CN111673547A - 一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，包括工作台和设置在工作台上的抛光部、步进电机、夹持旋转机构和磁流变液供给机构，其中，抛光部包括第一抛光部和第二抛光部，其分别通过步进电机进行驱动相互反向旋转，通过内外抛光头进行反向转动（即第一抛光部和第二抛光部相互反向旋转），陶瓷管被夹持在床鞍上进行往复旋转运动，使陶瓷管与抛光头（包括抛光头A和抛光头B）之间产生相对运动，实现陶瓷管内外表面同时进行抛光，实现陶瓷管的高效率抛光，实现陶瓷管的高精度定位。
Description
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域，尤其是一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机。
背景技术
抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的，抛光盘的转速一般在1500-3000 r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。
随着对抛光的标准升高，磁流变抛光也逐渐进行普及，磁流变抛光是基于磁流变液的流变特性而衍生的应用分支，磁流变液中加入抛光磨粒，在磁场作用下，磁性颗粒夹杂着磨粒在工件表面滑移，进而去除工件表面材料，达到抛光的效果。
磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。磁流变效应，是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体，而在强磁场的作用下，其流变特性发生急剧的转变，表现为类似固体的性质，撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象，磁流变抛光技术，正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动，使工件表面受到很大的剪切力，从而使工件表面材料被去除，达到抛光的效果。
然而，现有磁流变抛光机，无法对陶瓷管进行双面同时抛光，无法针对陶瓷管双面抛光的加工特点进行高精度定位。
发明内容
针对现有技术的情况，本发明的目的在于提供一种效率高、能够对陶瓷管进行内外表面同时抛光和固定定位精度高的陶瓷短管内外双面磁流变抛光机。
为了实现上述的技术目的，本发明所采用的技术方案为：
一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其包括：
工作台；
顶板，通过竖梁固定在工作台上方，竖梁的下端与工作台固定连接，竖梁的上端与顶板固定连接；
固定架，呈环形结构且固定设置在工作台和顶板之间；
第一驱动齿轮，为四个且呈圆形阵列转动连接在固定架的上端面；
第一抛光部，为环形结构且其外周侧设有齿轮结构并与四个第一驱动齿轮啮合连接，第一抛光部的内周侧形成有若干间隔设置的抛光头A且抛光头A上均设置有第一线圈，所述的第一抛光部用于陶瓷管的外表面抛光；
若干对限位块，呈环形阵列设置且将所述的第一抛光部转动约束在竖直方向上；
一对第一步进电机，与四个第一驱动齿轮中的两个相对的第一驱动齿轮连接，且带动对应的第一驱动齿轮驱动第一抛光部旋转；
第二抛光部，设置在第一抛光部的环形结构内且径向中心与第一抛光部的径向中心重合，第二抛光部的外周侧形成有若干间隔设置的抛光头B且抛光头B上设置有第二线圈，所述的第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成用于穿置陶瓷管的间隙，所述的第二抛光部用于陶瓷管的内表面抛光；
第二步进电机，固定在顶板下端面且其驱动端通过连接轴连接有转轴，转轴的下端与第二抛光部的中心固定连接且由第二步进电机驱动第二抛光部相对第一抛光部反向旋转；
夹持旋转机构，设置第二抛光部下方且用于夹持待抛光的陶瓷管下端并带动陶瓷管往复旋转摆动；
电源，与第一线圈和第二线圈电连接且用于提供第一抛光部和第二抛光部相互反向旋转时产生磁场的电能；
