CN112993765A - 用于气体室的维护设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于气体室(2.1至2.n)的维护设备(1)，维护设备具有：用于处理存在于至少一个气体室(2.1至2.n)中的气体的气体处理装置(3)；用于监测气体的至少一个气体特性的至少一个传感器装置；至少一个与气体处理装置(3)和至少一个传感器装置耦联的接头(7.1至7.n)，该接头构造成用于与气体室(2.1至2.n)耦联；至少一个用于将气体从气体室(2.1至2.n)输送到气体处理装置(3)中并且从气体处理装置(3)至少间接地输送回到气体室(2.1至2.n)中的输送装置(8)；以及至少一个控制单元(22)，该控制单元至少与传感器装置连接并且至少监测和控制所述输送装置(8)和/或所述气体处理装置(3)。

Description

用于气体室的维护设备

技术领域

本发明涉及一种用于气体室的维护设备。

背景技术

由现有技术通常已知具有气体室的设备，例如电开关设备，其中气体室是用于气体绝缘的电高压运行器件的容器。这种高压运行器件例如是电功率开关和测量变换器。

这种电高压运行器件填充有绝缘气体和灭弧气体作为保护气体，例如六氟化硫，简称SF₆。保护气体在预先给定的最小压力(例如6巴过压)下被封闭在相应的气体室中，并且使得在电触头断开时在电触头之间产生的电弧熄灭。在此，安全功能尤其取决于保护气体的纯度。保护气体的纯度尤其可能由于湿气或空气渗入保护气体体积中或由于产生保护气体的分解产物而受到损害。

即使气体室的运行压力是大气压的多倍，由于结构原因，通常也不能避免水蒸汽形式的湿气通过扩散渗入气体室中。渗入气体室的水蒸汽降低了保护气体的纯度，并且因此降低了其电气性能，尤其是其介电常数。然而，原则上，保护气体中的水分含量应当足够低，以使保护气体的压力露点不超过-5℃。

为了实现这一点，由EP 3 283 833 B1公知一种装置，该装置包括

-填充有保护气体的第一气体室和第二气体室，

-连接第一气体室和第二气体室的管路系统，

-布置在管路系统中的压缩机，

-布置在管路系统中的气体干燥总成，

-用于检测在管路系统内的气体压力的器件，

-阀，该阀可以被操控成，使得压缩机能够选择性地将气体从第一气体室输送到第二气体室中并且将气体从第二气体室输送到第一气体室中，

-用于根据管路系统内的气体压力控制压缩机的器件，以及

-用于根据气体的期望的输送方向控制所述阀的器件。

此外，描述了一种用于利用在过压下具有运行压力和预先给定的最小压力的在气体室中存在的保护气体气氛来干燥气体室的方法，其中监测气体室的所述预先给定的最小压力，并且所述运行压力大于所述最小压力。该方法包括以下步骤：

-从气体室中取出保护气体的第一部分量，其中所述部分量相当于小于或等于所述运行压力和所述最小压力之间的差值的压力差，

-将干燥的或变干的保护气体的第二部分量引入气体室中直至大于最小压力的气体压力，并且

-在预定的等待时间之后重复上述方法步骤。

发明内容

本发明的任务在于，提供一种用于气体室的新型的维护设备。

根据本发明，该任务通过具有本发明所说明的特征的维护设备来解决。

本发明的有利的设计方案是实施例的主题。

根据本发明的用于气体室的维护设备包括用于处理存在于至少一个气体室中的气体的气体处理装置，其中所述气体处理装置构造用于实施所述气体的清洁和/或干燥和/或调温，以便尤其维持或恢复所述气体的功能性。此外，维护设备包括用于监测气体的至少一个气体特性的传感器装置，其中所述传感器装置被构造成，检测气体中的气体压力和/或气体密度和/或气体温度和/或气体湿度和/或气体中的分解产物的浓度作为气体特性，以便尤其能够实现所述气体处理装置的精确控制，例如用于对气体除湿和/或清洁。此外，该维护设备还包括至少一个与气体处理装置和至少一个传感器装置耦联的接头，该接头构造成与气体室耦联，并且包括至少一个输送装置，该输送装置用于将气体从气体室输送到气体处理装置中以及将气体从气体处理装置至少间接地输送回气体室中。附加地，设置有至少一个控制单元，该控制单元至少与传感器装置连接并且至少监测和控制输送装置和/或气体处理装置。

该维护设备能够在至少一个气体室、例如电开关设备的气体室处实现可靠的气体处理。

在维护设备的一个可能的设计方案中，该维护设备被构造用于，利用控制单元借助于在接头和气体处理装置之间的管路的已知体积和/或连接软管的已知体积和/或气体处理装置的气体储罐的已知体积来求取在连接的气体室中的气体体积，在所述连接软管中构造有接头。此外，在该设计方案中，维护设备构造为，在从气体室取出气体时利用控制单元逐级用气体依次充满连接软管、在接头和气体处理装置之间的管路和气体储罐，并且同时监测气体室内的气体压力，或者在逐级依次从连接软管取出气体时用取出的气体充满气体室、充满在接头和气体处理装置和气体储罐之间的管路，并且同时监测气体室内的气体压力，并且根据在监测气体室内的气体压力时求取的压力变化求取气体室中的气体体积。为了监测气体室内的气体压力，控制装置尤其使用传感器装置的压力传感器，该压力传感器例如尽可能直接地与气体室连接。在逐级地充满气体或从所述已知体积中取出气体之前，有利地建立限定的初始状态，例如通过将该体积抽真空或通过以预先给定的压力加载该体积，该预先给定的压力大于气体室的当前的运行压力。备选地，可以借助于维护设备内的传感器来求取具体存在的初始状态。随后，通过所描述的逐级的充满或者从已知的体积中取出气体，发生在已知的体积和气体室之间的逐级的压力平衡。借助于所述维护设备的前述设计方案，可以特别精确地、自动地确定所连接的气体室的内部的自由体积。气体室的内部自由体积是通常不能由气体室的运行者准确了解的参量。因此，通过该设计方案，维护设备能够确定未知的体积并且在参考该参量的情况下更可靠地并且更有效地执行与安全相关的控制过程。由于确定气体室的体积，例如可以精确地设定和控制在气体处理过程的过程中从气体室中取出多少气体量，而不会达到或低于气体室的预先给定的最小压力。

在维护设备的另一个可能的设计方案中，能够使用具有不同长度的连接软管，其中为此，为了确定其中构造有接头的连接软管的体积，预先给定和存储不同的限定的长度。也存在如下可能性，即，所使用的连接软管的长度和必要时横截面通过用户界面手动输入。这能够实现，例如在难以到达的气体室中能够使用具有大的长度的连接软管并且能够省去不受压力监测的软管延长部。同时不需要广泛地使用尽可能长的连接软管，从而不损害气体处理的效率。

