CN112490104A - 一种等离子体清洗装置及其使用方法 - Google Patents

Abstract

本发明属于清洗领域，具体公开了一种等离子体清洗装置及其使用方法，包括壳体以及与壳体一侧活动连接的门板，本发明使用时，将待清洗的物品，依次放入放置槽中，由于放置槽呈圆台形状，便于不同大小的物品底部插入，且在放置槽的内部处设置有缓冲块，对放入的物品起到一定的缓冲作用，且在放置槽的上端设置有挡板，对位于放置槽上端的物品起到一定的支撑作用，然后通过移动装置将推拉板移至壳体的内部，然后关闭门板，门板处，通过旋转转轴，带动固定板进行旋转，旋转至插入第一插槽中，对门板的位置进行固定，转轴转动可通过手动或者电机驱动其转动，可根据具体的需求选择，在门板的一侧设置有密封垫，起到一定的密封作用。

Description

一种等离子体清洗装置及其使用方法

技术领域

本发明涉及清洗技术领域，具体为一种等离子体清洗装置及其使用方法。

背景技术

等离子体是物质的一种状态，也叫物质的第四态，它是通过对气体施加足够的能量使之离化而成的，等离子体的“活性”组分包括离子、电子、活性集团、激发态的核素(亚稳态)、光子等，等离子清洗装置就是利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁的目的。

现有技术中的等离子体清洗装置，需要人们将其放置在内部，以实现清洗，但多次推拉，以降低使用寿命，且手动推拉不能解放人们的双手，给人们带来不便，且现有的放置板进行放置带清洗的物品时，不能对不同大小的物品进行清洗。

发明内容

本发明的目的在于提供一种等离子体清洗装置及其使用方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种等离子体清洗装置，包括壳体以及与壳体一侧活动连接的门板，所述壳体一侧的凹槽内放置有推拉板，所述壳体的顶部设置有等离子体发生器，所述推拉板的两侧安装有连接块，连接块对应插入位于推拉板两侧的侧边安装块的滑槽中，所述安装块与壳体一侧的凹槽内壁固定连接，所述安装块内部安装有移动装置，所述移动装置带动连接块沿着滑槽内部滑动；

所述推拉板上端设置有安装槽，所述安装槽内部均匀安装有若干个安装块，安装块上端设置有放置槽，沿着放置槽内部排列有若干缓冲块，且放置槽内部设置有若干透水孔，沿着安装块的顶部设置有挡板。

优选的，所述移动装置包括位于壳体侧边内部的电机、与电机输出轴连接的斜齿轮一、与斜齿轮一一侧相啮合的斜齿轮二以及设置在连接块底部的若干插槽。

优选的，所述斜齿轮二位于侧边安装块中，且斜齿轮二位于滑槽的下方，斜齿轮二的上端插入插槽与插槽相啮合。

优选的，所述门板不与壳体连接的一侧设置有第二插槽，靠近第二插槽的壳体内侧设置有第一插槽，所述第二插槽内部设置有固定板，固定板的中心处设置有转轴，所述转轴的一端穿过第二插槽位于门板的外侧，所述门板的一侧设置有密封垫。

优选的，所述固定板的一侧为圆弧形，转轴带动固定板旋转至固定板一侧插入第一插槽中，第一插槽和第二插槽位于同一竖直平面上。

优选的，所述放置槽的形状呈圆台形，且圆台下端的长度小于圆台上端的长度，所述挡板沿着放置槽的上端排列。

优选的，所述挡板呈弧形板，挡板的下端形状与放置槽的上端形状相匹配，挡板下端的两端延伸至放置槽两侧边的中心处。

优选的，所述挡板上端向两侧倾斜设置，挡板侧边的倾斜方向与放置槽的倾斜方向相匹配。

本发明还提供上述的一种等离子体清洗装置的使用方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、启动电机，通过移动装置带动连接块沿着滑槽内部滑动，进而带动推拉板向壳体的外侧移动；

