CN112986267B - 一种自动检测装置以及自动检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及图像数据处理技术领域，提供一种自动检测装置以及自动检测方法，其中自动检测装置包括：架体；滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；多个光学检测工位，多个光学检测工位沿滑轨来料方向依次设置，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个光学检测工位用于对纳米晶导磁片上的膜层的至少一个待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整。本发明提高了产品良率，并提高了生产效率。

Description

一种自动检测装置以及自动检测方法

技术领域

本发明涉及图像数据处理技术领域，具体涉及一种自动检测装置以及自动检测方法。

背景技术

随着科技的发展，手机、平板电脑等电子产品具备了无线充电的功能，无线充电是利用电磁感应原理进行无线缆的充电，无线充电模组通常采用纳米晶作为磁屏蔽物质，纳米晶导磁片是具有低损耗、高磁导率等优点，可以有效降低无线充电过程中的能量损耗，减小发热以及对周围环境的电磁干扰，是目前国际上应用在无线充电模组最先进、最优异的磁性材料。其纳米晶导磁片在制备的过程中，纳米晶导磁片的上部具有多个层膜，其各个层膜存在较多的缺陷，现有技术中检测各个膜层存在缺陷的方式是通过人工进行检测，其不仅工作效率低下，而且无法有效的确保产品质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种自动检测装置以及自动检测方法，以解决现有技术中检测各个膜层存在缺陷的方式是通过人工进行检测，其不仅工作效率低下，而且无法有效的确保产品质量的技术问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：

一方面，本发明提供一种自动检测装置，包括：

架体；

滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；

载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；

多个光学检测工位，多个光学检测工位沿滑轨来料方向依次设置，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个光学检测工位用于对纳米晶导磁片上的膜层的至少一个待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第一光学检测工位，第一光学检测工位用于对蓝膜区域和/或二维码区域进行检测，第一光学检测工位包括：

第一支架，第一支架设于架体上并与架体连接；

第一拍摄设备，第一拍摄设备设于第一支架上并与第一支架连接，且第一拍摄设备可相对第一支架移动，第一拍摄设备包括第一相机，第一相机为面阵相机；

第一光源，第一光源设于第一拍摄设备的下方，且第一光源和第一拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第一光源为白环光；

第一光源支架，第一光源支架设于第一支架上并与第一支架连接，第一光源设于第一光源支架上，且第一光源支架用于调节第一光源的位置。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第二光学检测工位，第二光学检测工位用于对纳米晶区域和/或铜箔区域进行检测，第二光学检测工位包括：

第二支架，第二支架设于架体上并与架体连接；

第二拍摄设备，第二拍摄设备设于第二支架上并与第二支架连接，且第二拍摄设备可相对第二支架转动，第二拍摄设备与滑轨形成第一夹角，第一夹角的范围值为50°~70°，第二拍摄设备包括第二相机，第二相机为线阵相机；

第二光源，第二光源为白条光；

第二光源支架，第二光源支架设于架体上并与架体连接，第二光源设于第二光源支架上，且第二光源支架用于调节第二光源的位置。

根据上述的自动检测装置，第二支架上设有第二连接件，第二连接件包括转动连接部和设于转动连接部两侧的转动限位部，第二拍摄设备与转动连接部连接，转动连接部与转动限位部转动连接，转动限位部与第二支架连接；

和/或，第二光源支架包括L型支撑部和第一平板状支撑部，L型支撑部与架体连接，L型支撑部与第一平板状支撑部连接，第一平板状支撑部与第二光源连接。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第三光学检测工位，第三光学检测工位用于对石墨区域进行检测，第三光学检测工位包括：

第三支架，第三支架设于架体上并与架体连接；

第三拍摄设备，第三拍摄设备设于第三支架上并与第三支架连接，且第三拍摄设备可相对第三支架转动，第三拍摄设备与滑轨形成第二夹角，第二夹角的范围值为70°~90°，第三拍摄设备包括第三相机，第三相机为线阵相机；

第三光源，第三光源为白条光；

第三光源支架，第三光源支架设于架体上并与架体连接，第三光源设于第三光源支架上，且第三光源支架用于调节第三光源的位置。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第四光学检测工位，第四光学检测工位用于对纳米晶区域和/或石墨区域和/或铜箔区域进行检测，第四光学检测工位包括：

第四支架，第四支架设于架体上并与架体连接；

第四拍摄设备，第四拍摄设备设于第四支架上并与第四支架连接，且第四拍摄设备可相对第四支架移动，第四拍摄设备包括第四相机，第四相机为面阵相机；

第四光源，第四光源设于第四拍摄设备的下方，且第四光源和第四拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第四光源为蓝环光；

第四光源支架，第四光源支架设于第四支架上并与第四支架连接，第四光源设于第四光源支架上，且第四光源支架用于调节第四光源的位置。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第五光学检测工位，第五光学检测工位用于对纳米晶区域和/或石墨区域和/或蓝膜区域进行检测，第五光学检测工位包括：

第五支架，第五支架设于架体上并与架体连接；

第五拍摄设备，第五拍摄设备设于第五支架上并与第五支架连接，且第五拍摄设备可相对第五支架移动，第五拍摄设备包括第五相机，第五相机为面阵相机；

第五光源，第五光源设于第五拍摄设备的下方，第五光源和第五拍摄设备位于同一轴线并与滑轨垂直，第五光源为白同轴光；

第五光源支架，第五光源支架设于第五支架上并与第五支架连接，第五光源设于第五光源支架上，且第五光源支架用于调节第五光源的位置。

根据上述的自动检测装置，自动检测装置包括第六光学检测工位，第六光学检测工位用于对纳米晶区域进行检测，第六光学检测工位包括：

第六支架，第六支架设于架体上并与架体连接；

第六拍摄设备，第六拍摄设备设于第六支架上并与第六支架连接，且第六拍摄设备可相对第六支架移动，第六拍摄设备包括第六相机，第六相机为面阵相机；

第六光源，第六光源为红条光；

第六光源支架，第六光源支架设于第六支架上并与第六支架连接，第六光源设于第六光源支架上，且第六光源支架用于调节第六光源的位置。

根据上述的自动检测装置，载物台包括：

载物底座，载物底座设于滑轨的上方并与滑轨可滑动连接；

载物支撑板，载物支撑板设于载物底座的上方并与载物底座可转动连接。

另一方面，本发明还提供一种自动检测方法，应用于自动检测装置，自动检测装置包括：

架体；

滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；

载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；

沿滑轨来料方向依次设置的第一光学检测工位、第二光学检测工位、第三光学检测工位、第四光学检测工位、第五光学检测工位以及第六光学检测工位，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整；