在维护设备的另一可能的设计方案中，该维护设备构造成利用控制单元由气体的最小压力、气体的额定压力和气体的最大压力确定下部的第一工作点和上部的第二工作点，其中在此，下部的第一工作点尤其是高于最小压力，并且上部的第二工作点在此尤其是低于最大压力。此外，维护设备还能够构造成，当额定压力比上部的第二工作点更靠近下部的第一工作点时，伴随着将新鲜气体引入气体室中直到达到上部的第二工作点而利用控制单元自动地开始气体处理过程，当额定压力比下部的第一工作点更靠近上部的第二工作点时，伴随着从气体室中取出气体而自动地开始气体处理过程直到达到下部的第一工作点，和/或在执行气体处理过程时，选择从相应的气体室中取出的气体体积，使得在取出该气体体积之后气体室内的气体压力高于最小压力，尤其高于下部的第一工作点。在此能够实现，始终能够从气体室中取出相对大的气体体积以用于气体处理，而气体室内的气体压力不低于最小压力，其中基于取出的气体体积的最大化以及在新鲜填充到气体室中的气体与在那里已经存在的气体的混合之前的由此得到的所需的等待时间的最小化，使得处理时间最小化。在此，在气体处理期间在同时可处理的气体体积大的情况下也确保气体室的、尤其是布置在气体室内的电运行器件、例如处于连续运行中的功率开关的运行能力。

在此，最小压力和最大压力是气体室的与安全相关的参数，该参数通常由气体室的制造者或运行者预先给定并且在气体室的连续运行中必须被遵守。额定压力通常同样是预先给定的值，该值描述了气体室在正常运行中应该以何种压力填充。该值也被称为运行压力或标准运行压力。如果气体室内的压力达到最小压力或最大压力，则这通常导致警报的触发。如果气体室例如是气体绝缘的开关设备的一部分或者说气体室容纳有电气设备，则这种警报可能导致运行器件或整个设备的关断，因为不再确保可靠的运行。这种警报情况对于气体室的运行者来说经常会带来巨大的后续费用。通过确定两个工作点，在该可能的有利设计方案中，维护设备能够避免在气体处理过程期间触发警报，因为维护设备被设置成仅在第一下工作点和第二上工作点之间的间隔内改变气体室内的压力。因此可以防止达到最小压力或最大压力，从而维护设备在连续运行中即使在气体室上也能够以高可靠性和安全性进行气体处理。

这种工作点的确定原则上也可以通过用户输入来进行，然而这前提是，用户知道气体室以及维护设备的在安全技术上和调节技术上相关的参数，从这些参数中可以推导出安全的工作点。由维护设备本身或者由控制单元自动确定工作点使得用户的相应知识是多余的，并且因此使得维护设备的简化的使用在同时最高的可靠性和安全性的情况下成为可能。

在该设计方案的改进方案中，维护设备尤其可以设置用于，利用控制单元如此确定最小压力和下部的第一工作点之间的距离以及上部的第二工作点和最大压力之间的距离，使得考虑传感器装置的最大测量不确定性、气体室内的绝对压力、气体的温度、控制装置的调节特性、控制特性或响应特性和/或气体室内的温度变化。

在最小压力(Pmin)、额定压力(Pnom)和最大压力(Pmax)彼此足够远地远离的情况下，在确定下部的第一工作点(Pa1)和上部的第二工作点(Pa2)时通常得到的是，压力彼此间处于以下参量关系：

Pmin<Pa1<Pnom<Pa2<Pmax。

在这种情况下，可以实现非常安全、可靠的气体处理。然而，如果最小压力(Pmin)、额定压力(Pnom)和最大压力(Pmax)之间的距离非常小，则可能出现在气体处理期间警报触发的风险增加的情况。因此，例如可以得出，两个通过控制单元求取的工作点要么高于要么低于额定压力。对于用户而言，可能难以识别并正确评价这种情况。因此，在另一可能的设计方案中，维护设备构造成，利用控制单元借助据工作点求取是否能够安全地自动执行气体处理过程，办法是：当下部的第一工作点大于额定压力时，那么仅当用户确认下部的第一工作点与额定压力等同时维护设备才能够开始气体处理过程。如果上部的第二工作点小于额定压力，那么仅当用户确认上部的第二工作点与额定压力等同时维护设备才能够开始气体处理过程。通过工作点与额定压力的这种等同，虽然与最近的极限压力(最小压力或最大压力)的距离减小了，但是触发警报或者说在气体室中设定危险的压力状态的风险比当工作点直接被设置到极限压力上时还要明显更小。因此，维护设备向用户建议合理的参数适配，用户可以在考虑风险的情况下采用该参数适配。如果两个工作点都处于相同值上或者上部的第二工作点甚至低于下部的第一工作点，则维护设备中断气体处理过程。因此，可以确保自动地向用户提示各种风险，并且可以高效地决定要适配哪些参数，只要这在考虑所产生的风险的情况下是合理的即可。由此，可以在非常多的情况下安全地利用该维护设备来执行气体处理；在危险的情况下同时自动地防止实施气体处理。这进一步有助于简化维护设备的操作并且实现高的安全性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，气体处理装置包括至少一个用于吸收湿气的干燥过滤器。这种干燥过滤器能够实现气体的可靠干燥并且可以成本低廉地被提供以及简单地使用。备选地或附加地，气体处理装置包括至少两个湿度传感器，其中第一湿度传感器至少间接地与所述至少一个干燥过滤器的输入端耦联并且第二湿度传感器至少间接地与所述至少一个干燥过滤器的输出端耦联。湿度传感器至少与控制单元耦联，该控制单元由借助于湿度传感器求取的湿度值求取至少一个干燥过滤器的填充水平。由此，能够实现简单且可靠地检测至少一个干燥过滤器的填充水平并且由此实现评价干燥过滤器的湿气吸收有多高。由此又可以推导出，气体有多久停留在干燥过滤器中或必须有多频繁地使气体泵送通过该干燥过滤器，以便达到期望的干燥效果。

在维护设备的另一可能的设计方案中，气体处理装置包括至少两个用于吸收湿气的干燥过滤器，其中所述干燥过滤器能够交替地使用。这使得在使用干燥过滤器期间，所述至少一个剩余的干燥过滤器例如可以通过输送热空气来干燥。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述传感器装置或所述控制单元与至少一个布置在所述气体室中或气体室上的气体室传感器数据技术地或电地耦联或能够耦联以检测至少一个气体特性，所述气体室传感器是包括相应气体室的设备的组成部分。在此，该耦联可以直接与气体室传感器或者间接地通过设备的中间连接的开关柜进行。由于使用已经存在于包括气体室的设备中的传感器，这导致维护设备的复杂性和成本显著降低。此外，气体室传感器的监测能够用作附加的安全功能，以便能够可靠地识别气体室的可能的危险状态，例如气体室中的强烈的压降，并且必要时关断维护设备。气体室传感器尤其可以是电子的压力发送器、温度发送器和/或气体密度发送器。此外，气体室传感器可以是所谓的气体密度监视器，气体密度监视器通过开关输出端来信令达到压力的预先给定的极限值的压力和/或气体密度，例如达到气体室的预先给定的最小压力或最大压力。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述控制单元与至少一个气体室监测单元耦联或能够耦联，其中所述气体室监测单元与所述设备的开关柜或者与布置在所述气体室中或所述气体室上的气体室传感器耦联，并且其中气体室监测单元被构造用于，当由开关柜或气体室传感器信令气体室的危险状态时，关断维护设备。因此，例如能够从气体室监测单元获取开关信号，该开关信号例如用于安全关断或者基于在至少一个气体室传感器、例如气体密度监视器中设置的开关点触发警报。由此，在包括气体室的设备的安全关断时，也可以通过气体室监测单元自动地使维护设备解除激活。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备包括至少两个、例如直至六个与气体处理装置和至少一个传感器装置耦联的接头，其中每个接头构造成用于分别与至少一个气体室耦联。此外，控制单元包括开关装置，该开关装置用于开关至少一个开关元件以断开和闭合接头，其中所述开关装置与所述控制单元连接，其中所述控制单元构造用于自动地操控所述至少一个开关元件，从而能够提高自动化程度和操作舒适性并且能够节省操作人员。由于存在多个接头，所以多个气体室、例如电开关设备的气体室可以以有利的方式同时与维护设备耦联并且相应被包含在气体室内的气体的气体处理可以与由现有技术已知的解决方案不同地在不通过借助于开关装置在不同的接头之间进行的切换从一个气体室拆卸接头并且接着装配在另外的气体室上的情况下进行。由此，一方面显著减少了安装耗费和时间耗费，并且另一方面由于减少了安装过程和拆卸过程的数量而显著提高了接头和维护设备的以及气体室的对应接头的耐久性和运行安全性。在此，接头可以有利地这样设计，即，当气体室没有连接在每个可用的接头上时，该维护设备也可以运行。为此，接头例如可以设置有自闭合的耦联器。

