CN111621770A - 用于化学气相沉积处理的加热装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置，包括：壳体，包围限定出腔室；载具，设于腔室中；加热组件，适于生发热量，以使得腔室中的温度升高；传热组件，设于腔室中，适于对来自加热组件的热量进行传导。本发明能够提高加热装置在加热时的温度均匀程度，以提高化学气相沉积处理的效果。
Description
技术领域
本发明涉及硅片制造的技术领域，具体而言，涉及一种用于化学气相沉积处理的加热装置。
背景技术
硅片在太阳能电池生产、半导体设备制造等诸多领域均具有广泛的应用前景。
采用等离子增强化学气相沉积(英文名称：Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition，英文简称：PECVD)是对硅片进行表面处理，是提高硅片性能的重要手段。
在实施化学气相沉积处理时，需要采用加热装置对硅片进行加热。相关技术中的其中一项不足是，加热装置对硅片进行加热时的温度均匀性不够理想，并由此使得硅片的生产质量难以得到保证。
发明内容
本发明旨在解决上述技术问题的至少之一。
为此，本发明的目的在于提供一种用于化学气相沉积处理的加热装置。
为实现本发明的目的，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置，包括：壳体，包围限定出腔室；载具，设于腔室中，适于承载被加工件；加热组件，适于生发热量，以使得被加工件的温度升高；传热组件，设于腔室中，适于对来自加热组件的热量进行传导。
传热组件的设置不仅能够提高腔室之中的保温效果，提高加热装置的加热效率，亦能够促进腔室之中温度的均匀分布，并使得腔室之中各个位置的硅片的温度和同一硅片之上各个区域的温度都趋于相同。由此，本实施例能够以供可均匀升温的加热装置，以达到保证产能并提高产品质量的目的。
另外，本发明上述实施例提供的技术方案还可以具有如下附加技术特征：
上述技术方案中，传热组件包括：一个或多个的板状金属传热组件；其中，板状金属传热组件与壳体连接。
具有板状结构的金属材质传热组件导热效率高，成本低廉，易于加工并且便于和壳体的内壁进行安装装配。
上述任一技术方案中，加热组件包括：第一加热组件，设置于载具的任一侧；第二加热组件，设置于载具与任一侧相对的另一侧。
第一加热组件和第二加热组件相互配合，使得本实施例的加热装置的升温效率和温度分布均匀性均能够得到有力地保证。
上述任一技术方案中，传热组件包括：第一传热组件，设于壳体的侧部上；第二传热组件，设于壳体的底部上。
本实施例的第一传热组件和第二传热组件与第一加热组件和第二加热组件共同配合，以达到在多个方向对载具以及载具之上的硅片进行加热、传热和保温的目的。
上述任一技术方案中，第一加热组件包括：一个或多个的板状金属加热组件；其中，板状金属加热组件设于腔室中，并与壳体连接。
具有板状结构的金属材质加热组件的升温速度快，成本低廉，体积小巧，易于加工并且便于和壳体的内壁进行安装装配。
上述任一技术方案中，第二加热组件包括：一个或多个的管状加热组件；其中，管状加热组件的至少一部分伸入腔室，并且管状加热组件与壳体可拆卸连接。
一方面，本实施例能够保证腔室的密闭情况，以使得腔室能够处于真空状态。另一方面，本实施将第二加热组件设置为相对于壳体的可拆卸结构，由此，本实施例可便于第二加热组件的维修和更换。
上述任一技术方案中，管状加热组件包括：外导热管，包括闭口端和敞口端，并包围限定出外导热管腔；内加热管，由敞口端伸入外导热管腔，并向闭口端的方向延伸；其中，闭口端伸入腔室，外导热管腔通过敞口端与腔室的外部空间连通。
本实施例的上述结构使得内加热管易于维修更换，在保证利于内加热管对腔室进行加热的基础上，亦保证了腔室处于封闭和真空状态。由此，本实施例大大简化了内加热管的整体结构、接线方式，并使得内加热管的后期维护更为方便。
上述任一技术方案中，用于化学气相沉积处理的加热装置还包括：密封组件；其中，壳体之上设有通孔，外导热管通过通孔伸入腔室，密封组件适于密封通孔，以使得腔室的内部空间与外部空间相互分隔。
密封组件的作用在于对腔室进行密封，避免外导热管和壳体连接处的密封程度不良而导致的外部空气进入腔室的问题。