磁流变液供给机构，设置在工作台一侧且其具有两个磁流变液输出端并分别延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方两侧。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的工作台上端面还设置有将第一抛光部和第二抛光部遮挡其中的弧板，所述的弧板为一对，且其合围形成环形结构，其相互贴合的其中一侧为转动连接，其另一侧可转动启闭地贴合连接。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述的工作台为环形框架结构，所述的夹持旋转机构设置在工作台的环形框架结构中部，其包括：
床鞍，固定设置在工作台的环形框架结构中部，且用于带动待抛光的陶瓷管旋转；
固定轴，竖直固定在床鞍上且其下端与床鞍固定连接；
第一定位盘，为环形结构且通过若干连接杆与固定轴上部固定连接且固定轴的虚拟轴线竖直穿过第一定位盘的径向中心；
若干定位爪，呈环形阵列设置在第一定位盘的环形结构上端面且可沿接近或远离第一定位盘的环形结构中心滑动并通过锁止件锁止固定，定位爪可以是三个形成卡爪卡盘结构；
第二定位盘，为环形结构且固定在固定轴上端部并与第一定位盘位于同一水平位置，其周侧设有若干贯穿第二定位盘的限位槽，所述的限位槽内均滑动设置有凸块，凸块朝向第一定位盘的一侧通过连杆固定连接有固定块，所述的固定块用于与待抛光的陶瓷管内侧面相抵，所述的连杆上还套设有减震弹簧，所述凸块接近第二定位盘内周侧的侧面部分外露在第二定位盘的环形结构内；
凹轴，其上部的外径大于其下部外径且活动穿置在第二定位盘的环形结构内，凹轴的外侧面用于与凸块相抵，其轴向中部设有螺纹内孔，螺纹内孔中螺纹穿置有螺纹杆，螺纹杆的下端与固定轴的上端固定连接，由凹轴的旋转使其上部的大径端向下移动，使与凹轴外侧面相抵的凸块逐步推入到限位槽中，使固定块沿接近第一定位盘方向移动。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述的磁流变液供给机构包括：
储液盒，固定在工作台的环形框架结构内，且用于存储磁流变液；
离心泵，设置在储液盒内且用于将储液盒内的磁流变液抽送出，其出口连接有传输磁流变液的传输管，传输管远离离心泵的端部延伸至第一抛光部上方并形成有第一支路喷管和第二支路喷管，其中，第一支路喷管向下延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管内表面，第二支路喷管向下延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方另一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管外表面；
积液盒，为上端面敞开的槽体结构，且倾斜设置在夹持旋转机构下方并用于承接滴落的磁流变液，其倾斜的下侧面与储液盒连通并用于引导积液盒内收集的磁流变液回流回储液盒中。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述固定轴的下部还设有导流板。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述的传输管上还设有流量调节阀。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的第一抛光部和第二抛光部的主体结构均为铁芯材质成型，而第一抛光部和第二抛光部的内外双抛光结构是当前未见报道的，其实现了陶瓷短管的内外同时抛光，大大提高了高光效率，另外，抛光头A和抛光头B的数量均是多个，在该形式下，第一抛光部和第二抛光部在抛光工作时，抛光效率更高，能够节约大量时间和获得更为优质的抛光效果。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的第一抛光部上还盖设有第一抛光部壳体，所述的第二抛光部上还盖设有第二抛光部壳体。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的第二步进电机和第二抛光部之间还连接有换能器，所述的换能器用于带动第二抛光部进行高频低幅振动。
