例中，所述光引发剂包括肟脂衍生物、双咪唑衍生物、苯乙酮衍生物中的任一种。
S4)涂布所述设备保养剂于所述设备的表面以使所述设备保养剂在所述设备的表面形成一液态保养层。
具体的，在所述设备的表面均匀地涂布所述设备保养剂，形成膜厚均一的所述液态保养层。
S5)对所述液态保养层进行光照处理，形成固态保养层。
具体的，采用紫外光(UV)照射所述液态保养层1-20分钟，形成所述固态保养层。所述固态保养层为多功能透明超疏液涂层，可以减少设备保养时间、保养工作，另外该固态保养层具有优异柔性和耐磨性，所述固态保养层中的SiOx无机组分赋予涂层优异的防刮性能，因此，可以保护所述设备的表面免受运行或保养时造成的磨损。
本发明的技术效果在于，提供一种设备保养剂以及设备的保养方法，该设备保养剂具有优异柔性和耐磨性，所述设备保养剂包括八笼型倍半硅氧烷涂层(简称GPOSS)，该涂层具有较高的疏水、疏油、抗污的性能，有机溶剂能够在GPOSS涂层上轻松和干净的滑动。将该设备保养剂涂覆在所述设备的表面形成所述固态保养层，该固态保养层为多功能透明超疏液涂层，可以减少设备保养时间、保养工作，另外该固态保养层具有优异柔性和耐磨性，所述固态保养层中的SiOx无机组分赋予涂层优异的防刮性能，因此，可以保护所述设备的表面免受运行或保养时造成的磨损，从而有利于提升生产时间，减少设备使用故障率。
以上对本申请实施例所提供的一种设备保养剂以及设备的保养方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (10)
1.一种设备保养剂，其特征在于，包括：
八笼型倍半硅氧烷涂层，质量百分数为0.5-30％；
树脂，质量百分数为40-80％；
单体，质量百分数为0.1-20％；以及
光引发剂，质量百分数为1-10％。
2.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，
所述八笼型倍半硅氧烷涂层的分子结构式为
其中，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8均包括聚二甲基硅氧烷类衍生物、辛基[(3-环氧丙氧基丙基)二甲基甲硅烷]氧基辛基倍半硅氧烷、异辛基多面体低聚倍半硅氧烷中的任一种。
3.根据权利要求2所述的设备保养剂，其特征在于，
所述聚二甲基硅氧烷类衍生物的分子结构式为
其中，n为1-50；且Si支链包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基中的任一种。
4.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，
所述树脂包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯中的任一种。
5.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，
所述单体包括丙烯酸异辛酯和/或丙烯酸酯。
6.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，
所述光引发剂包括肟脂衍生物、双咪唑衍生物、苯乙酮衍生物中的任一种。
7.一种设备的保养方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一设备和如权利要求1-6任一项所述的设备保养剂；
涂布所述设备保养剂于所述设备的表面以使所述设备保养剂在所述设备的表面形成一液态保养层；以及
对所述液态保养层进行光照处理，形成固态保养层。
8.根据权利要求7所述的设备的保养方法，其特征在于，
在所述涂布所述设备保养剂于一设备的表面步骤之前还包括包括如下步骤：
采用丙酮擦拭所述设备的表面；
采用无尘布擦拭所述设备的表面进行二次清洁处理。
9.根据权利要求8所述的设备的保养方法，其特征在于，
在所述形成固态保养层的步骤中，采用紫外光照射所述液态保养层1-20分钟，形成所述固态保养层。
10.根据权利要求7所述的设备的保养方法，其特征在于，所述设备包括清洗设备、涂布设备、热烤设备、曝光设备、显影设备以及修补设备。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110206939.3A CN113004771A (zh) | 2021-02-24 | 2021-02-24 | 一种设备保养剂以及设备的保养方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110206939.3A CN113004771A (zh) | 2021-02-24 | 2021-02-24 | 一种设备保养剂以及设备的保养方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113004771A true CN113004771A (zh) | 2021-06-22 |
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ID=76385699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110206939.3A Pending CN113004771A (zh) | 2021-02-24 | 2021-02-24 | 一种设备保养剂以及设备的保养方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113004771A (zh) |
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