上述任一技术方案中，密封组件包括：法兰盘，环绕外导热管的周缘设置；弹性密封件，设于法兰盘和壳体之间；紧固件，适于将法兰盘与壳体连接，以使得弹性密封件封堵通孔与外导热管之间的间隙。
本实施例的密封组件零部件少，结构简单，易于安装装配，并且密封效果好。
上述任一技术方案中，外导热管包括石英导热管；和/或内加热管包括红外加热管。
红外加热管的加热效率高，并可在大气环境下稳定长期工作，石英导热管的透光度良好，其能够对来自内加热管的热量进行高效传递。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为本发明一个实施例的用于化学气相沉积处理的加热装置的第一结构示意图；
图2为本发明一个实施例的用于化学气相沉积处理的加热装置的第二结构示意图；
图3为图2中A部的局部放大图。
其中，图1至图3中附图标记与部件名称之间的对应关系为：
100：加热装置，110：壳体，112：箱体，114：盖体，116：侧部，118：底部，120：腔室，130：载具，140：加热组件，150：传热组件，152：第一传热组件，154：第二传热组件，160：第一加热组件，170：第二加热组件，172：外导热管，174：外导热管腔，176：内加热管，180：密封组件，182：法兰盘，184：弹性密封件，186：紧固件，188：法兰盘缺口，190：传动滚轮，200：硅片，1722：闭口端，1724：敞口端。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面参照图1至图3描述本发明一些实施例的用于化学气相沉积处理的加热装置100。
实施例1：
如图1和图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。包括：壳体110、载具130、加热组件140和传热组件150。壳体110包围限定出腔室120。载具130设于腔室120中，适于承载被加工件。加热组件140适于生发热量，以使得被加工件的温度升高。传热组件150设于腔室120中，适于对来自加热组件140的热量进行传导。
具体而言，本实施例的加热装置100用于对被加工件进行等离子增强化学气相沉积处理。等离子增强化学气相沉积处理是对物质或物体进行表面处理的重要技术手段，该处理方法利用强电场或磁场使所需的气体源分子电离产生等离子体，等离子体经过经一系列化学和等离子体反应，在被加工件表面形成薄膜。比如，采用等离子增强化学气相沉积处理的手段，可在用于制造太阳能电池或半导体设备的硅片的表面沉积出氮化硅薄膜层，氮化硅薄膜层可以减少太阳光的反射率，增加太阳能电池的光电转换效率。此外，在硅片的表面沉积薄膜层，还能够提高硅片的抗氧化性能、化学稳定性能或绝缘性能。
在执行化学气相沉积处理前，需要对例如硅片的被加工件进行升温。一方面，为了保证生产效率和产能，需要使得待加工能够尽快达到化学气相沉积处理所需的指定温度。另一方面，为了保证处理效果，还需要待加工的受热温度尽量均匀。有鉴于此，本实施例提供了一种能够均匀升温的用于化学气相沉积处理的加热装置100，以达到保证产能并提高产品质量的目的。
本实施例的加热装置100包括壳体110。壳体110具体包括箱体112和设置在箱体112之上的盖体114。盖体114与箱体112相互配合，共同限定出具有真空环境的腔室120。腔室120之中设有载具130。载具130用于承载例如硅片200的被加工件。多个硅片200并列陈放在载具130之上。加热装置100还可包括传动滚轮190。至少两个的传动滚轮190在腔室120之中沿水平方向并列设置，并通过滚动而对载具130和载具130之上的硅片200进行传递，以使得搭载硅片200的载具130行走移动。加热组件140的作用在于向硅片200提供热量，以使得硅片200的温度升高。传热组件150则能够对由加热组件140生发的热量进行传导。具体而言，传热组件150能够对由加热组件140直接生发的热量进行传导，亦可对由加热组件140生发并散发至腔室120之中的热量进行传导。
传热组件150的设置不仅能够提高腔室120之中的保温效果，提高加热装置100的加热效率，亦能够促进腔室120之中温度的均匀分布，并使得腔室120之中各个位置的硅片200的温度和同一硅片200之上各个区域的温度都趋于相同。由此，本实施例能够均匀升温的用于化学气相沉积处理的加热装置100，以达到保证产能并提高产品质量的目的。