在维护设备的另一可能的设计方案中，开关装置包括多个分散的开关元件，所述开关元件分别与接头耦联并且构造成用于断开和闭合相应的接头。与中央开关元件相反，这种开关元件可以在缺陷的情况下单独被更换或修复，由此成本耗费和材料耗费非常低。此外，利用分散的开关元件可单独地断开和闭合各个接头，从而可单独地进行在连接的气体室处的气体处理过程的有目的控制和执行。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述开关装置的分散的开关元件直接布置在相应所属的接头上并且能够实现从所述气体室出发的在相应的接头之后的死体积的最小化。

在维护设备的另一可能的设计方案中，开关装置的各个分散的开关元件和所属的接头构造在连接软管中。这使得维护设备能够与多个气体室特别简单、可靠和灵活地耦联，同时操作简单。例如，连接软管以一个端部连接在维护设备上，而开关元件和所属的接头布置在连接软管的另一个端部上的区段中。由此，可以以有利的方式在与连接软管所连接的气体室的耦联器之后直接阻断与该气体室的连接。由此例如在故障情况下，如果例如在连接软管上出现泄漏，则可以有效地阻止气体从该气体室中排出。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述传感器装置包括多个用于检测至少一个气体特性的分散的传感器，其中每个传感器分别与接头耦联。在该设计方案中，在传感器失效时，在另外的接头上的运行仍然是可能的。

在维护设备的另一可能的设计方案中，传感器装置的分散的传感器直接布置在相应所属的接头上。在该设计方案中，可以特别靠近相应的接头并且由此在相应的气体室处检测气体特性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，传感器装置的相应的分散的传感器和所属的接头构造在连接软管中。这使得维护设备能够与多个气体室特别简单、可靠和灵活地耦联，同时操作简单。

在维护设备的另一可能的设计方案中，相应的分散的传感器和相应的分散的开关元件如此布置在连接软管的所属的接头或所属的端部处，使得传感器与在气体室和开关元件之间的管路区段相通。由此，当接头通过开关元件封闭时，也可以通过传感器监测气体室的气体特性。因此，可以实现通过维护设备不中断地监测气体室，由此提高设备运行的安全性；此外，在切换阀打开之前，气体室的状态可以被检测并且尤其是通过与安全相关的功能来处理。

在维护设备的另一可能的设计方案中，开关装置包括至少一个中央开关元件，该中央开关元件与多个接头耦联并且构造用于断开和闭合多个接头。这样的中央开关元件引起小的材料耗费和成本耗费并且能够简单地控制。

在维护设备的另一可能的设计方案中，至少一个中央开关元件布置在维护设备上的中央开关盒中，并且由此尤其简单地例如为了维护而可接近。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述传感器装置构造为所谓的传感器组，尤其构造为附件，并且例如也可以事后加装在包括气体室的设备上。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述传感器装置包括至少一个用于检测至少一个气体特性的中央传感器，所述中央传感器与多个接头耦联。由于对于所有接头仅需要一个传感器，这种中央传感器引起较小的材料耗费和成本耗费并且是可简单运行的。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，每个接头包括单独的气体入口和单独的气体出口，并且所述输送装置和所述气体处理装置构造为连续地实施气体处理过程，在所述气体处理过程中从气体室中连续地取出气体，所述气体被处理并且随后将经处理的气体回引到气体室中。这种连续的过程以简单的方式实现气体的持久干燥。

在维护设备的另一可能的设计方案中，每个接头根据输送装置的输送方向和开关装置的开关状态构造为气体入口或气体出口。在这种构造中，可以在每个气体室中执行气体处理，所述气体室具有至少一个对应的接头。此外，气体处理由于借助于开关装置的分离而与气体室的内部分离，由此实现非常高的过程可靠性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元根据连续求取的气体特性的值确定在连续执行气体处理过程期间的气体的处理时间并且动态地根据所述值设定该处理时间。因此，处理时间可以以简单的方式与相应的气体特性相适配并且可以进一步自动化该应用。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元在气体处理过程中通过接头循环地将气体从气体室中取出，处理所述气体并且随后将经处理的气体通过相同的接头引回到气体室中。这种循环的气体处理是非常有效的，并且由于借助开关装置进行分离而与气体室的内部分离，由此能够实现高的过程可靠性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元根据连续求取的气体特性的值确定在循环执行气体处理过程期间的气体的处理的循环的数量并且动态地根据所述值设定该数量。因此，循环的数量以及由此得到的气体的处理时间可以以简单的方式与相应的气体特性相适配并且被控制。此外，可以通过用户界面显示所求取的、预计的处理时间，从而可以通过用户更好地计划维护设备的使用和可用性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元对于多个气体室同时实施气体处理过程。在此，可以同时进行多个或所有气体室的同时的气体处理。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用所述控制单元在气体处理过程期间利用所述传感器装置连续地求取来自所述气体室的气体的至少一个气体特性并且以时间序列图示借助用户界面图形可视化地提供所求取的数据，其中所述控制单元尤其构造成，外推所求取的数据并且将外推的数据作为预测的变化曲线附加于所述时间序列图示地借助所述用户界面进行图形可视化。由此可以实现用于用户的时间序列的图形实时显示。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元循环地交替地以固定的顺序为每个气体室执行或控制气体处理过程。气体处理过程的这种执行能够非常简单且可靠地实现。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元根据每个气体室的至少一个气体特性的实际值确定和控制执行气体处理过程的顺序和/或频率。由此可以实施适配的并且对于每个气体室都单独的气体处理。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用所述控制单元根据气体室的相应的气体室体积确定和控制执行气体处理过程的顺序和/或频率。尤其是，例如在具有大体积的气体室的情况下以比在具有小体积的气体室的情况下更大的频率进行气体处理，因为在此气体处理由于较大的体积而通常更耗费或者更费时。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用所述控制单元根据气体室的相应的泄漏率确定和控制执行气体处理过程的顺序和/或频率，其中泄漏率是预先通过在检测时间段内，例如14天内，对气体室的运行压力的记录来确定的。在此，尤其可以在求取在下一个处理循环之前的等待时间时也或者针对用于气体处理的气体室的顺序的求取考虑泄漏率，由此能够更有效地进行处理。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元根据预选的优先性来确定和控制气体处理过程的执行的顺序和/或频率。因此，例如气体室可以设有更高的优先性，气体室的气体处理例如由于使用频率而最重要。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元执行气体处理过程直至达到至少一个气体特性的预先给定的额定值，并且在达到额定值之后执行用于另一个气体室的气体处理过程。在此，气体特性包括气体湿度、分解产物的浓度和/或气体纯度。该气体特性尤其通过传感器装置来检测，例如通过直接构造在连接软管的端部处的接头处或接头中的传感器来检测。由此，气体处理可以特别简单且可靠地自动化地进行。