S2、将待清洗的物品依次插入放置槽中，然后通过移动装置，带动推拉板向壳体的内侧移动，移动至推拉板位于壳体内部即可；

S3、旋转门板至门板的外侧与壳体的外侧相齐平，此时，旋转转轴，转轴带动固定板旋转，旋转至固定板弧形的一侧旋转至插入第一插槽中即可，此时，通过等离子体发生器对位于壳体内部的物品进行清理。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：使用时，将待清洗的物品，依次放入放置槽中，由于放置槽呈圆台形状，便于不同大小的物品底部插入，且在放置槽的内部处设置有缓冲块，对放入的物品起到一定的缓冲作用，且在放置槽的上端设置有挡板，对位于放置槽上端的物品起到一定的支撑作用，然后通过移动装置将推拉板移至壳体的内部，然后关闭门板，门板处，通过旋转转轴，带动固定板进行旋转，旋转至插入第一插槽中，对门板的位置进行固定，转轴转动可通过手动或者电机驱动其转动，可根据具体的需求选择，在门板的一侧设置有密封垫，起到一定的密封作用。

附图说明

图1为本发明整体的结构示意图；

图2为本发明门板旋转至与壳体连接的结构示意图；

图3为本发明壳体的结构示意图；

图4为本发明壳体的结构剖面图；

图5为本发明推拉板的结构示意图；

图6为本发明A的结构示意图。

图中：1、壳体；2、移动装置；21、电机；22、斜齿轮一；23、斜齿轮二；24、插槽；3、推拉板；4、安装槽；5、安装块；6、放置槽；7、挡板；8、透水孔；9、缓冲块；10、门板；11、连接块；12、滑槽；13、侧边安装块；14、等离子体发生器；15、第一插槽；16、第二插槽；17、转轴；18、固定板；19、密封垫。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：一种等离子体清洗装置，包括壳体1以及与壳体1一侧活动连接的门板10，所述壳体1一侧的凹槽内放置有推拉板3，所述壳体1的顶部设置有等离子体发生器14，所述推拉板3的两侧安装有连接块11，连接块11对应插入位于推拉板3两侧的侧边安装块13的滑槽12中，所述安装块13与壳体1一侧的凹槽内壁固定连接，所述安装块13内部安装有移动装置2，所述移动装置2带动连接块11沿着滑槽12内部滑动；

所述推拉板3上端设置有安装槽4，所述安装槽4内部均匀安装有若干个安装块5，安装块5上端设置有放置槽6，沿着放置槽6内部排列有若干缓冲块9，且放置槽6内部设置有若干透水孔8，沿着安装块5的顶部设置有挡板7。

进一步的，所述移动装置2包括位于壳体1侧边内部的电机21、与电机21输出轴连接的斜齿轮一22、与斜齿轮一22一侧相啮合的斜齿轮二23以及设置在连接块11底部的若干插槽24。

进一步的，所述斜齿轮二23位于侧边安装块13中，且斜齿轮二23位于滑槽12的下方，斜齿轮二23的上端插入插槽24与插槽24相啮合。

进一步的，所述门板10不与壳体1连接的一侧设置有第二插槽16，靠近第二插槽16的壳体1内侧设置有第一插槽15，所述第二插槽16内部设置有固定板18，固定板18的中心处设置有转轴17，所述转轴17的一端穿过第二插槽16位于门板10的外侧，所述门板10的一侧设置有密封垫19。

进一步的，所述固定板18的一侧为圆弧形，转轴17带动固定板18旋转至固定板18一侧插入第一插槽15中，第一插槽15和第二插槽16位于同一竖直平面上。

进一步的，所述放置槽6的形状呈圆台形，且圆台下端的长度小于圆台上端的长度，所述挡板7沿着放置槽6的上端排列。

进一步的，所述挡板7呈弧形板，挡板7的下端形状与放置槽6的上端形状相匹配，挡板7下端的两端延伸至放置槽6两侧边的中心处。

进一步的，所述挡板7上端向两侧倾斜设置，挡板7侧边的倾斜方向与放置槽6的倾斜方向相匹配。

本发明还提供上述的一种等离子体清洗装置的使用方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、启动电机21，通过移动装置2带动连接块11沿着滑槽12内部滑动，进而带动推拉板3向壳体1的外侧移动；

S2、将待清洗的物品依次插入放置槽6中，然后通过移动装置2，带动推拉板3向壳体1的内侧移动，移动至推拉板3位于壳体1内部即可；

S3、旋转门板10至门板10的外侧与壳体1的外侧相齐平，此时，旋转转轴17，转轴17带动固定板18旋转，旋转至固定板18弧形的一侧旋转至插入第一插槽15中即可，此时，通过等离子体发生器14对位于壳体1内部的物品进行清理。