自动检测方法包括：

通过第一光学检测工位的第一拍摄设备采集纳米晶导磁片的蓝膜区域和/或二维码区域的图像，以确认蓝膜区域是否存在蓝膜偏位，和/或二维码区域是否存在不良缺陷，不良缺陷包括二维码变形、断码；

通过第二光学检测工位的第二拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在鼓包、成品压伤、碎裂，和/或铜箔区域是否存在铜箔压印；

通过第三光学检测工位的第三拍摄设备采集纳米晶导磁片的石墨区域的图像，以确认石墨区域是否存在石墨压痕、石墨分层；

通过第四光学检测工位的第四拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶胶皱、异物，和/或石墨区域是否存在缺石墨、石墨皱，和/或铜箔区域是否存在铜箔胶皱；

通过第五光学检测工位的第五拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或蓝膜区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶包边褶皱、裂纹，和/或石墨区域是否存在石墨包边皱，和/或蓝膜区域是否存在蓝膜褶皱；

通过第六光学检测工位的第六拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在漏铜。

本发明提供的自动检测装置以及自动检测方法的有益效果至少在于：

（1）本发明提供的自动检测装置以及自动检测方法，将纳米晶导磁片放置于载物台上之后，通过自动检测装置实现对纳米晶导磁片的膜层存在的外观缺陷进行自动化的方式进行检测，并对其检测的结果进行分析统计，有利于提高产品良率，并且整个过程无需人工操作，完全替代人工，提高了生产效率。

（2）本发明提供的自动检测装置以及自动检测方法，提供了多个光学检测工位，用于实现每个光学检测工位对至少一个待检测区域进行检测，从而实现可以充分的检测出纳米晶导磁片上的每一个区域存在的所有外观缺陷，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性，进而检测结果准确、可靠，提升产品良率，可实现稳定生产。

（3）由于每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整，在检测纳米晶导磁片的膜层时，将各光学检测工位相对待检测区域的位置调整至最佳成像位置，从而使得待检测区域存在的外观缺陷成像明显，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的纳米晶导磁片上的膜层分布结构示意图；

图2为本发明实施例提供的自动检测装置的整体结构示意图；

图3为本发明实施例提供的第一光学检测工位的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第二光学检测工位的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的第二光学检测工位中形成的第一夹角简化结构示意图；

图6为本发明实施例提供的第三光学检测工位的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的第三光学检测工位中形成的第一夹角简化结构示意图；

图8为本发明实施例提供的第四光学检测工位的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的第五光学检测工位的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的第六光学检测工位的结构示意图；

图11为图2中A部分的放大结构示意图；

图12为本发明实施例提供的自动检测装置的剖面结构示意图；

图13为图12中B部分的放大结构示意图。

其中，图中各附图标记：

11	二维码区域	5421	第六连接孔
				12	纳米晶区域	5422	第二弧形限位孔
13	蓝膜区域	550	第二连接件
				14	石墨区域	551	转动连接部
15	铜箔区域	5511	夹紧部
				1000	自动检测装置	552	转动限位部
100	架体	5521	第一弧形限位孔
				200	滑轨	600	第三光学检测工位
300	载物台	610	第三支架
				310	载物底座	620	第三拍摄设备
311	腔位	621	第三相机
				312	连接轴	622	第三镜头
320	载物支撑板	630	第三光源
				330	连接轴驱动件	640	第三光源支架
340	驱动件	650	第三连接件
				400	第一光学检测工位	700	第四光学检测工位
410	第一支架	710	第四支架
				410a	第一连接孔	720	第四拍摄设备
411	第一支撑柱	721	第四相机
				412	第二支撑柱	722	第四镜头
413	第一支撑杆	730	第四光源
				4131	夹持部	740	第四光源支架
420	第一拍摄设备	750	第四连接件
				421	第一相机	800	第五光学检测工位
422	第一镜头	810	第五支架
				430	第一光源	820	第五拍摄设备
440	第一光源支架	821	第五相机
				441	第一连接板	822	第五镜头
4411	第四连接孔	830	第五光源
				442	第一光源连接件	840	第五光源支架
4421	第三腰形调节孔	841	第二连接板
				450	第一连接件	8411	第六腰形调节孔
451	第一L型连接部	842	第二光源连接件
				4511	第一连接块	900	第六光学检测工位
4512	第一腰形调节孔	910	第六支架
				4513	第二连接块	911	第三支撑柱
4514	第二腰形调节孔	912	第四支撑柱
				452	第二L型连接部	913	第二支撑杆
4521	第三连接块	920	第六拍摄设备
				4522	第四连接块	921	第六相机
500	第二光学检测工位	922	第六镜头
				510	第二支架	930	第六光源
520	第二拍摄设备	940	第六光源支架
				521	第二相机	941	U型支撑部
522	第二镜头	9411	第九腰形调节孔
				530	第二光源	942	第二平板状支撑部
531	光源连接块	9421	第十腰形调节孔
				540	第二光源支架	9422	第三弧形限位孔
541	L型支撑部	950	第六连接件
				5411	第五连接块	951	第一连接部
5412	第四腰形调节孔	9511	第七腰形调节孔
				5413	第六连接块	952	第二连接部
5414	第五腰形调节孔	9521	第八腰形调节孔
				542	第一平板状支撑部	953	加强部

具体对应参阅说明书附图和具体实施方式。

具体实施方式

为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

需要说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接或者间接位于该另一个部件上。当一个部件被称为“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

纳米晶导磁片在制作的过程中，纳米晶导磁片的上部设有多个层膜，分别为二维码区域11、纳米晶区域12（NC区域）、蓝膜区域13、石墨区域14以及铜箔区域15，其各个膜层外观表面存在较多的缺陷，请参阅图1，蓝膜区域13设于纳米晶导磁片上方的边缘，蓝膜区域13存在的缺陷通常包括蓝膜偏位、蓝膜褶皱等；二维码区域11位于蓝膜区域13左上角，二维码区域11存在缺陷通常包括二维码变形、二维码断码等；石墨区域14设于纳米晶导磁片的上方，并位于蓝膜区域13的内侧上方，石墨区域13存在缺陷通常包括石墨压痕、石墨分层、缺石墨、石墨皱、石墨包边皱等；铜箔区域15设于石墨区域14的右下角，铜箔区域15存在缺陷通常包括铜箔胶皱、铜箔压印等；纳米晶区域12设于纳米晶导磁片上方的中部，并位于石墨区域14的内侧上方，纳米晶区域12存在缺陷通常包括鼓包、成品压伤、碎裂、胶皱、异物、包边褶皱、裂纹、以及漏铜等。