在维护设备的另一可能的设计方案中，该维护设备构造成，当在其它的气体室中超过极限值时，利用控制单元提前中断在气体室中的气体处理过程，并且在所述其它的气体室中启动紧急气体处理。因此，在超过极限值超过预先给定的程度之前，可以根据在相应气体室中的要求执行气体处理。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元在气体室处执行气体处理过程之前在预先在相同的气体室上执行的气体处理过程之后遵守预先给定的等待时间，以便实现气体室中的气体的完全的混合并且避免，再次吸入具有大部分的直接之前被处理的气体的气体体积和再次对该气体体积进行处理。因此，实现了对气体的均匀且有效的处理。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述控制单元构造成，与所述控制单元一起根据所述气体室的体积来设定所述等待时间，其中随着体积增加，等待时间增长，或者根据气体处理装置的至少一个过滤器的填充水平来设定等待时间，或者根据气体室的泄漏率设定该等待时间，其中所述泄漏率是通过在检测时间段内记录所述气体室的运行压力而预先确定的。这使得等待时间能够精确地适配气体室和/或气体处理装置的参数。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述控制单元构造成，利用所述控制单元根据处于所述气体室内部的气体的气体特性来设定等待时间。这使得等待时间能够精确地适配于处于气体室内的气体的气体特性。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用所述控制单元在先前的气体室的待遵循的等待时间期间对另外的气体室执行气体处理过程。因此，可以利用等待时间来执行用于另外的气体室的气体处理。由此可以避免死时间或者说空转时间，并且可以特别快速且有效地进行多个气体室的气体处理。

在维护设备的另一可能的设计方案中维护设备构造成，利用控制单元在执行气体处理过程之前将气体室内的气体压力增加到高于标准运行压力的值。这使得能够从气体室中取出用于气体处理的更大的气体体积，而气体室内的气体压力不低于预先给定的最小额定值。由此，在气体处理期间在同时可处理的气体体积大的情况下也确保气体室的、尤其是布置在气体室内的电运行器件、例如功率开关的运行能力。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元在执行气体处理过程时确定和控制被引回到相应的气体室中的经处理的气体的气体体积，使得在所述气体体积完全引回之后所述气体室中的气体压力相当于标准运行压力并且由此优化所述气体室的、尤其是布置在所述气体室内的电运行器件的运行能力。

在维护设备的另一可能的设计方案中，所述维护设备构造成，利用控制单元在执行气体处理过程时确定和控制从相应的气体室取出的气体体积，使得在完全取出所述气体体积之后气体室内的气体压力高于预先给定的最小的额定值。在此也确保了气体室、尤其布置在气体室内部的电运行器件的运行能力。

在维护设备的另一可能的设计方案中，该维护设备包括用于监测气体处理装置中的气体的至少一个气体特性的内部传感器装置、用于交换和例如用于制备来自气体处理装置的气体的再循环单元和用于将气体从气体处理机构输送到再循环单元中(并且反之亦然)的输送装置。由此，维护设备能够执行进一步的气体处理过程并且改进其应用的安全性和功能。

输送装置可以是也被设置用于在气体室和气体处理机构之间输送气体的相同装置。由此可以实现特别紧凑的结构。然而，为此目的，维护设备也可以包括第二输送装置，从而一方面在相关的气体室和气体处理装置之间的气体输送和另一方面在气体处理装置和再循环单元之间的气体输送由不同的输送装置实施。尤其，第二输送装置和再循环单元可以被容纳在单独的模块或设备中，该模块或设备流体地连接到维护设备。由此可以实现更简单的结构并且可以模块化地构造维护设备。

在维护设备的另一可能的设计方案中，可以在控制单元中针对气体处理装置中的气体的至少一个气体特性存储或可存储极限值。维护设备能够被设置用于，利用控制单元通过内部传感器装置监测和识别在气体处理过程期间气体处理装置中的气体的气体特性的所述极限值的被超过。如果确定到超过，那么具有控制单元的维护设备能够设置用于结束气体处理过程并且随后借助于输送装置将气体处理装置排空、尤其抽真空。然后，来自气体处理装置的气体可以在再循环单元中被再制备或者存储在再循环单元的存储罐中。最后，具有控制单元的维护设备可以被设置用于，在开始下一个气体处理过程之前，利用来自再循环单元的再制备的气体或者来自再循环单元的清洁气体存储器的纯气体重新填充气体处理装置。因此，能够改善维护设备的安全运行，并且维护设备能够持久有效地执行气体处理。如果例如由于超过极限值而可能危及气体处理的安全性或效率，那么维护设备可以设置用于自动地执行在设备中剩余的气体的完全交换，并且因此再次建立初始状态，通过该初始状态不会危及气体处理的安全性和效率。

在此上下文中，纯气体尤其理解为一种气体，在该气体中不超过确定的气体特性的极限值。但是在此完全可以涉及混合气体。因此，不必强制性地意味着，仅存在唯一的气体种类。涉及哪种气体特性以及给定哪个极限值取决于相应的应用。

在维护设备的另一可能的设计方案中，再循环单元包括颗粒过滤器或化学过滤器或压缩单元，以用于压缩和液化气体的至少一个组分以及用于分离至少一个液相和气相。因此，再循环单元能够特别有效地从气体处理装置中再制备气体，并且从系统中去除不希望的污物。

在维护设备的另一可能的设计方案中，内部传感器装置被构造成，监测气体处理装置中的气体中的分解产物的浓度，其中所述极限值涉及分解产物的最大允许的浓度。在使用六氟化硫(SF₆)作为保护气体的应用中，分解产物的浓度例如可以是保护气体体积中的空气和/或四氟甲烷(CF₄)的体积百分比。根据IEC 60480，这种污物的极限值是例如3体积％。在该设计方案中，该维护设备也可以特别有利地用于逐步降低存在于气体室中的分解产物的浓度。利用每个气体处理过程，来自气体室的气体与保持在气体处理装置中的气体混合。在混合时，分解产物的浓度降低，因为保存在气体处理装置中的气体初始时具有比来自气体室的气体更低的浓度。在一个或多个气体处理过程之后在气体处理装置中富集的、剩余的分解产物的浓度可以借助输送机构和再循环单元自动地以特定的间隔降低，即从系统中去除。因此，该维护设备例如适合于同时干燥和再处理来自气体室的保护气体，而气体室中的运行器件能够处于连续运行中。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，在所述控制单元中为每个气体特性和每个气体室存储或者能够存储额定值和/或与额定值的允许的偏差。由此可以根据至少一个气体特性进一步改善并且自动化气体处理装置的控制。

在维护设备的另一可能的设计方案中，控制单元与存储装置耦联或可耦联并且被构造成从存储装置中读取相应的额定值和/或与额定值的允许偏差并且将其配属给所属的气体室。同样，控制单元可以设置用于将存储在其中的额定值和/或与气体室的气体特性的额定值的允许偏差存储在存储装置中。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述控制单元构造成，为了求取所述额定值而通过所述传感器装置在初始时检测气体室处的相应的气体特性并且将其作为额定值来存储，和/或所述控制单元与输入装置耦联或者包括所述输入装置，其中所述输入装置被构造用于手动输入相应的额定值和/或构造为无线连接的移动终端设备。通过初始地检测气体特性以用于求取额定值，可以实现特别精确地并且与当前情况相适配地求取额定值。相应的额定值的手动输入是特别简单的并且其特征在于特别高的可靠性。