工作原理：

使用时，将待清洗的物品，依次放入放置槽6中，由于放置槽6呈圆台形状，便于不同大小的物品底部插入，且在放置槽6的内部处设置有缓冲块9，对放入的物品起到一定的缓冲作用，且在放置槽6的上端设置有挡板7，对位于放置槽6上端的物品起到一定的支撑作用，然后通过移动装置2将推拉板3移至壳体1的内部，然后关闭门板10，门板10处，通过旋转转轴17，带动固定板18进行旋转，旋转至插入第一插槽15中，对门板10的位置进行固定，转轴17转动可通过手动或者电机驱动其转动，可根据具体的需求选择，在门板10的一侧设置有密封垫19，起到一定的密封作用；

移动装置2移动推拉板3时，通过启动电机21，电机21为正反电机，电机21带动斜齿轮一22进行旋转，斜齿轮一22带动斜齿轮二23进行旋转，旋转后，由于斜齿轮二23与插槽24相啮合，进而带动连接块11沿着滑槽12内部滑动。

值得注意的是：等离子体发生器以及正反电机属于现有成熟技术，在此不具体介绍该结构。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种等离子体清洗装置，其特征在于：包括壳体（1）以及与壳体（1）一侧活动连接的门板（10），所述壳体（1）一侧的凹槽内放置有推拉板（3），所述壳体（1）的顶部设置有等离子体发生器（14），所述推拉板（3）的两侧安装有连接块（11），连接块（11）对应插入位于推拉板（3）两侧的侧边安装块（13）的滑槽（12）中，所述安装块（13）与壳体（1）一侧的凹槽内壁固定连接，所述安装块（13）内部安装有移动装置（2），所述移动装置（2）带动连接块（11）沿着滑槽（12）内部滑动；

所述推拉板（3）上端设置有安装槽（4），所述安装槽（4）内部均匀安装有若干个安装块（5），安装块（5）上端设置有放置槽（6），沿着放置槽（6）内部排列有若干缓冲块（9），且放置槽（6）内部设置有若干透水孔（8），沿着安装块（5）的顶部设置有挡板（7）。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述移动装置（2）包括位于壳体（1）侧边内部的电机（21）、与电机（21）输出轴连接的斜齿轮一（22）、与斜齿轮一（22）一侧相啮合的斜齿轮二（23）以及设置在连接块（11）底部的若干插槽（24）。

3.根据权利要求2所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述斜齿轮二（23）位于侧边安装块（13）中，且斜齿轮二（23）位于滑槽（12）的下方，斜齿轮二（23）的上端插入插槽（24）与插槽（24）相啮合。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述门板（10）不与壳体（1）连接的一侧设置有第二插槽（16），靠近第二插槽（16）的壳体（1）内侧设置有第一插槽（15），所述第二插槽（16）内部设置有固定板（18），固定板（18）的中心处设置有转轴（17），所述转轴（17）的一端穿过第二插槽（16）位于门板（10）的外侧，所述门板（10）的一侧设置有密封垫（19）。

5.根据权利要求4所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述固定板（18）的一侧为圆弧形，转轴（17）带动固定板（18）旋转至固定板（18）一侧插入第一插槽（15）中，第一插槽（15）和第二插槽（16）位于同一竖直平面上。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述放置槽（6）的形状呈圆台形，且圆台下端的长度小于圆台上端的长度，所述挡板（7）沿着放置槽（6）的上端排列。

7.根据权利要求6所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述挡板（7）呈弧形板，挡板（7）的下端形状与放置槽（6）的上端形状相匹配，挡板（7）下端的两端延伸至放置槽（6）两侧边的中心处。

8.根据权利要求7所述的一种等离子体清洗装置，其特征在于：所述挡板（7）上端向两侧倾斜设置，挡板（7）侧边的倾斜方向与放置槽（6）的倾斜方向相匹配。

9.根据权利要求1-8任一所述的一种等离子体清洗装置的使用方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、启动电机（21），通过移动装置（2）带动连接块（11）沿着滑槽（12）内部滑动，进而带动推拉板（3）向壳体（1）的外侧移动；

S2、将待清洗的物品依次插入放置槽（6）中，然后通过移动装置（2），带动推拉板（3）向壳体（1）的内侧移动，移动至推拉板（3）位于壳体（1）内部即可；

S3、旋转门板（10）至门板（10）的外侧与壳体（1）的外侧相齐平，此时，旋转转轴（17），转轴（17）带动固定板（18）旋转，旋转至固定板（18）弧形的一侧旋转至插入第一插槽（15）中即可，此时，通过等离子体发生器（14）对位于壳体（1）内部的物品进行清理。

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