实施例2：
如图1和图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述实施例1的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
传热组件150包括：一个或多个的板状金属传热组件。其中，板状金属传热组件与壳体110连接。
具体而言，本实施例的传热组件150可通过铝板、铜板、钢板等传热效率高的金属板件制成。其中，板状金属传热组件可嵌入壳体110的内壁之中，亦可通过连接件与壳体110的内壁间接连接。板状金属传热组件可通过螺栓、卡扣等结构与壳体110可拆卸连接，亦可通过焊接、粘接等方式与壳体110固定连接。
具有板状结构的金属材质传热组件导热效率高，成本低廉，易于加工并且便于和壳体110的内壁进行安装装配。
实施例3：
如图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
加热组件140包括第一加热组件160和第二加热组件170，第一加热组件160设置于载具130的任一侧。第二加热组件170设置于载具130与任一侧相对的另一侧。
本实施例的第一加热组件160和第二加热组件170在载具130的两侧相对设置。举例而言，本实施例的载具130沿水平方向放置，第一加热组件160设置在载具130的上方，第二加热组件170设置在载具130的下方。
第一加热组件160和第二加热组件170相互配合，共同对载具130进行加热。举例而言，第二加热组件170为设置在载具130之下的多个沿水平方向阵列布置的红外加热组件。第一加热组件160为设置在载具130之上的一块铝板加热组件。第一加热组件160对其上方的载具130和载具130之上的硅片200释放热量，以使得硅片200的温度升高。第二加热组件170对硅片200进行辅助地升温加热，以保证硅片200的升温速度和温度均匀程度。加之传热组件150的热量传导作用，本实施例的加热装置100的升温效率和温度分布均匀性均能够得到有力地保证。
实施例4：
如图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
传热组件150包括：第一传热组件152和第二传热组件154。第一传热组件152设于壳体110的侧部116上。第二传热组件154设于壳体110的底部118上。
具体而言，本实施例的壳体110具有箱型结构，第一传热组件152设置在壳体110内部的侧部116上，并沿与载具130移动方向相垂直的方向设置在壳体110内侧壁的相对两端。第二加热组件170设置在壳体110内部的底部118，本实施例将具有箱型结构的壳体110沿竖直方向设置的部分定义为侧部116，将具有箱型结构的壳体110沿水平方向设置的部分定义为底部118，本实施例的底部118可为下底部和/或上底部。第一加热组件160和第二加热组件170可分别为通过铝板、铜板、钢板等传热效率高的材料制成的板状金属传热组件。
第一传热组件152和第二传热组件154在载具130的一侧或多侧布置。第一传热组件152环绕在载具130的侧部，以达到对来自第一加热组件160和/或第二加热组件170的热量进行传导，并避免热量散发和损失的目的。第二传热组件154可设于第二加热组件170的下部位置，并与壳体110的下侧部连接固定。
本实施例的第一传热组件152和第二传热组件154与第一加热组件160和第二加热组件170共同配合，以达到在多个方向对载具130以及载具130之上的硅片200进行加热、传热和保温的目的。
实施例5：
如图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
第一加热组件160包括：一个或多个的板状金属加热组件。其中，板状金属加热组件设于腔室120中，并与壳体110连接。
具体而言，本实施例的第一加热组件160可通过铝板、铜板、钢板等传热效率高的金属板件制成。其中，板状金属加热组件可嵌入壳体110的内壁之中，亦可通过连接件与壳体110的内壁间接连接。板状金属加热组件可通过螺栓、卡扣等结构与壳体110可拆卸连接，亦可通过焊接、粘接等方式与壳体110固定连接。