在维护设备的另一可能的设计方案中，气体处理装置包括干燥单元，该干燥单元被构造用于通过冷却和冷凝水蒸汽来干燥气体。这种设计方案也能够实现气体的可靠干燥并且其特征在于较少的维护耗费和运行耗费。

在所述维护设备的另一可能的设计方案中，所述输送装置构造成，输送作为气体的六氟化硫、氮气、二氧化碳、空气、氟腈、氟酮和/或由前述气体中的至少两种气体形成的混合物输送，并且所述气体处理装置构造成，处理作为气体的六氟化硫、氮气、二氧化碳、空气、氟化腈、氟化酮和/或由前述气体中的至少两种气体形成的混合物。因此，该维护设备尤其适合于在其中使用保护气体的电开关设备中的气体处理。

在维护设备的另一可能的设计方案中，该维护设备构造成处理在过压下存储在气体室中的气体。因此，该维护设备尤其适合于在电开关设备中的气体处理，在该电开关设备中气体以过压存储在气体室内。

下面借助于附图对本发明的实施例进行更详细阐述。

附图说明

其中示出：

图1示意地示出用于气体室的维护设备和多个气体室，和

图2示意地示出用于气体室的维护设备和多个气体室。

具体实施方式

彼此相应的部件在所有附图中设有相同的附图标记。

图1示意地示出用于气体室2.1至2.n的维护设备1的一个可能的实施例和多个气体室2.1至2.n。

气体室2.1至2.n例如是电开关设备的组成部分并且例如分别形成用于气体绝缘的电运行器件24、例如电功率开关的容器。气体室2.1至2.n填充有作为保护气体的绝缘和灭弧气体，例如六氟化硫(简称SF₆)、氮气、二氧化碳、空气、氟腈、氟酮和/或由前述气体中的至少两种气体组成的混合物，该绝缘和灭弧气体在预先给定的最小压力(例如6巴过压)下被封闭在相应的气体室2.1至2.n中并且引起电弧的熄灭，在电触头断开时在电触头之间产生该电弧。在此，安全功能尤其取决于保护气体的纯度和在不低于预先给定的最小压力且不超过预先给定的最大压力的压力下封闭该气体，尤其取决于在预先给定的额定压力或运行压力下封闭该气体。

为了确保该纯度，维护设备1包括气体处理装置3，该气体处理装置被构造成实施气体的清洁和/或干燥和/或调温。此外，维护设备1包括至少一个控制单元22，所述控制单元监测和控制设备的部件的至少一部分。

气体处理装置3通过第一气体管路4与气体室2.1耦联，并且通过第二气体管路5与气瓶6耦联，其中所述第一气体管路4包括用于与气体室2.1至2.n耦联的接头7.1。第一气体管路4尤其可以构造为连接软管，该连接软管被布置为在通向气体室2.1的接头7.1和在维护设备1上的接头7.0之间的连接部。

气体处理装置3包括输送装置8，输送装置用于将气体从气体室2.1输送到气体处理装置3中并且从气体处理装置3至少间接地输送回气体室2.1中。输送装置8例如构造为压缩机。

此外，气体处理装置3包括具有多个干燥过滤器9至11和/或用于从气体中吸收湿气的颗粒过滤器的干燥单元。在此，干燥过滤器10和11可交替地使用，从而在使用干燥过滤器10、11期间，可以以未详细示出的方式例如通过供应热空气来干燥所述至少一个剩余的干燥过滤器11、10。

气体处理装置3包括至少一对湿度传感器23.1、23.2，其中分别将第一湿度传感器23.1至少间接地、例如直接地与相应的干燥过滤器9至11的输入端耦联，并且分别将第二湿度传感器23.2至少间接地、例如直接地与相应的干燥过滤器9至11的输出端耦联。湿度传感器23.1、23.2与评估单元耦联，该评估单元由借助湿度传感器23.1、23.2所求取的湿度值来求取干燥过滤器9至11的填充水平，并且由此求取气体在干燥过滤器9至11中所需的停留时间和/或用于干燥该气体的时间点和持续时间。

作为使用干燥过滤器9至11的备选方案或附加方案，设置干燥单元，该干燥单元被构造成通过冷却和冷凝气体的液体组成成分来执行气体的干燥。

此外，气体处理装置3包括多个切换阀和/或压力调节阀25。这些切换阀和/或压力调节阀被连接成使得可以对干燥过滤器9至11进行上述加载，并且可以利用输送装置8将气体从气体室2.1双向输送到气体处理装置3中并且从气体处理装置3返回气体室2.1中。为此，接头7.1根据输送方向构造为气体入口或气体出口。

为了清洁、尤其干燥处于气体室2.1中的气体，借助输送装置8将气体室的一部分尤其将以过压处于气体室2.1中的气体输送到气体处理装置3中并且存储在气体储罐12中。

为了在此还确保处于气体室2.1中的高压运行器件的运行，在此如此选择从气体室2.1中取出的气体体积，使得在取出气体体积之后在气体室2.1内的气体压力高于预先给定的最小的额定值、尤其是预先给定的最小压力。

在一个可能的设计方案中，维护设备1包括具有传感器26.0、26.1的传感器装置，以用于监测至少一个气体特性。传感器26.1例如可以配属给接头7.1。一个另外的传感器26.0或多个另外的传感器可以布置在维护设备1内。借助传感器装置的传感器26.0、26.1，维护装置可以监测气体室2.1的状态并且及早识别危险状态。由此，在容纳在气体室2.1中的电运行器件24处于连续运行中期间，也可以使用该维护装置。

在一个可能的设计方案中，控制单元22首先由气体的最小压力、气体的额定压力和气体的最大压力确定两个工作点，其中第一工作点处于最小压力和额定压力之间，并且第二工作点处于额定压力和最大压力之间。

为了提高在一个循环中可处理的气体量，在一个可能的设计方案中，在从气体室2.1中取出气体之前将气体室2.1内的气体压力提高到高于额定压力、尤其标准运行压力、然而低于最大压力的值(例如提高到所求取的第二工作点)上，以便紧接着如此选择所取出的气体体积，使得在气体体积取出之后气体室2.1内的气体压力处于最小压力以上(例如处于所求取的第一工作点上)。例如，通过存储在气瓶6中的气体或通过已经存储在气体储罐12中的气体来初始地提高气体压力。

在维护设备1的一个可能的设计方案中，该维护设备被设置用于，根据其中构造有接头7.1的连接软管的体积、在维护设备1上的接头7.0和气体处理装置3之间的管路的体积以及气体储罐12的体积来求取气体室2.1的内部体积。为此，首先在这些已知体积内建立限定的初始状态，例如通过将这些体积抽真空，或者借助于维护设备1内的传感器26.0求取当前的初始状态。在随后从气体室2.1取出气体时，在一个可能的设计方案中，构造为连接软管的气体管路4、在接头7.0和气体处理装置3之间的管路以及气体储罐12依次逐级地被气体充满。同时，借助于传感器26.1监测气体室2.1内的气体压力，以便及早识别并且避免低于最小压力的风险。同时，当已知其它体积时，在被构造为连接软管的气体管路4、管路和气体储罐12的体积的逐级的充满期间的压降可以被考虑用于确定气体室2.1的内部体积。