采用上述的技术方案，本发明与现有技术相比，其具有的有益效果为：本方案陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，通过内外抛光头进行反向转动（即第一抛光部和第二抛光部相互反向旋转），陶瓷管被夹持在床鞍上进行往复旋转运动，使陶瓷管与抛光头（包括抛光头A和抛光头B）之间产生相对运动，抛光头工作时表面形成的磨粒存在间隙，通过陶瓷管与抛光头之间产生相对运动，消除磨粒间隙对抛光精度的影响，从而实现陶瓷管的高精度抛光，实现陶瓷管内外表面同时进行抛光，实现陶瓷管的高效率抛光，实现陶瓷管的高精度定位，另外，由于部分陶瓷管应用于高精密仪器设备时，对内表面精度要求较高，通过换能器带动第二抛光部的抛光头B进行高频低幅振动，使抛光头B转动的同时沿轴向振动，消除抛光头外侧的磨粒间隙，加速磨粒在陶瓷管内表面抛光，实现陶瓷管的高精度抛光和高效率抛光。再者，本方案采用复合定位装置对陶瓷管进行定位固定，由于同时对陶瓷管内外表面抛光的加工特点，加大对陶瓷管的定位固定难度，外侧通过三爪卡盘进行定位，内侧通过旋转凹轴使凸块在限位槽内运动，凸块带动连杆和固定块运动，通过减震弹簧进行缓冲径向力，避免陶瓷管脆性破裂，实现陶瓷管的高精度定位。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明方案做进一步的阐述：
图1为本发明方案的简要部分剖视结构示意图；
图2为本发明方案的第一抛光部和第二抛光部的简要俯视结构示意图，其中，第一抛光部和第二抛光部均分别盖设有第一抛光部壳体和第二抛光部壳体；
图3为图2所示结构拆去第一抛光部壳体和第二抛光部壳体后的第一抛光部和第二抛光部的简要结构示意图；
图4为图3所示结构与第一驱动齿轮的简要配合示意图；
图5为本发明方案的夹持旋转机构的简要俯视结构示意图；
图6为本发明方案的凹轴和凸块的简要配合示意图。
具体实施方式
如图1至图6之一所示，本发明陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其包括：
工作台24；
顶板1，通过竖梁23固定在工作台24上方，竖梁23的下端与工作台24固定连接，竖梁23的上端与顶板1固定连接；
固定架9，呈环形结构且固定设置在工作台24和顶板1之间；
第一驱动齿轮8，为四个且呈圆形阵列转动连接在固定架9的上端面；
第一抛光部2002，为环形结构且其外周侧设有齿轮结构2001并与四个第一驱动齿轮8啮合连接，第一抛光部2002的内周侧形成有若干间隔设置的抛光头A 20且抛光头A 20上均设置有第一线圈2003，所述的第一抛光部2002用于陶瓷管的外表面抛光；
若干对限位块10，呈环形阵列设置且将所述的第一抛光部2002转动约束在竖直方向上，其可以是一对U形结构的约束块也可以是一对上下相对将第一抛光部2002约束其中的约束块；
一对第一步进电机7、18，与四个第一驱动齿轮8中的两个相对的第一驱动齿轮8连接，且带动对应的第一驱动齿轮8驱动第一抛光部2002旋转；
第二抛光部2102，设置在第一抛光部2002的环形结构内且径向中心与第一抛光部2002的径向中心重合，第二抛光部2102的外周侧形成有若干间隔设置的抛光头B 21且抛光头B21上设置有第二线圈2101，所述的第二抛光部2102的外周侧与第一抛光部2002的内周侧形成用于穿置陶瓷管的间隙29，所述的第二抛光部2102用于陶瓷管的内表面抛光；
第二步进电机2，固定在顶板1下端面且其驱动端通过连接轴3连接有转轴4，转轴4的下端与第二抛光部2102的中心固定连接且由第二步进电机2驱动第二抛光部2102相对第一抛光部2002反向旋转；
夹持旋转机构，设置第二抛光部2102下方且用于夹持待抛光的陶瓷管下端并带动陶瓷管往复旋转摆动；
电源（未示出），与第一线圈2003和第二线圈2101电连接且用于提供第一抛光部2002和第二抛光部2102相互反向旋转时产生磁场的电能；
磁流变液供给机构，设置在工作台24一侧且其具有两个磁流变液输出端并分别延伸至第二抛光部2102的外周侧与第一抛光部2002的内周侧形成的间隙29上方两侧。