本发明实施例为了对纳米晶导磁片上的膜层包括的各区域存在的外观缺陷进行快速、准确的检测，提出了一种自动检测装置，具体如下：

请参阅图1和图2，本实施例提供了一种自动检测装置1000，包括：架体100；滑轨200，滑轨200设于架体100的上方并与架体100连接；载物台300，载物台300设于滑轨200的上方并与滑轨200滑动连接，载物台300用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；多个光学检测工位，多个光学检测工位沿滑轨来料方向依次设置，可对所述滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个光学检测工位用于对纳米晶导磁片上的膜层的至少一个待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整。

本实施例提供的自动检测装置1000的工作原理如下：

本实施例提供的自动检测装置1000，将纳米晶导磁片放置于载物台300上，自动检测装置1000的控制器可以控制载物台300在滑轨200上滑动至光学检测工位，由于纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，其待检测区域为二维码区域11、纳米晶区域12、蓝膜区域13、石墨区域14或铜箔区域15，并且每个区域存在一种或者多种外观缺陷，因此，本实施例提供了多个光学检测工位，用于实现每个光学检测工位对至少一个待检测区域的一种或者多种外观缺陷进行检测，从而提高了对纳米晶导磁片的膜层外观缺陷检测的准确性，提升产品良率，同时由于每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整，在检测纳米晶导磁片的膜层外观时，将各光学检测工位相对待检测区域的位置调整至最佳成像位置，从而使得待检测区域存在的外观缺陷成像明显，并且每一光学检测工位会将成像数据自动上传至服务器，并会对检测的膜层外观缺陷成像结果进行分析统计，通过大数据分析问题，提升产品良率，且其整个过程无需人工操作，提高了生产效率。

本实施例提供的自动检测装置1000的有益效果至少在于：

（1）本实施例提供的自动检测装置1000，将纳米晶导磁片放置于载物台300上之后，通过自动检测装置1000实现对纳米晶导磁片的膜层存在的外观缺陷进行自动化的方式进行检测，并对其检测的结果进行分析统计，有利于提高产品良率，并且整个过程无需人工操作，完全替代人工，提高了生产效率。

（2）本实施例提供的自动检测装置1000，提供了多个光学检测工位，用于实现每个光学检测工位对至少一个待检测区域进行检测，从而实现可以充分的检测出纳米晶导磁片上的每一个区域存在的所有外观缺陷，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性，进而检测结果准确、可靠，提升产品良率，可实现稳定生产。

（3）由于每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整，在检测纳米晶导磁片的膜层时，将各光学检测工位相对待检测区域的位置调整至最佳成像位置，从而使得待检测区域存在的外观缺陷成像明显，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性。

在一个实施例中，请参阅图3，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第一光学检测工位400，第一光学检测工位400用于对蓝膜区域13和/或二维码区域11进行检测，第一光学检测工位400包括：第一支架410，第一支架410设于架体100上并与架体100连接；第一拍摄设备420，第一拍摄设备420设于第一支架410上并与第一支架410连接，且第一拍摄设备420可相对第一支架410移动，第一拍摄设备420包括第一相机421，第一相机421为面阵相机；第一光源430，第一光源430设于第一拍摄设备420的下方，且第一光源430和第一拍摄设备420位于同一轴线并与滑轨200垂直，第一光源430为白环光；第一光源支架440，第一光源支架440设于第一支架410上并与第一支架410连接，第一光源430设于第一光源支架440上，且第一光源支架440用于调节第一光源430的位置。当第一拍摄设备420通过第一支架410调整至预设位置、第一光源430通过第一光源支架440调整至最佳位置时，通过第一相机421和第一光源430的配合，且第一相机421为面阵相机，第一光源430为白环光，可以使得蓝膜区域13存在的蓝膜偏位缺陷，和/或二维码区域存在的二维码变形、二维码断码缺陷成像效果明显，从而使得第一光学检测工位400实现用于对蓝膜区域13的蓝膜偏位和/或二维码区域11的二维码变形、二维码断码进行检测。

可选的是，第一拍摄设备420还包括第一镜头422。可选的是，第一镜头422为FA镜头，镜头倍率为16mm，像素精度为0.01mm/picel，成像视野为80×80mm。可选的是，第一镜头422与载物台300的距离为230~250mm。可选的是，第一镜头422与载物台300的距离为236mm。应当理解的是，第一镜头422与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。可选的是，第一光源430与载物台300的距离为40~70mm。可选的是，第一光源430与载物台300的距离为50~60mm。可选的是，第一光源430与载物台300的距离为55mm。应当理解的是，第一光源430与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第一支架410上设有第一连接件450，第一连接件450用于将第一拍摄设备420连接于第一支架410上，并可实现对第一拍摄设备420的位置调节。可选的是，第一连接件450包括第一L型连接部451和第二L型连接部452，第一支架410与第一L型连接部451连接，第一L型连接部451和第二L型连接部452连接，第二L型连接部452与第一拍摄设备420连接，从而实现将第一拍摄设备420连接于第一支架410上。

可选的是，第一L型连接部451的第一连接块4511上设有至少一个第一腰形调节孔4512，第一支架410上设有至少一个第一连接孔410a，第一螺杆（图中未示出，下同）依次穿过第一腰形调节孔4512、以及第一连接孔410a连接，第一腰形调节孔4512和第一连接孔410a的设置方便实现第一拍摄设备420在Z轴方向上的移动，以便于根据实际需求移动第一拍摄设备420在Z轴方向的距离。

可选的是，第一腰形调节孔4512的数量为两个，且两个第一腰形调节孔4512平行设置，使得第一连接件450与第一支架410连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第一连接孔410a设置有两排，且每排第一连接孔410a上设置有多个第一连接孔。应当第一腰形调节孔4512和第一连接孔410a的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第一L型连接部451的第二连接块4513上设有至少一个第二腰形调节孔4514，第二L型连接部452的第三连接块4521上设有至少一个第二连接孔（图中未示出，下同），第二螺杆依次穿过第二腰形调节孔4514、以及第二连接孔连接，第二腰形调节孔4514和第二连接孔的设置方便实现第一拍摄设备420在Y轴方向上的移动，以便于根据实际需求移动第一拍摄设备420在Y轴方向的距离。

可选的是，第二腰形调节孔4514的数量为两个，且两个第二腰形调节孔4514平行设置，使得第二L型连接部452与第一L型连接部451连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第二连接孔设置有两排，且每排第二连接孔上设置有多个第二连接孔。应当第二腰形调节孔4514和第二连接孔的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第二L型连接部452的第四连接块4522上设有至少一个第三连接孔（图中未示出，下同），第四连接块4522通过第三连接孔与第一拍摄设备420连接。可选的是，第四连接块4522的设置方向与滑轨200平行，滑轨200设置方向定义为X方向，也即第一拍摄设备420在X轴方向上的移动可以通过纳米晶导磁片在滑轨200上的滑行距离来调整。