随后，取出的气体借助输送装置8根据至少一个预先初始求取的气体特性、例如湿度单次或多次地引导通过干燥过滤器10、11，直至达到气体特性的额定值。也就是说，维护设备1被构造成，利用控制单元22根据初始求取的气体特性的值来确定和设定在气体处理过程的循环实施方案期间的气体处理的循环的数量。

为了求取至少一个气体特性，维护设备1包括未更详细示出的传感器装置，该传感器装置包括用于检测至少一个气体特性的至少一个中央传感器26.0。传感器装置也可以包括用于检测至少一个气体特性或多个气体特性的多个传感器26.0、26.1。在此，至少一个传感器26.1可以与所属的接头7.1一起构造在构造为连接软管的气体管路4中。

在此，传感器装置被构造用于检测气体压力和/或气体密度和/或气体温度和/或气体湿度和/或在气体中的分解产物的浓度作为气体特性，其中根据这些气体特性中的一种或多种气体特性执行所述气体处理。

为此，在维护设备1的一个可能的设计方案中，对于每个气体特性和每个气体室2.1至2.n，额定值和/或与额定值的允许偏差被存储或可存储在控制单元22中。

在一个可能的设计方案中，所述控制单元22构造用于，为了求取额定值而在初始时通过所述传感器装置来检测气体室2.1到2.n处的相应的气体特性并且将其作为额定值来存储。备选地或附加地，控制单元22与用于手动输入相应的额定值的输入装置耦联或包括该输入装置。

控制单元22也可以是与存储装置耦联的或者可以与存储装置耦联。在此，控制单元22可以构造成从存储装置中读取相应的额定值和/或与额定值的允许偏差并且将其配属给所属的气体室2.1至2.n。

此外，传感器装置或控制单元22可以与至少一个布置在气体室2.1至2.n中或上的气体室传感器14.1至14.n数据技术地或电地耦联或可耦联，以用于检测至少一个气体特性，气体室传感器是包括相应气体室2.1至2.n的设备(在此为开关设备)的组成部分，其中所述耦联通过所述设备的开关柜13来进行。

开关柜13尤其可以与一个或多个气体室传感器14.1至14.n耦联并且在中央监测该气体室传感器。气体室传感器14.1至14.n尤其可以构造为气体密度监视器，该气体密度监视器在超过或低于预先给定的极限值时输出开关信号，该开关信号例如可以用于整个设备的紧急关断。

此外，控制单元22可以与至少一个气体室监测单元15耦联或可耦联，其中气体室监测单元15与设备的开关柜13或者与布置在气体室2.1中或上的气体室传感器14.1耦联，并且其中气体室监测单元15被设置成，当由开关柜13或气体室传感器14.1信令气体室2.1的危险状态时，关断维护设备1。危险状态的特征例如可以在于低于允许的最小压力的压降或者在于超过或低于气体特性的其它的极限值。

在处理气体之后，可以将经处理的气体通过相同的气体管路4或者通过另外的气体管路16输送回气体室2.1中，其中例如如此选择经处理的气体的被引导回到气体室2.1中的气体体积，使得在气体室2.1中的气体压力在完全引导回所述气体体积之后相当于标准运行压力。

也就是说，在具有控制单元22的一个可能的设计方案中，维护设备1能够设置用于，如此控制输送装置8和气体处理装置3，使得在气体处理过程中通过接头7.1循环性地从气体室2.1中取出气体、对气体进行处理并且随后将经处理的气体通过相同的接头7.1引回到气体室2.1中。

为了能够实现气体的均匀处理并且避免直接将预先处理过的气体立即再次输送到气体处理装置3中以用于处理，在气体室2.1中执行新的气体处理过程之前，从在相同的气体室2.1中之前执行的气体处理过程起遵循预先给定的等待时间。在此，等待时间例如根据气体室2.1的体积通过控制单元22来设定，其中等待时间随着体积的增加而增加。备选地，等待时间根据气体处理装置3的至少一个过滤器、例如干燥过滤器9至11的填充水平被设定。备选地，根据气体室2.1的泄漏率设定等待时间，其中通过在检测时间段内，例如14天的时间段内记录气体室2.1的运行压力，预先确定泄漏率。

为了与至少一个外部数据处理单元17以及与和外部数据处理单元耦联的终端设备18、19进行数据交换，维护设备1包括至少一个相应的通信接口20。

在图2中示意地示出用于气体室2.1至2.n的维护设备1的另一个可能的实施例和多个气体室2.1至2.n。

与在图1中示出的实施例不同，维护设备1包括多个与气体处理装置3和至少一个传感器装置耦联的接头7.1至7.n，其中每个接头7.1至7.n被构造成分别与至少一个气体室2.1至2.n耦联。

此外，维护设备1包括开关装置21，该开关装置用于切换至少一个、在所示实施例中多个分散的开关元件21.1至21.n，以用于断开和闭合接头7.1至7.n。备选地，也可以设置中央开关元件。

开关装置21在控制技术上与控制单元22连接，所述控制单元构造成自动操控开关元件21.1至21.n。

分散的开关元件21.1至21.n分别与接头7.1至7.n耦联并且被构造用于断开和闭合相应的接头7.1至7.n。在此，分散的开关元件21.1至21.n例如直接布置在相应所属的接头7.1至7.n上并且与所属的接头7.1至7.n共同地构造在连接软管中或者连接软管的端部上。

在一个可能的设计方案中，传感器装置的分散的传感器26.1至26.n也直接布置在相应所属的接头7.1至7.n上并且例如与所属的接头7.1至7.n以及所属的开关元件21.1至21.n共同地构造在连接软管中或连接软管的端部上。

对于每个单独的气体室2.1至2.n，与图1中所示的实施例的描述类似地进行气体处理，其中然而气体室2.1至2.n尤其是持久地、也就是说至少在处理时间内与维护设备1同时耦联。该耦联尤其可以通过多个连接软管实现，其中每个气体室2.1至2.n使用至少一个连接软管。为了连接该连接软管，在维护设备1上能够设置多个接头7.0。

与在图1中示出的实施例不同，具有控制单元22的维护设备1附加地构造成，将输送装置8、开关装置21和气体处理装置3控制成，使得循环地交替地以确定的顺序针对每个气体室2.1至2.n执行气体处理过程。

在此，可以通过控制单元22根据每个气体室2.1至2.n的至少一个气体特性的实际值确定并控制执行气体处理过程的顺序和/或频率。备选地或附加地，根据气体室2.1至2.n的相应气体室体积控制执行气体处理过程的顺序和/或频率。

备选地或附加地，执行气体处理过程的顺序和/或频率的控制还根据气体室2.1至2.n的相应的泄漏率和/或根据预选的优先性来进行。

此外，进行气体处理，尤其直至达到至少一个气体特性的预先给定的额定值，其中在达到所述额定值后可以对另外的气体室2.1至2.n执行气体处理过程。

例如，在先前的气体室2.1至2.n的待遵循的等待时间期间，进行对另外的气体室2.1至2.n的气体处理过程的执行。

附图标记列表

1 维护设备

2.1至2.n 气体室

3 气体处理装置

4 气体管路

5 气体管路

6 气瓶

7.0至7.n 接头

8 输送装置

9至11 干燥过滤器

12 气体储罐

13 开关柜

14.1至14.n 气体室传感器

15 气体室监测单元

16 气体管路

17 数据处理单元

18 终端设备

19 终端设备

20 通信接口

21 开关装置

21.1至21.n 开关元件

22 控制单元

23.1至23.2 湿度传感器

24 电运行器件

25 切换阀和/或压力调节阀

26.0至26.n 传感器。

Claims (18)