其中，所述的第一抛光部2002和第二抛光部2102的主体结构均为铁芯材质成型。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的工作台24上端面还设置有将第一抛光部2002和第二抛光部2102遮挡其中的弧板22，所述的弧板22为一对，且其合围形成环形结构，其相互贴合的其中一侧为转动连接，其另一侧可转动启闭地贴合连接。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述的工作台24为环形框架结构，所述的夹持旋转机构设置在工作台24的环形框架结构中部，其包括：
床鞍26，固定设置在工作台24的环形框架结构中部，且用于带动待抛光的陶瓷管旋转；
固定轴25，竖直固定在床鞍26上且其下端与床鞍26固定连接；
第一定位盘1102，为环形结构且通过若干连接杆12与固定轴25上部固定连接且固定轴25的虚拟轴线竖直穿过第一定位盘1102的径向中心；
若干定位爪1101，呈环形阵列设置在第一定位盘1102的环形结构上端面且可沿接近或远离第一定位盘1102的环形结构中心滑动并通过锁止件锁止固定，定位爪1101可以是三个形成卡爪卡盘结构；
第二定位盘1103，为环形结构且固定在固定轴25上端部并与第一定位盘1102位于同一水平位置，其周侧设有若干贯穿第二定位盘1103的限位槽1105，所述的限位槽1105内均滑动设置有凸块1106，凸块1106朝向第一定位盘1102的一侧通过连杆1108固定连接有固定块1107，所述的固定块1107用于与待抛光的陶瓷管内侧面相抵，所述的连杆1108上还套设有减震弹簧1109，所述凸块1106接近第二定位盘1103内周侧的侧面部分外露在第二定位盘1103的环形结构内；
凹轴1104，简要结合参考图6所示，凹轴1104上部的外径大于其下部外径，且活动穿置在第二定位盘1103的环形结构内，凹轴的外侧面用于与凸块1106相抵，其轴向中部设有螺纹内孔1110，螺纹内孔中螺纹穿置有螺纹杆1111，螺纹杆1111的下端与固定轴25的上端固定连接，由凹轴1104的旋转使其上部的大径端向下移动，使与凹轴1104外侧面相抵的凸块1106逐步推入到限位槽1105中，最终将凸块1106外露在第二定位盘1103内侧的部分推入到限位槽1105中，使固定块1107沿接近第一定位盘1102方向移动，而螺纹杆1111和凹轴1104的螺纹内孔1110之间是具有自锁功能的螺纹副，因此，在抛光过程中，不会发生脱出等问题。
其中，第一定位盘1102和第二定位盘1103形成复合定位机构11。
另外，作为一种较优的实施选择，优选的，所述的磁流变液供给机构包括：
储液盒16，固定在工作台24的环形框架结构内，且用于存储磁流变液；
离心泵17，设置在储液盒16内且用于将储液盒16内的磁流变液抽送出，其出口连接有传输磁流变液的传输管15，传输管15远离离心泵17的端部延伸至第一抛光部2002上方并形成有第一支路喷管5和第二支路喷管6，其中，第一支路喷管5向下延伸至第二抛光部2102的外周侧与第一抛光部2002的内周侧形成的间隙29上方一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管内表面，第二支路喷管6向下延伸至第二抛光部2102的外周侧与第一抛光部2002的内周侧形成的间隙29上方另一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管外表面；
积液盒14，为上端面敞开的槽体结构，且倾斜设置在夹持旋转机构下方并用于承接滴落的磁流变液，其倾斜的下侧面与储液盒16连通并用于引导积液盒14内收集的磁流变液回流回储液盒16中。
为了避免接近固定轴25的磁流变液通过固定轴与积液盒14之间的空隙流失，作为一种较优的实施选择，优选的，所述固定轴25的下部还设有导流板13。
作为一种较优的实施选择，优选的，所述的传输管15上还设有流量调节阀。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的第一抛光部2002上还盖设有第一抛光部壳体27，所述的第二抛光部2102上还盖设有第二抛光部壳体28。
