CN112002700A - 显示面板、显示装置以及显示系统 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种显示面板、显示装置以及显示系统，所述显示面板包括多个导通部；各导通部分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通待导通的金属层；任意两层待导通的金属层之间至少设置有两个导通部，本申请在不同的金属层进行转换时，采用至少两个导通部进行导通，实现不同的金属层多点连接，提高了不同的金属层转换的可靠性，即使一处导通部烧坏，还有其它导通部保证不同的金属层之间的导通，避免显示面板失效。

Description

显示面板、显示装置以及显示系统
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、显示装置以及显示系统。
背景技术
TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)基板是TFT-LCD(Thin filmtransistor liquid crystal display，薄膜晶体管液晶显示器)产品中能控制液晶偏转，进而影响画面显示的Array(阵列)侧基板，但是TFT基板与CF(Color Filter，彩色滤光片)基板合板前，需要进行电性能的综合检测。在综合检测过程中需要将面内线路连接到总线上，利用Shorting bar(短路条)的方式进行加电控制，AA(Active Area，显示区)区外围的Fanout(金属扇区)区内线路较多，交叉点也比较多，为了防止同层金属线路交叉短路，需要进行不同金属导电层的转换。
不同层金属线间的转换，主要通过蚀刻非金属层，漏出空洞，再利用导电薄膜填洞，将不同层金属连接起来，但是导电层薄膜较薄，当对总线路进行加电时最易被电流烧坏，因此，在实现过程中，发明人发现传统技术中至少存在如下问题：传统显示面板的不同金属层之间的连接处易烧坏，导致显示面板显示失效。
发明内容
基于此，有必要针对传统显示面板的不同金属层之间的连接处易烧坏，导致显示面板显示失效的问题，提供一种显示面板、显示装置以及显示系统。
为了实现上述目的，一方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括多个导通部；
各导通部分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通待导通的金属层；
任意两层待导通的金属层之间至少设置有两个导通部；且任意两层待导通的金属层之间的导通部相互间隔设置。
在其中一个实施例中，待导通的金属层为相邻的金属层时，导通部穿透待导通的金属层之间的非导电层。
在其中一个实施例中，非导电层包括栅极绝缘层和/或钝化层。
在其中一个实施例中，待导通的金属层之间至少夹设有一层中间金属层；导通部穿透待导通的金属层之间的非导电层和中间金属层，且导通部与中间金属层之间不导通。
在其中一个实施例中，非导电层包括栅极绝缘层和钝化层。
在其中一个实施例中，导通部为导电薄膜。
在其中一个实施例中，导电薄膜为金属导电膜、氧化物导电膜、化合物导电膜、高分子导电膜或复合导电膜。
在其中一个实施例中，待导通的金属层包括栅极金属层、源漏极金属层和像素电极金属层。
另一方面，本申请实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示面板。
又一方面，本申请实施例还提供了一种显示系统，包括处理设备以及上述显示装置；处理设备连接显示装置。
上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点和有益效果：
本申请各实施例提供的显示面板，包括多个导通部；各导通部分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通待导通的金属层；任意两层待导通的金属层之间至少设置有两个导通部，本申请在不同的金属层进行转换时，采用至少两个导通部进行导通，实现不同的金属层多点连接，提高了不同的金属层转换的可靠性，即使一处导通部烧坏，还有其它导通部保证不同的金属层之间的导通，避免显示面板失效。
附图说明
图1为一个实施例中显示面板的结构示意图；
图2为另一个实施例中显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的首选实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容更加透彻全面。
需要说明的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件并与之结合为一体，或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“夹设”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
为了解决传统显示面板的不同金属层之间的连接处易烧坏，导致显示面板显示失效的问题，在一个实施例中，如图1和2所示，提供了一种显示面板，包括多个导通部11；
各导通部11分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层13之间，用于导通待导通的金属层13；
任意两层待导通的金属层13之间至少设置有两个导通部11；且任意两层待导通的金属层13之间的导通部11相互间隔设置。
需要说明的是，导通部连接在显示面板中的两层不同待导通的金属层之间，用于导通两层不同的待导通的金属层。所述待导通的金属层包括栅极金属层、源漏极金属层和像素电极金属层。
导通部的数量根据实际需要而定，但是在待导通的两层金属层之间至少需要设置两个导通部，以备在其中一个损坏时，另一个仍然可以保证金属层之间的导通。待导通的两层金属层之间的导通部的数量越多，金属层连接导通的可靠性越高，但是导通部的具体数量受到金属层尺寸的制约，导通部的数量可根据金属层的尺寸来确定。
导通部用于导电，导通部采用导电材料制成，在一个示例中，导通部为导电薄膜，例如，在两层金属层之间的非导电层上制作通孔，将导电薄膜穿设于该通孔，从而连接通孔两层的金属层。进一步的，在一个示例中，导电薄膜为金属导电膜、氧化物导电膜、化合物导电膜、高分子导电膜或复合导电膜。
根据显示面板的结构不同，导通部可能存在不同的设置方式，在一个示例中，如图1所示，待导通的金属层13为相邻的金属层时，导通部11穿透待导通的金属层13之间的非导电层15。在该示例中，导通的是两层紧邻的金属层，在该两层紧邻的金属层之间的非导电层可能是栅极绝缘层、也能是钝化层，还可能同时是栅极绝缘层和钝化层。为了使两层紧邻的金属层导通，采用刻蚀工艺在非导电层上形成通孔，然后通孔内形成导通部，从而导通两层紧邻的金属层。