1.一种用于气体室(2.1至2.n)的维护设备(1)，所述维护设备具有：

-气体处理装置(3)，用于处理存在于至少一个气体室(2.1至2.n)中的气体，其中所述气体处理装置(3)构造成对所述气体进行清洁和/或干燥和/或调温，

-至少一个传感器装置，用于监测所述气体的至少一个气体特性，其中所述传感器装置构造成，检测气体压力和/或气体密度和/或气体温度和/或气体湿度和/或在所述气体中的分解产物的浓度作为气体特性，

-至少一个接头(7.1至7.n)，与所述气体处理装置(3)和所述至少一个传感器装置耦联，所述接头构造成与所述气体室(2.1至2.n)耦联，

-至少一个输送装置(8)，用于将所述气体从所述气体室(2.1至2.n)输送到所述气体处理装置(3)中并且从所述气体处理装置(3)至少间接地输送回到所述气体室(2.1至2.n)中，和

-至少一个控制单元(22)，所述控制单元至少与所述传感器装置连接并且至少监测和控制所述输送装置(8)和/或所述气体处理装置(3)。

2.根据权利要求1所述的维护设备(1)，其中所述维护设备(1)被构造成，利用所述控制单元(22)根据以下方面来求取在连接的气体室(2.1至2.n)中的气体体积

-在所述接头(7.1至7.n)与所述气体处理装置(3)之间的管路的体积，和/或

-连接软管(4)的体积，在所述连接软管中构造有接头(7.1至7.n)，和/或

-所述气体处理装置(3)的气体储罐(12)的体积，

并且此外

-在从所述气体室(2.1至2.n)中取出所述气体时逐级利用气体依次充满所述连接软管、在所述接头(7.1至7.n)和所述气体处理装置(3)之间的所述管路和所述气体储罐(12)，并且同时监测所述气体室(2.1至2.n)内的气体压力，

或者

-利用取出的所述气体在从所述连接软管取出所述气体时充满所述气体室(2.1至2.n)、充满在所述接头(7.1至7.n)和所述气体处理装置(3)和所述气体储罐(12)之间的管路，并且同时监测所述气体室(2.1至2.n)内的气体压力，并且

-根据在监测所述气体室(2.1至2.n)内的气体压力时所求取的压力变化来求取所述气体室(2.1至2.n)中的所述气体体积。

3.根据权利要求1或2所述的维护设备(1)，其中所述维护设备(1)被构造成，利用所述控制单元(22)

-由所述气体的最小压力、所述气体的额定压力和所述气体的最大压力确定下部的第一工作点和上部的第二工作点，

-当所述额定压力比所述上部的第二工作点更靠近所述下部的第一工作点时，则自动地随着将新鲜气体引入所述气体室(2.1至2.n)中直至到达所述上部的第二工作点来开始所述气体处理过程，

-当所述额定压力相比于下部的第一工作点更靠近上部的第二工作点时，自动地随着从所述气体室(2.1至2.n)取出气体直至到达所述下部的第一工作点来开始所述气体处理过程，和/或

-在执行所述气体处理过程时，选择从相应的所述气体室(2.1至2.n)取出的气体体积，使得所述气体室(2.1至2.n)内的气体压力在取出所述气体体积后高于所述最小压力。

4.根据权利要求3所述的维护设备(1)，其中所述维护设备(1)构造成，利用所述控制单元(22)借助所述工作点求取是否能够执行所述气体处理过程，办法是：

-当所述下部的第一工作点大于所述额定压力时，那么仅当用户确认所述下部的第一工作点与所述额定压力等同时，所述维护设备(1)才能够开始所述气体处理过程，

-当所述上部的第二工作点小于所述额定压力时，那么仅当用户确认所述上部的第二工作点与所述额定压力等同时，所述维护设备(1)才能够开始所述气体处理过程，并且

-当两个工作点处于相同值时或者所述上部的第二工作点小于所述下部的第一工作点时，所述维护设备(1)中断所述气体处理过程。

5.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-所述气体处理装置(3)包括至少一个用于吸收湿气的干燥过滤器(9至11)，和/或

-所述气体处理装置(3)包括至少两个湿度传感器(23.1至23.2)，

-第一湿度传感器(23.1)至少间接地与所述至少一个干燥过滤器(9至11)的输入端耦联，

-第二湿度传感器(23.2)至少间接地与所述至少一个干燥过滤器(9至11)的输出端耦联，并且

-所述湿度传感器(23.1至23.2)至少与所述控制单元(22)耦联，所述控制单元由借助所述湿度传感器(23.1至23.2)求取的湿度值求取所述至少一个干燥过滤器(9至11)的填充水平。

6.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-所述传感器装置或所述控制单元(22)与至少一个布置在所述气体室(2.1至2.n)中或所述气体室上的气体室传感器(14.1至14.n)数据技术地或电地耦联或能够耦联，以用于检测至少一个气体特性，所述气体室传感器是包括相应的所述气体室(2.1至2.n)的设备的组成部分，其中所述耦联尤其通过所述设备的开关柜(13)来进行，和/或

-所述控制单元(22)与至少一个气体室监测单元(15)耦联或者能够耦联，其中所述气体室监测单元(15)与所述设备的开关柜(13)或者与布置在所述气体室(2.1至2.n)中或所述气体室上的气体室传感器(14.1至14.n)耦联，并且其中所述气体室监测单元(15)构造成，当由所述开关柜(13)或所述气体室传感器(14.1至14.n)信令所述气体室(2.1至2.n)的危险状态时，关断所述维护设备(1)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，包括

-至少两个接头(7.1至7.n)，与所述气体处理装置(3)和所述至少一个传感器装置耦联，其中每个接头(7.1至7.n)构造成分别与至少一个气体室(2.1至2.n)耦联，和

-开关装置(21)，用于开关至少一个开关元件(21.1至21.n)以断开和闭合所述接头(7.1至7.n)，其中所述开关装置(21)与所述控制单元(22)连接，其中所述控制单元(22)构造成自动地操控所述至少一个开关元件(21.1至21.n)。

8.根据权利要求7所述的维护设备(1)，其中所述开关装置(21)包括多个分散的开关元件(21.1至21.n)，所述分散的开关元件

-分别与接头(7.1至7.n)耦联并且构造成断开和闭合相应的所述接头(7.1至7.n)，和/或

-直接布置在相应所属的接头(7.1至7.n)上，和/或

-分别利用所述开关元件的所属的接头(7.1至7.n)构造在连接软管中。

9.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中所述传感器装置包括多个用于检测所述至少一个气体特性的分散的传感器(26.0至26.n)，其中所述分散的传感器(26.0到26.n)