可选的是，第一支架410包括设于滑轨200两侧的第一支撑柱411、第二支撑柱412以及第一支撑杆413，第一支撑柱411和第二支撑柱412平行设置，第一支撑杆413设于第一支撑柱411和第二支撑柱412之间并与第一支撑柱411和第二支撑柱412连接，也即第一支撑杆413跨设于滑轨200的上方。

可选的是，第一连接件450设于第一支撑杆413的上并也第一支撑杆413连接。可选的是，第一L型连接部451的第一连接块4511与第一支撑杆413连接。可选的是，第一支撑杆413的两端设有夹持部4131，夹持部4131与第一支撑柱411和第二支撑柱412夹紧，并通过螺钉连接。

可选的是，第一光源支架440包括第一连接板441和第一光源连接件442，第一支架410与第一连接板441连接，第一连接板441和第一光源连接件442连接，第一光源430与第一光源连接件442连接。

可选的是，第一连接板441上设有至少一个第四连接孔4411，第一光源连接件442上设有第三腰形调节孔4421，第三螺杆依次穿过第三腰形调节孔4421、以及第四连接孔4411连接，第三腰形调节孔4421和第四连接孔4411的设置方便实现第一光源430在与滑轨200垂直的方向上运动，也即Y轴方向上运动，以便于根据实际需求移动第一光源430在Y轴方向的距离。

可选的是，第三腰形调节孔4421的数量为两个，且两个第三腰形调节孔4421平行设置，使得第一光源连接件442与第一连接板441连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第四连接孔4411设置有两排，且每排第四连接孔4411上设置有多个第四连接孔。应当理解的是，第三腰形调节孔4421和第四连接孔4411的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

在一个实施例中，请参阅图4和图5，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第二光学检测工位500，第二光学检测工位500用于对纳米晶区域12和/或铜箔区域15进行检测，第二光学检测工位500包括：第二支架510，第二支架510设于架体100上并与架体100连接；第二拍摄设备520，第二拍摄设备520设于第二支架510上并与第二支架510连接，且第二拍摄设备520可相对第二支架510转动，第二拍摄设备520与滑轨200形成第一夹角α，第一夹角α的范围值为50°~70°，第二拍摄设备520包括第二相机521，第二相机521为线阵相机；第二光源530，第二光源530为白条光；第二光源支架540，第二光源支架540设于架体100上并与架体100连接，第二光源530设于第二光源支架540上，且第二光源支架540用于调节第二光源530的位置。当第二拍摄设备520通过第二支架510转动调节至预设角度50°~70°、第二光源530通过第二光源支架540调节至最佳位置时，第二相机521和第一光源540的配合，且第二相机521为线阵相机，第二光源530为白条光，可以使得纳米晶区域12存在的鼓包、成品压伤、碎裂，和/或铜箔区域15存在的铜箔压印成像效果明显，从而使得第二光学检测工位500实现用于对纳米晶区域12的鼓包、成品压伤、碎裂，和/或铜箔区域15的铜箔压印进行检测。

可选的是，第二拍摄设备520还包括第二镜头522。可选的是，第二镜头522为远心镜头，镜头倍率为1.5mm，像素精度为0.008mm/picel，成像视野为80×80mm。

可选的是，第二拍摄设备520朝向滑轨200来料方向倾斜并与滑轨200形成第一夹角α，且第二光源530位于第二拍摄设备520的前端，也即第二光源530位于滑轨200来料一侧。可选的是，第一夹角α为50°。可选的是，第一夹角α为62°。可选的是，第一夹角α为70°。应当理解的是，第一夹角α并不限于为上述情形，还可以是其他数值，此处不作限制。

在一个实施例中，第二支架510上设有第二连接件550，用于将第二拍摄设备520可转动的连接于第二支架510上，实现对第二拍摄设备520的角度调节。

可选的是，第二连接件550包括转动连接部551和设于转动连接部551两侧的转动限位部552，第二拍摄设备520与转动连接部551连接，转动连接部551与转动限位部552转动连接，转动限位部552与第二支架510连接，从而实现通过转动连接部551与转动限位部552的配合实现第二拍摄设备520的转动。

可选的是，每一转动限位部552上设有至少一个第一弧形限位孔5521，转动连接部551的两侧设有转轴（图中为示出，下同），且转轴与转动连接部551连接并延伸出转动连接部551，延伸出的转轴设于第一弧形限位孔5221内，并可在第一弧形限位孔5521的预设轨迹进行转动，从而实现通过转轴与第一弧形限位孔5521的配合实现第二拍摄设备520的转动。

可选的是，第一弧形限位孔5521的数量为两个，且两个第一弧形限位孔5521呈同心设置。对应的转轴的数量也为两个。应当理解的时，第一弧形限位孔5521和转轴的数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第二相机521设于转动连接部551上并与转动连接部551连接。可选的是，转动连接部551上设有夹紧部5511，用于将第二镜头522夹紧。

可选的是，第二支架510的结构与第一支架410的结构相同，此处不再赘述。

在一个实施例中，第二光源支架540包括L型支撑部541和第一平板状支撑部542，L型支撑部541与架体100连接，L型支撑部541与第一平板状支撑部542连接，第一平板状支撑部542与第二光源530连接。

可选的是，其滑轨200两侧均设有L型支撑部541和第一平板状支撑部542。可选的是，L型支撑部541的第五连接块5411上设有第四腰形调节孔5412，架体100上设有第五连接孔，第四螺杆依次穿过第四腰形调节孔5412、以及第五连接孔并连接，第四腰形调节孔5412和第五连接孔的设置方便了实现第二光源支架540沿滑轨200方向上移动，也即X轴方向上移动，以调节第二光源530与第二拍摄设备520的距离。

可选的是，第四腰形调节孔5412的数量为两个，且两个第四腰形调节孔5412平行设置，使得L型支撑部541与架体100连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第五连接孔设置有两排，且每排第五连接孔上设置有多个第五连接孔。应当第四腰形调节孔5412和第五连接孔的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，L型支撑部541的第六连接块5413上设有第五腰形调节孔5414，第一平板状支撑部542设有第六连接孔5421，第五螺杆依次穿过第五腰形调节孔5414、以及第六连接孔5421并连接，第五腰形调节孔5414和第六连接孔5421的设置方便了实现第二光源支架540在Y轴方向上移动，以调节第二光源530与第二拍摄设备520的距离。