作为一种可能的实施方式，进一步，所述的第二步进电机2和第二抛光部2102之间还连接有换能器19，所述的换能器用于带动第二抛光部2102进行高频低幅振动。
本实施例的简要运行方法为：
向两侧推开环形弧板22，通过复合定位机构11将陶瓷管进行定位固定，由于同时对陶瓷管内外表面抛光的加工特点，加大对陶瓷管的定位固定难度，通过第一定位盘1102中定位爪1101对陶瓷管外侧进行三爪定位，再通过第二定位盘1103使凹轴1104进行螺纹转动，给凸块1106向外的径向作用力，凸块1106在限位槽1105内滑动，连杆1108带动固定块1107对陶瓷管内测进行固定，通过减震弹簧1109进行缓冲径向力，避免陶瓷管脆性破裂，实现陶瓷管的高精度定位；将积液箱16中加入磁流变液，再关闭环形弧板22，避免磁流变液溅出，启动第二步进电机2，转轴4带动抛光头B 21顺时针转动，将抛光头A 20在限位块10内侧，两个第一步进电机7、18启动带动四个第一驱动齿轮8转动，第一驱动齿轮8在固定架9上同心转动，第一驱动齿轮8和齿轮结构2001进行啮合，带动抛光头A 20转动，通过四个第一驱动齿轮8和限位块10进行使抛光头A 20（抛光头A 20底端可加润滑剂或滚轮/滚轴减小摩擦）进行逆时针转动，将第一线圈2003和第二线圈2102连接的电源进行通电（即电连通），相互反向旋转的第一抛光部2002和第二抛光部2101之间会产生磁场，通过离心泵17将积液箱16中磁流变液通过传输管15泵出，再通过第一支路喷管5和第二支路喷管6将磁流变液喷至第一抛光头壳体27和第二抛光头壳体28之间的抛光面上，磁流变液在磁场作用下对加工间隙29中的陶瓷管进行抛光，磁流变液在磁场作用下，磁流变液从牛顿体变成宾汉体状态，在抛光头表面形成硬度较高的磨刀，对加工间隙29中的陶瓷管进行抛光，床鞍26带动通过固定轴25带动陶瓷管进行往复运动，使陶瓷管与抛光头之间产生相对运动，抛光头工作时表面形成的磨粒存在间隙，而消除磨粒间隙，有助于抛光更加均匀，抛光精度达到更高，通过陶瓷管与抛光头之间产生相对运动，实现陶瓷管内外表面同时进行抛光，实现陶瓷管的高效率抛光；通过换能器19能带动抛光头B 21进行高频低幅振动，使抛光头B 21转动的同时沿轴向振动，消除抛光头外侧的磨粒间隙，加速磨粒在陶瓷管内表面抛光，实现陶瓷管的高精度抛光和高效率抛光；磁流变液掉落在积液盒14（环形）内，往右侧有一定倾角，便于磁流变液流入积液箱16中，靠近轴一侧磁流变液通过导流板13流入积液盒14再流入积液箱16中，再通过离心泵17进行泵出，实现磁流变液的循环。
以上所述为本发明实施例，对于本领域的普通技术人员而言，根据本发明的教导，在不脱离本发明的原理和精神的情况下凡依本发明申请专利范围所做的均等变化、修改、替换和变型，皆应属本发明的涵盖范围。
Claims (9)
1.一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：其包括：
工作台；
顶板，通过竖梁固定在工作台上方，竖梁的下端与工作台固定连接，竖梁的上端与顶板固定连接；
固定架，呈环形结构且固定设置在工作台和顶板之间；
第一驱动齿轮，为四个且呈圆形阵列转动连接在固定架的上端面；
第一抛光部，为环形结构且其外周侧设有齿轮结构并与四个第一驱动齿轮啮合连接，第一抛光部的内周侧形成有若干间隔设置的抛光头A且抛光头A上均设置有第一线圈，所述的第一抛光部用于陶瓷管的外表面抛光；
若干对限位块，呈环形阵列设置且将所述的第一抛光部转动约束在竖直方向上；
一对第一步进电机，与四个第一驱动齿轮中的两个相对的第一驱动齿轮连接，且带动对应的第一驱动齿轮驱动第一抛光部旋转；
第二抛光部，设置在第一抛光部的环形结构内且径向中心与第一抛光部的径向中心重合，第二抛光部的外周侧形成有若干间隔设置的抛光头B且抛光头B上设置有第二线圈，所述的第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成用于穿置陶瓷管的间隙，所述的第二抛光部用于陶瓷管的内表面抛光；
第二步进电机，固定在顶板下端面且其驱动端通过连接轴连接有转轴，转轴的下端与第二抛光部的中心固定连接且由第二步进电机驱动第二抛光部相对第一抛光部反向旋转；