-分别与接头(7.1至7.n)耦联，和/或

-在每个接头(7.1至7.n)上构造成，检测至少一个气体压力和/或气体密度作为气体特性，和/或

-直接布置在相应所属的接头(7.1至7.n)上，和/或

-分别利用所述开关元件的所属的接头(7.1至7.n)构造在连接软管中。

10.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-每个接头(7.1至7.n)包括单独的气体入口和单独的气体出口，并且所述输送装置(8)和所述气体处理装置(3)构造成连续实施气体处理过程，在所述气体处理过程中从气体室(2.1至2.n)连续地取出气体、处理所述气体、并且使经处理的所述气体返回到所述气体室(2.1至2.n)中，其中所述维护设备(1)尤其构造成，利用所述控制单元(22)根据连续求取的气体特性的值来确定在连续实施所述气体处理过程期间所述气体的处理时间，并且根据所述值动态地设定所述处理时间，和/或

-具有所述控制单元(22)的所述维护设备(1)构造成，在气体处理过程中通过接头(7.1至7.n)循环地从气体室(2.1至2.n)中取出气体、处理所述气体并且随后将经处理的气体通过相同的接头(7.1至7.n)引回到所述气体室(2.1至2.n)中，其中所述控制单元(22)尤其构造成，根据连续求取的气体特性的值确定在连续实施所述气体处理过程期间的所述气体的处理的循环数量，并且根据所述值动态地设定所述循环数量，和/或

-具有所述控制单元(22)的所述维护设备(1)构造成，在气体处理过程期间利用所述传感器装置连续地求取来自所述气体室(2.1至2.n)的所述气体的至少一个气体特性并且以时间序列图示借助用户界面图形可视化地提供所求取的数据，其中所述控制单元(22)尤其构造成，外推所求取的数据并且借助所述用户界面以将外推的所述数据作为预测的变化曲线附接到所述时间序列图示上的方式进行图形可视化。

11.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-所述控制单元(22)构造成，针对每个气体室(2.1-2.n)以固定的顺序循环交替地执行所述气体处理过程，和/或

-所述维护设备(1)构造成，利用所述控制单元(22)根据以下方面来确定和控制所述气体处理过程的所述执行的顺序和/或频率

-每个气体室(2.1至2.n)的至少一个气体特性的实际值，或者

-所述气体室(2.1至2.n)的相应的气体室体积，或者

-所述气体室(2.1至2.n)的相应的泄漏率，其中所述泄漏率是通过在检测时间段内记录所述气体室(2.1至2.n)的运行压力而预先确定的，或者

-预选的优先性，

和/或

-所述维护设备(1)构造成，利用所述控制单元(22)执行所述气体处理过程，直至达到至少一个气体特性的预先给定的额定值，并且在达到所述额定值之后，针对另外的气体室(2.1至2.n)执行所述气体处理过程，其中所述气体特性包括气体湿度、分解产物的浓度和/或气体纯度，和/或

-所述维护设备(1)构造成，当在其它的气体室(2.1至2.n)中超过极限值时，利用所述控制单元(22)提前中断在气体室(2.1至2.n)中的所述气体处理过程，并且在所述其它的气体室(2.1至2.n)中启动紧急气体处理。

12.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中所述维护设备(1)还构造成，

-在所述气体室(2.1至2.n)中执行气体处理过程之前，利用所述控制单元(22)遵循在相同的气体室(2.1-2.n)中预先执行的气体处理过程的预先给定的等待时间，

并且尤其

-利用所述控制单元(22)根据所述气体室(2.1至2.n)的体积来设定所述等待时间，其中所述等待时间随着体积的增加而增加，或者

-利用所述控制单元(22)根据所述气体处理装置(3)的至少一个过滤器的填充水平来设定所述等待时间，或者

-利用所述控制单元(22)根据所述气体室(2.1至2.n)的泄漏率来设定所述等待时间，其中所述泄漏率是通过在检测时间段内记录所述气体室(2.1至2.n)的运行压力而预先确定的，或者

-利用所述控制单元(22)根据处于所述气体室(2.1至2.n)内的气体的气体特性来设定所述等待时间，和/或

-在先前的气体室(2.1-2.n)的待遵循的等待时间期间，针对另外的气体室(2.1-2.n)执行所述气体处理过程。

13.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-所述维护设备(1)构造成，在执行所述气体处理过程之前，将所述气体室(2.1-2.n)内的气体压力增加到高于标准运行压力的值，

-所述维护设备(1)尤其构造成，在执行所述气体处理过程时，利用所述控制单元(22)确定和控制返回到相应的气体室(2.1至2.n)中的经处理的气体的气体体积，使得所述气体室(2.1至2.n)中的气体压力在所述气体体积完全返回之后相当于所述标准运行压力，并且

-所述维护设备(1)尤其构造成，在执行所述气体处理过程时，利用所述控制单元(22)确定并且设定从相应的气体室(2.1至2.n)中取出的气体体积，使得在取出所述气体体积之后所述气体室(2.1至2.n)内的气体压力高于预先给定的最小额定值。

14.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，包括

-内部传感器装置，用于监测所述气体处理装置(3)中的所述气体的至少一个气体特性，

-再循环单元，用于从气体处理装置(3)中交换气体，和

-输送装置(8)，用于将气体从所述气体处理机构输送到所述再循环单元中并且反之亦然，其中

-在所述控制单元(22)中针对所述气体处理装置(3)中的所述气体的至少一个气体特性存储或能够存储极限值，

其中

-所述维护设备(1)尤其构造成，利用所述控制单元(22)通过所述内部传感器装置识别在所述气体处理过程期间在所述气体处理装置(3)中的气体的气体特性的所述极限值的被超过，并且在识别到超过极限值时

-在所述气体处理过程结束之后，利用所述输送装置(8)将所述气体处理装置(3)排空、尤其是抽真空，

-在所述再循环单元中从所述气体处理装置(3)中再制备所述气体，或者将所述气体存储在存储罐中，以及

-在开始下一个气体处理过程之前，利用来自所述再循环单元的再制备的气体或者来自清洁气体存储器的纯气体重新填充所述气体处理装置(3)。

其中

-所述内部传感器装置尤其构造成，监测所述气体处理装置(3)中的气体中的分解产物的浓度，并且极限值是分解产物的最大允许浓度。

15.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-在所述控制单元(22)中为每个气体特性和每个气体室(2.1至2.n)存储或能够存储额定值和/或与额定值的允许偏差，和/或

-所述控制单元(22)与存储装置耦联或能够耦联，并且

-所述控制单元(22)构造成，从所述存储装置中读取相应的额定值和/或与额定值的允许偏差并且将所述额定值和/或所述允许偏差配属给所属的气体室(2.1至2.n)。

16.根据权利要求15所述的维护设备(1)，其中

-所述控制单元(22)构造成，为了求取所述额定值而通过所述传感器装置首先检测气体室(2.1至2.n)上的相应的气体特性并且将所述气体特性作为额定值来存储，和/或

-与输入装置耦联或者包括所述输入装置，其中所述输入装置被构造用于手动输入相应的额定值和/或被构造为无线连接的移动终端设备(18、19)。

17.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中所述气体处理装置(3)包括干燥单元，所述干燥单元被构造用于通过冷却和冷凝所述水蒸汽来干燥所述气体。

18.根据前述权利要求中任一项所述的维护设备(1)，其中

-所述输送装置(8)构造成，输送作为气体的六氟化硫、氮气、二氧化碳、空气、氟腈、氟酮和/或由上述气体中的至少两种气体形成的混合物，并且

-所述气体处理装置(3)构造成，处理作为气体的六氟化硫、氮气、二氧化碳、空气、氟腈、氟酮和/或由上述气体中的至少两种气体形成的混合物。

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