可选的是，第五腰形调节孔5414的数量为两个，且两个第五腰形调节孔5414平行设置，使得L型支撑部541与第一平板状支撑部542连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第六连接孔5421设置有两排，且每排第六连接孔5421上设置有多个第六连接孔。应当第五腰形调节孔5414和第六连接孔5421的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第一平板状支撑部542远离L型支撑部541的一端设有第二弧形限位孔5422，第二光源530的两端设有光源连接块531，光源连接块531上设有第七连接孔（图中未示出，下同），第六螺杆依次穿过第二弧形限位孔5422、以及第七连接孔连接，第二弧形限位孔5422和第七连接孔的设置方便了实现调节第二光源530的光线出射方向，使得第二拍摄设备520在采集图像时，图像的整体均匀性好，外观缺陷成像明显，提高了图像采集的准确性。

在一个实施例中，请参阅图6和图7，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第三光学检测工位600，第三光学检测工位600用于对石墨区域14进行检测，第三光学检测工位600包括：第三支架610，第三支架610设于架体100上并与架体100连接；第三拍摄设备620，第三拍摄设备620设于第三支架610上并与第三支架610连接，且第三拍摄设备620可相对第三支架610转动，第三拍摄设备620与滑轨200形成第二夹角β，第二夹角β的范围值为70°~90°，第三拍摄设备620包括第三相机621，第三相机621为线阵相机；第三光源630，第三光源为白条光；第三光源支架640，第三光源支架640设于架体100上并与架体100连接，第三光源630设于第三光源支架640上，且第三光源支架640用于调节第三光源630的位置。当第三拍摄设备620通过第三支架610转动调节至预设角度70°~90°、第三光源630通过第三光源支架调节至最佳位置时，第三相机621和第三光源640的配合，且第三相机621为线阵相机，第三光源630为白条光，可以使得石墨区域14存在的石墨压痕、石墨分层成像效果明显，从而使得第三光学检测工位600实现用于对石墨区域14的石墨压痕、石墨分层进行检测。

可选的是，第三拍摄设备620还包括第三相机621。可选的是，第三镜头622为远心镜头，镜头倍率为1.5mm，像素精度为0.008mm/picel，成像视野为80×80mm。可选的是，第三光源630为线形光源。

可选的是，第三拍摄设备620朝向滑轨200来料方向倾斜并与滑轨200形成第二夹角β，且第三光源630位于第三拍摄设备620的前端，也即第三光源630位于滑轨200来料方向的一侧。可选的是，第二夹角β为70°。可选的是，第二夹角β为80°。可选的是，第二夹角β为86°。应当理解的是，第二夹角β并不限于为上述情形，还可以是其他数值，此处不作限制。

可选的是，第三支架610上设有第三连接件650，用于将第三拍摄设备620可转动的连接于第三支架610上，实现对第三拍摄设备620的角度调节。可选的是，第三连接件650的结构与第二连接件550的结构相同，此处不再赘述。可选的是，第三支架610的结构与第一支架410的结构相同，此处不再赘述。可选的是，第三光源支架640的结构与第二光源支架540的结构相同，此处不再赘述。

在一个实施例中，请参阅图8，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第四光学检测工位700，第四光学检测工位700用于对纳米晶区域12和/或石墨区域14和/或铜箔区域15进行检测，第四光学检测工位700包括：第四支架710，第四支架710设于架体100上并与架体100连接；第四拍摄设备720，第四拍摄设备720设于第四支架710上并与第四支架710连接，且第四拍摄设备720可相对第四支架710移动，第四拍摄设备720包括第四相机721，第四相机721为面阵相机；第四光源730，第四光源730设于第四拍摄设备720的下方，且第四光源730和第四拍摄设备720位于同一轴线并与滑轨200垂直，第四光源730为蓝环光；第四光源支架740，第四光源支架740设于第四支架710上并与第四支架710连接，第四光源730设于第四光源支架740上，且第四光源支架740用于调节第四光源730的位置。当第四拍摄设备720通过第四支架710调整至预设位置、第四光源730通过第四光源支架740调整至最佳位置时，通过第四相机721和第四光源730的配合，且第四相机721为面阵相机，第四光源730为蓝环光，可以使得纳米晶区域12存在的纳米晶胶皱、异物，和/或石墨区域14存在的缺石墨、石墨皱，和/或铜箔区域15存在的铜箔胶皱缺陷成像效果明显，从而使得第四光学检测工位700实现用于对纳米晶区域12的纳米晶胶皱、异物，和/或石墨区域14的缺石墨、石墨皱，和/或铜箔区域15的铜箔胶皱进行检测。

可选的是，第四拍摄设备720还包括第四镜头722。可选的是，第四镜头722为FA镜头，镜头倍率为16mm，像素精度为0.01mm/picel，成像视野为80×80mm。可选的是，第四镜头722与载物台300的距离为230~250mm。可选的是，第四镜头722与载物台300的距离为236mm。应当理解的是，第四镜头722与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。可选的是，第四光源730与载物台300的距离为40~70mm。可选的是，第四光源730与载物台300的距离为50~60mm。可选的是，第四光源730与载物台300的距离为55mm。应当理解的是，第四光源730与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第四支架710上设有第四连接件750，用于将第四拍摄设备720连接于第四支架710上，实现对第四拍摄设备720的位置调节。可选的是，第四连接件750的结构与第一连接件450的结构相同，此处不再赘述。可选的是，第四光源支架740与第一光源支架440的结构相同，此处不再赘述。可选的是，第四支架710与第一支架410的结构相同，此处不再赘述。

在一个实施例中，请参阅图9，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第五光学检测工位800，第五光学检测工位800用于对纳米晶区域12和/或石墨区域14和/或蓝膜区域13进行检测，第五光学检测工位800包括：第五支架810，第五支架810设于架体100上并与架体100连接；第五拍摄设备820，第五拍摄设备820设于第五支架810上并与第五支架810连接，且第五拍摄设备820可相对第五支架810移动，第五拍摄设备820包括第五相机821，第五相机821为面阵相机；第五光源830，第五光源830设于第五拍摄设备820的下方，第五光源830和第五拍摄设备820位于同一轴线并与滑轨200垂直，第五光源830为白同轴光；第五光源支架840，第五光源支架840设于第五支架810上并与第五支架810连接，第五光源830设于第五光源支架840上，且第五光源支架840用于调节第五光源830的位置。当第五拍摄设备820通过第五支架810调整至预设位置、第五光源830通过第五光源支架840调整至最佳位置时，通过第五相机821和第五光源830的配合，且第五相机821为面阵相机，第五光源830为白同轴光，可以使得纳米晶区域12存在的纳米晶包边褶皱、裂纹，和/或石墨区域14存在的石墨包边皱，和/或蓝膜区域13存在的蓝膜褶皱缺陷成像效果明显，从而使得第五光学检测工位800实现用于对纳米晶区域12的纳米晶包边褶皱、裂纹，和/或石墨区域14的石墨包边皱，和/或蓝膜区域13的蓝膜褶皱进行检测。通过第五拍摄设备820和第五光源830的配合，至少可以实现对纳米晶导磁片上的纳米晶区域12存在的NC包边褶皱和裂纹、石墨区域14存在的石墨包边皱以及蓝膜区域13存在的蓝膜褶皱的外观缺陷进行图像采集，并上传服务器进行统计分析，同时由于第五拍摄设备820可相对第五支架810移动、第五光源支架840可以调节第五光源830的位置，其可以根据实际情况调节第五拍摄设备820和第五光源830的位置以最佳的成像效果对纳米晶区域12、石墨区域14以及蓝膜区域13进行图像采集，使得外观缺陷成像效果明显，从而提高了图像采集的准确性。