在一个示例中，如图2所示，待导通的金属层之间至少夹设有一层中间金属层；导通部穿透待导通的金属层之间的非导电层和中间金属层，且导通部与中间金属层之间不导通。在该示例中，需要待导通的金属层之间还存在其他金属层(中间金属层)，待导通的金属层需要跨过中间金属层进行导通，采用刻蚀工艺在非导电层和中间金属层上形成通孔，然后通孔内形成导通部，从而导通待导通的金属层。导通部与金属层不导通，在一个示例中，需要在中间金属层的通孔侧壁上镀一层非导电膜，然后再形成导通部。其中，非导电层包括栅极绝缘层和钝化层。
导通部可全部设置AA(Active Area，显示区)区，也可全部设置在AA区外周围的Fanout(金属扇区)区，还可以部分设置AA区部分设置在Fanout区，具体的设置方式可根据实际需求而定，在一个优选的示例中，由于传统技术中Fanout区内金属线路较多，金属线路的交叉点也比较多，线路容易出现交叉短路，为了防止Fanout区内出现同层金属线路交叉短路，需要对不同层金属层的进行转换，将导通部全部设置在Fanout区，且任意两层待导通的金属层之间包括两个导通部。
本申请显示面板的各实施例中，包括多个导通部；各导通部分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通待导通的金属层；任意两层待导通的金属层之间至少设置有两个导通部，本申请在不同的金属层进行转换时，采用至少两个导通部进行导通，实现不同的金属层多点连接，提高了不同的金属层转换的可靠性，即使一处导通部烧坏，还有其它导通部保证不同的金属层之间的导通，避免显示面板失效。
在一个实施例中，提供了一种显示装置，包括上述显示面板。
需要说明的是，所述显示面板包括多个导通部；各导通部分别设置在显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通待导通的金属层；任意两层待导通的金属层之间至少设置有两个导通部。
具体的，导通部连接在显示面板中的两层不同待导通的金属层之间，用于导通两层不同的待导通的金属层。所述待导通的金属层包括栅极金属层、源漏极金属层和像素电极金属层。
导通部的数量根据实际需要而定，但是在待导通的两层金属层之间至少需要设置两个导通部，以备在其中一个损坏时，另一个仍然可以保证金属层之间的导通。待导通的两层金属层之间的导通部的数量越多，金属层连接导通的可靠性越高，但是导通部的具体数量受到金属层尺寸的制约，导通部的数量可根据金属层的尺寸来确定。
导通部用于导电，导通部采用导电材料制成，在一个示例中，导通部为导电薄膜，例如，在两层金属层之间的非导电层上制作通孔，将导电薄膜穿设于该通孔，从而连接通孔两层的金属层。进一步的，在一个示例中，导电薄膜为金属导电膜、氧化物导电膜、化合物导电膜、高分子导电膜或复合导电膜。
根据显示面板的结构不同，导通部可能存在不同的设置方式，在一个示例中，如图1所示，待导通的金属层为相邻的金属层时，导通部穿透待导通的金属层之间的非导电层。在该示例中，导通的是两层紧邻的金属层，在该两层紧邻的金属层之间的非导电层可能是栅极绝缘层、也能是钝化层，还可能同时是栅极绝缘层和钝化层。为了使两层紧邻的金属层导通，采用刻蚀工艺在非导电层上形成通孔，然后通孔内形成导通部，从而导通两层紧邻的金属层。
在一个示例中，如图2所示，待导通的金属层之间至少夹设有一层中间金属层；导通部穿透待导通的金属层之间的非导电层和中间金属层，且导通部与中间金属层之间不导通。在该示例中，需要待导通的金属层之间还存在其他金属层(中间金属层)，待导通的金属层需要跨过中间金属层进行导通，采用刻蚀工艺在非导电层和中间金属层上形成通孔，然后通孔内形成导通部，从而导通待导通的金属层。导通部与金属层不导通，在一个示例中，需要在中间金属层的通孔侧壁上镀一层非导电膜，然后再形成导通部。其中，非导电层包括栅极绝缘层和钝化层。
本申请显示装置的各实施例中，显示装置的显示面板中的金属层采用多点连接，提高了连接导通的可靠性，从而提高了显示装置的可靠性，延长了显示装置的寿命。
在一个示例中，还提供了一种显示系统，包括处理设备以及本申请显示装置各实施例所述的显示装置；处理设备连接显示装置。
需要说明的是，该实施例中的显示装置与本申请显示装置各实施例所述的显示装置相同，详细描述请参照本申请显示装置各实施例的描述，此处不再赘述。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括多个导通部；
各所述导通部分别设置在所述显示面板中对应的待导通的金属层之间，用于导通所述待导通的金属层；
任意两层所述待导通的金属层之间至少设置有两个所述导通部；且任意两层所述待导通的金属层之间的所述导通部相互间隔设置。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述待导通的金属层为相邻的金属层时，所述导通部穿透所述待导通的金属层之间的非导电层。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述非导电层包括栅极绝缘层和/或钝化层。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述待导通的金属层之间至少夹设有一层中间金属层；所述导通部穿透所述待导通的金属层之间的非导电层和所述中间金属层，且所述导通部与所述中间金属层之间不导通。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述非导电层包括栅极绝缘层和钝化层。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述导通部为导电薄膜。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述导电薄膜为金属导电膜、氧化物导电膜、化合物导电膜、高分子导电膜或复合导电膜。
8.根据权利要求1至5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述待导通的金属层包括栅极金属层、源漏极金属层和像素电极金属层。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至8任意一项的显示面板。
10.一种显示系统，其特征在于，包括处理设备以及权利要求9所述的显示装置；
所述处理设备连接所述显示装置。
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