夹持旋转机构，设置第二抛光部下方且用于夹持待抛光的陶瓷管下端并带动陶瓷管往复旋转摆动；
电源，与第一线圈和第二线圈电连接且用于提供第一抛光部和第二抛光部相互反向旋转时产生磁场的电能；
磁流变液供给机构，设置在工作台一侧且其具有两个磁流变液输出端并分别延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方两侧。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的工作台上端面还设置有将第一抛光部和第二抛光部遮挡其中的弧板，所述的弧板为一对，且其合围形成环形结构，其相互贴合的其中一侧为转动连接，其另一侧可转动启闭地贴合连接。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的工作台为环形框架结构，所述的夹持旋转机构设置在工作台的环形框架结构中部，其包括：
床鞍，固定设置在工作台的环形框架结构中部，且用于带动待抛光的陶瓷管旋转；
固定轴，竖直固定在床鞍上且其下端与床鞍固定连接；
第一定位盘，为环形结构且通过若干连接杆与固定轴上部固定连接且固定轴的虚拟轴线竖直穿过第一定位盘的径向中心；
若干定位爪，呈环形阵列设置在第一定位盘的环形结构上端面且可沿接近或远离第一定位盘的环形结构中心滑动并通过锁止件锁止固定；
第二定位盘，为环形结构且固定在固定轴上端部并与第一定位盘位于同一水平位置，其周侧设有若干贯穿第二定位盘的限位槽，所述的限位槽内均滑动设置有凸块，凸块朝向第一定位盘的一侧通过连杆固定连接有固定块，所述的固定块用于与待抛光的陶瓷管内侧面相抵，所述的连杆上还套设有减震弹簧，所述凸块接近第二定位盘内周侧的侧面部分外露在第二定位盘的环形结构内；
凹轴，其上部的外径大于其下部外径且活动穿置在第二定位盘的环形结构内，凹轴的外侧面用于与凸块相抵，其轴向中部设有螺纹内孔，螺纹内孔中螺纹穿置有螺纹杆，螺纹杆的下端与固定轴的上端固定连接，由凹轴的旋转使其上部的大径端向下移动，使与凹轴外侧面相抵的凸块逐步推入到限位槽中，使固定块沿接近第一定位盘方向移动。
4.根据权利要求3所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的磁流变液供给机构包括：
储液盒，固定在工作台的环形框架结构内，且用于存储磁流变液；
离心泵，设置在储液盒内且用于将储液盒内的磁流变液抽送出，其出口连接有传输磁流变液的传输管，传输管远离离心泵的端部延伸至第一抛光部上方并形成有第一支路喷管和第二支路喷管，其中，第一支路喷管向下延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管内表面，第二支路喷管向下延伸至第二抛光部的外周侧与第一抛光部的内周侧形成的间隙上方另一侧并用于将磁流变液喷出至待抛光的陶瓷管外表面；
积液盒，为上端面敞开的槽体结构，且倾斜设置在夹持旋转机构下方并用于承接滴落的磁流变液，其倾斜的下侧面与储液盒连通并用于引导积液盒内收集的磁流变液回流回储液盒中。
5.根据权利要求4所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述固定轴的下部还设有导流板。
6.根据权利要求4所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的传输管上还设有流量调节阀。
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的第一抛光部和第二抛光部的主体结构均为铁芯材质成型。
8.根据权利要求1所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的第一抛光部上还盖设有第一抛光部壳体，所述的第二抛光部上还盖设有第二抛光部壳体。
9.根据权利要求1所述的一种陶瓷短管内外双面磁流变抛光机，其特征在于：所述的第二步进电机和第二抛光部之间还连接有换能器，所述的换能器用于带动第二抛光部进行高频低幅振动。
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