可选的是，第五拍摄设备820还包括第五镜头822。可选的是，第五镜头822为FA镜头，镜头倍率为16mm，像素精度为0.01mm/picel，成像视野为80×80mm。可选的是，第五镜头822与载物台300的距离为230~250mm。可选的是，第五镜头822与载物台300的距离为236mm。应当理解的是，第五镜头822与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。可选的是，第五光源830与载物台300的距离为10~20mm。可选的是，第五光源830与载物台300的距离为15mm。第五光源830与载物台300的距离并不限于为上述情形，还可以是其他情形。

可选的是，第五支架810上设有第五连接件852，用于将第五拍摄设备820连接于第五支架810上，实现对第五拍摄设备820的位置调节。可选的是，第五连接件850的结构与第一连接件450的结构相同，此处不再赘述。可选的是，第五支架810与第一支架410的结构相同，此处不再赘述。

可选的是，第五光源支架840包括第二连接板841和第二光源连接件842，第五支架810与第二连接板841连接，第一连接板841和第二光源连接件842连接，第五光源830与第二光源连接件842连接。

可选的是，第二连接板841设有至少一个第六腰形调节孔8411，第二光源连接件842上设有第八连接孔，第七螺杆依次穿过第六腰形调节孔8411、以及第八连接孔并连接，第六腰形调节孔8411和第八连接孔的设置方便实现第五光源830在与滑轨200垂直的方向上运动，也即Y轴方向上运动，以便于根据实际需求移动第五光源830在Y轴方向的距离。

可选的是，第六腰形调节孔8411的数量为两个，且两个第六腰形调节孔8411平行设置，使得第二光源连接件842与第二连接板841连接得更加稳定，不会晃动，运行时也更加平稳。可选的是，第八连接孔设置有两排，且每排第八连接孔上设置有多个第八连接孔。第六腰形调节孔8411和第八连接孔的设置数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

在一个实施例中，请参阅图10，并结合参阅图1和图2，自动检测装置包括第六光学检测工位，第六光学检测工位900用于对纳米晶区域12进行检测，第六光学检测工位900包括：第六支架910，第六支架910设于架体100上并与架体100连接；第六拍摄设备920，第六拍摄设备920设于第六支架910上并与第六支架910连接，且第六拍摄设备920可相对第六支架910移动，第六拍摄设备920包括第六相机921，第六相机921为面阵相机；第六光源930，第六光源930为红条光；第六光源支架940，第六光源支架940设于第六支架910上并与第六支架910连接，第六光源930设于第六光源支架940上，且第六光源支架940用于调节第六光源930的位置。当第六拍摄设备920通过第六支架910调整至预设位置、第六光源930通过第六光源支架940调整至最佳位置时，通过第六相机921和第六光源930的配合，且第六相机421为面阵相机，第六光源430为红条光，可以使得纳米晶区域12存在的漏铜缺陷成像效果明显，从而使得第六光学检测工位900实现用于对纳米晶区域12的漏铜进行检测。

可选的是，第六拍摄设备920还包括第六镜头922，可选的是，第二镜头922为FA镜头，镜头倍率为16mm，像素精度为0.02mm/picel，成像视野为80×80mm。

可选的是，第六光源930设于第六拍摄设备920的一侧。可选的是，第六光源930与滑轨200平行。

可选的是，第六支架910上设有第六连接件950，用于将第六拍摄设备920连接于第六支架910上，实现对第六拍摄设备920的位置调节。

可选的是，第六连接件950包括第一连接部951和第二连接部952，第一连接部951和第二连接部952垂直设置并连接，第一连接部951与第六支架910连接，第二连接部952与第六拍摄设备920连接。

可选的是，第一连接部951和第二连接部952连接处还设有加强部953。

可选的是，第一连接部951上设有第七腰形调节孔9511，第六支架910上设有第九连接孔，第八螺杆依次穿过第七腰形调节孔9511、以及第九连接孔并连接，第七腰形调节孔9511和第九连接孔的设置实现第六拍摄设备920在Z轴方向上的移动。

可选的是，第七腰形调节孔9511的数量为两个，且平行设置，其不仅使得第一连接部951与第六支架910连接牢固，且运行时运行平稳。可选的是，第九连接孔的设置有两排，且每排第九连接孔上设置有多个第九连接孔。应当理解的是，第七腰形调节孔9511、第九连接孔的数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第二连接部952上设有第八腰形调节孔9521，第六拍摄设备920通过第八腰形调节孔9521与第二连接部952连接，用于实现第六拍摄设备920在Y轴方向上的移动。可选的是，第八腰形调节孔9521的数量为两个，且平行设置，其不仅使得第六拍摄设备920与第二连接部952连接牢固，且运行时运行平稳。应当理解的是，第八腰形调节孔9521的数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第六光源支架940包括U型支撑部941和第二平板状支撑部942，U型支撑部941与第六支架910连接，U型支撑部941与第二平板状支撑部942连接，第二平板状支撑部942与第六电源930连接。

可选的是，U型支撑部941与第二连接部952连接。可选的是，U型支撑部941上设有第九腰形调节孔9411，第二连接部952上设有第十连接孔，第九螺杆依次穿过第九腰形调节孔9411、以及第十连接孔连接，第九腰形调节孔9411和第十连接孔的设置方便实现第六光源930在Y轴方向上的移动，以调节第六光源930与第六拍摄设备920的距离。

可选的是，第九腰形调节孔9411的数量为两个，且平行设置，其不仅使得U型支撑部941与第二连接部952连接牢固，且运行时运行平稳。可选的是，第十连接孔的设置有两排，且每排第十连接孔上设置有多个第十连接孔。应当理解的是，第九腰形调节孔9411、第十连接孔的数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第二平板状支撑部942上设有第十腰形调节孔9421，U型支撑部941上设有第十一连接孔，第十螺杆依次穿过第十腰形调节孔9421、以及第十一连接孔并连接，第十腰形调节孔9421和第十一连接孔的设置方便实现第六光源930在Z轴方向上的移动，以调节第六光源930与第六拍摄设备920的距离。

可选的是，第十腰形调节孔9421的数量为两个，且平行设置，其不仅使得U型支撑部941与第二平板状支撑部942连接牢固，且运行时运行平稳。可选的是，第十一连接孔的设置有两排，且每排第十一连接孔上设置有多个第十一连接孔。应当理解的是，第十腰形调节孔9421、第十一连接孔的数量和排布方式并不限于为上述情形，还可以是其他情形，此处不作限制。

可选的是，第二平板状支撑部942远离U型支撑部941的一端设有第三弧形限位孔9422，使得第六光源930可以沿第三弧形限位孔9422的预设弧形轨迹进行转动，方便了实现调节第六光源930的光线出射方向至合适位置。

可选的是，第六支架910包括设于滑轨200同一侧的第三支撑柱911、第四支撑柱912以及第二支撑杆913，第三支撑柱911和第四支撑柱912平行设置，第二支撑杆913设于第三支撑柱911和第四支撑柱912之间并与第三支撑柱911和第四支撑柱912连接。可选的是，第六连接件950设于第二支撑杆913的上并也第二支撑杆913连接。可选的是，第一连接部951与第二支撑杆913连接。

在一个实施例中，请参阅图1、图11至13，载物台包括：载物底座310，载物底座310设于滑轨200的上方并与滑轨200可滑动连接；载物支撑板320，载物支撑板320设于载物底座310的上方并与载物底座310可转动连接。由于载物底座310与滑轨200滑动连接，可通过控制器控制驱动件340驱动载物台300承拖的被检测的纳米晶导磁片滑动至预设的任意光学检测工位进行检测，且运行平稳，并提高了工作效率，同时载物支撑板320与载物底座310可转动连接，方便实现对纳米晶导磁片的外观缺陷进行全方位检测，例如纳米晶区域12存在的漏铜外观缺陷，可通过控制器控制连接轴驱动件330驱动载物支撑板320相对载物底座310转动，实现对漏铜现象进行全方位检测，提高了检测结构的准确性。

在一个实施例中，请继续参阅图1、图11至13，载物底座310上设有腔位311，腔位311内设有连接轴312，连接轴312的一端与载物支撑板320连接，连接轴312的另一端与连接轴驱动件330连接。通过连接轴312实现载物支撑板320相对载物底座310转动，方便实现对纳米晶导磁片的外观缺陷进行全方位检测，从而提高了检测结构的准确性，且结构简单，转动运行平稳。

本实施例还提供一种自动检测方法，应用于自动检测装置，自动检测装置包括：架体；滑轨，滑轨设于架体的上方并与架体连接；载物台，载物台设于滑轨的上方并与滑轨滑动连接，载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；沿滑轨来料方向依次设置的第一光学检测工位、第二光学检测工位、第三光学检测工位、第四光学检测工位、第五光学检测工位以及第六光学检测工位，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整；

自动检测方法包括：

S100，通过第一光学检测工位的第一拍摄设备采集纳米晶导磁片的蓝膜区域和/或二维码区域的图像，以确认蓝膜区域是否存在蓝膜偏位，和/或二维码区域是否存在不良缺陷，不良缺陷包括二维码变形、断码；

S200，通过第二光学检测工位的第二拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在鼓包、成品压伤、碎裂，和/或铜箔区域是否存在铜箔压印；

S300，通过第三光学检测工位的第三拍摄设备采集纳米晶导磁片的石墨区域的图像，以确认石墨区域是否存在石墨压痕、石墨分层；

S400，通过第四光学检测工位的第四拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶胶皱、异物，和/或石墨区域是否存在缺石墨、石墨皱，和/或铜箔区域是否存在铜箔胶皱；

S500，通过第五光学检测工位的第五拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或蓝膜区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶包边褶皱、裂纹，和/或石墨区域是否存在石墨包边皱，和/或蓝膜区域是否存在蓝膜褶皱；

S600，通过第六光学检测工位的第六拍摄设备采集纳米晶导磁片的纳米晶区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在漏铜。

综上所述，本实施例提供了一种自动检测装置1000，包括：架体100；滑轨200，滑轨200设于架体100的上方并与架体100连接；载物台300，载物台300设于滑轨200的上方并与滑轨200滑动连接，载物台300用于放置被检测的纳米晶导磁片，所述纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，所述待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；多个光学检测工位，多个所述光学检测工位沿所述滑轨来料方向依次设置，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片进行检测，每个所述光学检测工位用于对所述纳米晶导磁片上的膜层上的至少一个所述待检测区域进行检测，且每个所述光学检测工位的位置可相对其检测的所述待检测区域进行调整。本实施例提供还提供一种自动检测方法。本实施例提供的自动检测装置1000以及自动检测方法，将纳米晶导磁片放置于载物台300上之后，通过自动检测装置1000实现对纳米晶导磁片的膜层存在的外观缺陷进行自动化的方式进行检测，并对其检测的结果进行分析统计，有利于提高产品良率，并且整个过程无需人工操作，完全替代人工，提高了生产效率。本实施例提供了多个光学检测工位，用于实现每个光学检测工位对至少一个待检测区域进行检测，从而实现可以充分的检测出纳米晶导磁片上的每一个区域存在的所有外观缺陷，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性，进而检测结果准确、可靠，提升产品良率，可实现稳定生产。由于每个光学检测工位的位置可相对其检测的待检测区域进行调整，在检测纳米晶导磁片的膜层时，将各光学检测工位相对待检测区域的位置调整至最佳成像位置，从而使得待检测区域存在的外观缺陷成像明显，提高了对膜层外观缺陷检测的准确性。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种自动检测方法，其特征在于，应用于自动检测装置，所述自动检测装置包括：

架体；

滑轨，所述滑轨设于所述架体的上方并与所述架体连接；

载物台，所述载物台设于所述滑轨的上方并与所述滑轨滑动连接，所述载物台用于放置被检测的纳米晶导磁片，所述纳米晶导磁片上的膜层包括多个待检测区域，所述待检测区域为二维码区域、纳米晶区域、蓝膜区域、石墨区域或者铜箔区域；

沿所述滑轨来料方向依次设置的第一光学检测工位、第二光学检测工位、第三光学检测工位、第四光学检测工位、第五光学检测工位以及第六光学检测工位，可对滑轨上依次输送来的纳米晶导磁片上的膜层的至少一个所述待检测区域进行检测，且每个光学检测工位的位置可相对其检测的所述待检测区域进行调整；

所述自动检测装置包括第一光学检测工位，所述第一光学检测工位用于对所述蓝膜区域和/或所述二维码区域进行检测，所述第一光学检测工位包括：

第一支架，所述第一支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第一拍摄设备，所述第一拍摄设备设于所述第一支架上并与所述第一支架连接，且所述第一拍摄设备可相对所述第一支架移动，所述第一拍摄设备包括第一相机，所述第一相机为面阵相机；

第一光源，所述第一光源设于所述第一拍摄设备的下方，且所述第一光源和所述第一拍摄设备位于同一轴线并与所述滑轨垂直，所述第一光源为白环光；

第一光源支架，所述第一光源支架设于所述第一支架上并与所述第一支架连接，所述第一光源设于所述第一光源支架上，且所述第一光源支架用于调节第一光源的位置；

所述自动检测装置包括第二光学检测工位，所述第二光学检测工位用于对所述纳米晶区域和/或所述铜箔区域进行检测，所述第二光学检测工位包括：

第二支架，所述第二支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第二拍摄设备，所述第二拍摄设备设于所述第二支架上并与所述第二支架连接，且所述第二拍摄设备可相对所述第二支架转动，所述第二拍摄设备与所述滑轨形成第一夹角，所述第一夹角的范围值为50°~70°，所述第二拍摄设备包括第二相机，所述第二相机为线阵相机；

第二光源，所述第二光源为白条光；

第二光源支架，所述第二光源支架设于架体上并与所述架体连接，所述第二光源设于第二光源支架上，且所述第二光源支架用于调节第二光源的位置；

所述自动检测装置包括第三光学检测工位，所述第三光学检测工位用于对所述石墨区域进行检测，所述第三光学检测工位包括：

第三支架，所述第三支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第三拍摄设备，所述第三拍摄设备设于所述第三支架上并与所述第三支架连接，且所述第三拍摄设备可相对所述第三支架转动，所述第三拍摄设备与所述滑轨形成第二夹角，所述第二夹角的范围值为70°~90°，所述第三拍摄设备包括第三相机，所述第三相机为线阵相机；

第三光源，所述第三光源为白条光；

第三光源支架，所述第三光源支架设于架体上并与所述架体连接，所述第三光源设于第三光源支架上，且所述第三光源支架用于调节第三光源的位置；

所述自动检测装置包括第四光学检测工位，所述第四光学检测工位用于对所述纳米晶区域和/或所述石墨区域和/或所述铜箔区域进行检测，所述第四光学检测工位包括：

第四支架，所述第四支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第四拍摄设备，所述第四拍摄设备设于所述第四支架上并与所述第四支架连接，且所述第四拍摄设备可相对所述第四支架移动，所述第四拍摄设备包括第四相机，所述第四相机为面阵相机；

第四光源，所述第四光源设于所述第四拍摄设备的下方，且所述第四光源和所述第四拍摄设备位于同一轴线并与所述滑轨垂直，所述第四光源为蓝环光；

第四光源支架，所述第四光源支架设于所述第四支架上并与所述第四支架连接，所述第四光源设于所述第四光源支架上，且所述第四光源支架用于调节第四光源的位置；

所述自动检测装置包括第五光学检测工位，所述第五光学检测工位用于对所述纳米晶区域和/或所述石墨区域和/或所述蓝膜区域进行检测，所述第五光学检测工位包括：

第五支架，所述第五支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第五拍摄设备，所述第五拍摄设备设于所述第五支架上并与所述第五支架连接，且所述第五拍摄设备可相对所述第五支架移动，所述第五拍摄设备包括第五相机，所述第五相机为面阵相机；

第五光源，所述第五光源设于所述第五拍摄设备的下方，所述第五光源和所述第五拍摄设备位于同一轴线并与所述滑轨垂直，所述第五光源为白同轴光；

第五光源支架，所述第五光源支架设于所述第五支架上并与所述第五支架连接，所述第五光源设于所述第五光源支架上，且所述第五光源支架用于调节第五光源的位置；

所述自动检测装置包括第六光学检测工位，所述第六光学检测工位用于对所述纳米晶区域进行检测，所述第六光学检测工位包括：

第六支架，所述第六支架设于所述架体上并与所述架体连接；

第六拍摄设备，所述第六拍摄设备设于所述第六支架上并与所述第六支架连接，且所述第六拍摄设备可相对第六支架移动，所述第六拍摄设备包括第六相机，所述第六相机为面阵相机；

第六光源，所述第六光源为红条光；

第六光源支架，所述第六光源支架设于所述第六支架上并与所述第六支架连接，所述第六光源设于所述第六光源支架上，且所述第六光源支架用于调节第六光源的位置；

所述自动检测方法包括：

通过所述第一光学检测工位的第一拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的蓝膜区域和/或二维码区域的图像，以确认蓝膜区域是否存在蓝膜偏位，和/或二维码区域是否存在不良缺陷，所述不良缺陷包括二维码变形、断码；

通过所述第二光学检测工位的第二拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在鼓包、成品压伤、碎裂，和/或铜箔区域是否存在铜箔压印；

通过所述第三光学检测工位的第三拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的石墨区域的图像，以确认石墨区域是否存在石墨压痕、石墨分层；

通过所述第四光学检测工位的第四拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或铜箔区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶胶皱、异物，和/或石墨区域是否存在缺石墨、石墨皱，和/或铜箔区域是否存在铜箔胶皱；

通过所述第五光学检测工位的第五拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的纳米晶区域和/或石墨区域和/或蓝膜区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在纳米晶包边褶皱、裂纹，和/或石墨区域是否存在石墨包边皱，和/或蓝膜区域是否存在蓝膜褶皱；

通过所述第六光学检测工位的第六拍摄设备采集所述纳米晶导磁片的纳米晶区域的图像，以确认纳米晶区域是否存在漏铜。

2.根据权利要求1所述的自动检测方法，其特征在于，所述第二支架上设有第二连接件，所述第二连接件包括转动连接部和设于转动连接部两侧的转动限位部，所述第二拍摄设备与所述转动连接部连接，所述转动连接部与所述转动限位部转动连接，所述转动限位部与所述第二支架连接；

和/或，所述第二光源支架包括L型支撑部和第一平板状支撑部，所述L型支撑部与所述架体连接，所述L型支撑部与所述第一平板状支撑部连接，所述第一平板状支撑部与所述第二光源连接。

3.根据权利要求1~2任一项所述的自动检测方法，其特征在于，所述载物台包括：

载物底座，所述载物底座设于所述滑轨的上方并与所述滑轨可滑动连接；

载物支撑板，所述载物支撑板设于所述载物底座的上方并与所述载物底座可转动连接。

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