具有板状结构的金属材质加热组件的升温速度快，成本低廉，体积小巧，易于加工并且便于和壳体110的内壁进行安装装配。
实施例6：
如图2所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
第二加热组件170包括：一个或多个的管状加热组件。其中，管状加热组件的至少一部分伸入腔室120，并且管状加热组件与壳体110可拆卸连接。
本实施例的第二加热组件170具体包括多个阵列布置的管状加热组件。其中，各个管状加热组件分别贯穿壳体110并伸入腔室120之中，以对腔室120中的硅片200进行升温。此外，管状加热组件的至少一部分可由腔室120向壳体110的外部空间伸出。管状加热组件与壳体110可通过紧固结构和密封结构实现可拆卸连接。一方面，本实施例能够保证腔室120的密闭情况，以使得腔室120能够处于真空状态。另一方面，本实施将第二加热组件170设置为相对于壳体110的可拆卸结构，由此，本实施例可便于第二加热组件170的维修和更换。还需要说明的是管状加热组件便于进行阵列布置，其加热均匀程度高，易于安装，并且易于密封，对腔室120真空度的影响较小。
实施例7：
如图2和图3所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
管状加热组件包括：外导热管172和内加热管176。外导热管172包括闭口端1722和敞口端1724，并包围限定出外导热管腔174。内加热管176由敞口端1724伸入外导热管腔174，并向闭口端1722的方向延伸。其中，闭口端1722伸入腔室120，伸入到腔室120的外导热管172可通过支撑件进行支撑，支撑件一端固定在壳体110上，一端支撑外导热管172，外导热管腔174通过敞口端1724与腔室120的外部空间连通。
本实施例的外导热管172可选择透光度优异和热膨胀性能良好的石英管。内加热管176则可选择红外灯管。内加热管176自外导热管172的敞口端1724伸入外导热管腔174，其贯穿外导热管腔174并向闭口端1722的方向延伸。外导热管172的闭口端1722伸入腔室120，以保证外导热管腔174与腔室120始终保持相互分隔。敞口端1724的设置可使得外导热管腔174与外部环境保持连通。支撑件的设置可保持外导热管172的相对位置不偏移。因此，内加热管176在大气环境和常压环境下实现加热。
本实施例的上述结构使得内加热管176易于维修更换，在保证利于内加热管176对腔室120进行加热的基础上，亦保证了腔室120处于封闭和真空状态。由此，本实施例大大简化了内加热管176的整体结构、接线方式，并使得内加热管176的后期维护更为方便。同时在真空腔体内，在载板上方布置一块铝板加热器，铝板加热器正对着硅片进行辐射加热，弥补载板下方红外加热导致的温度不均匀，能使硅片达到更好温度均匀性。
实施例8：
如图2和图3所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
加热装置100还包括：密封组件180。其中，壳体110之上设有通孔，外导热管172通过通孔伸入腔室120，密封组件180适于密封通孔，以使得腔室120的内部空间与外部空间相互分隔。
本实施例中，密封组件180的作用在于对腔室120进行密封，避免外导热管172和壳体110连接处的密封程度不良而导致的外部空气进入腔室120的问题。
其中，本实施例可设置多个阵列设置的外导热管172，各个外导热管172分别具有与其向适配的密封组件180。密封组件180具体可为橡胶材料等弹性密封组件，亦可为法兰等刚性密封组件。
实施例9：
如图3所示，本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
密封组件180包括：法兰盘182、弹性密封件184和紧固件186。法兰盘182环绕外导热管172的周缘设置。弹性密封件184设于法兰盘182和壳体110之间。紧固件186适于将法兰盘182与壳体110连接，以使得弹性密封件184封堵通孔与外导热管172之间的间隙。
本实施例的法兰盘182穿设在外导热管172之上。弹性密封件184具有环形结构，并同样穿设在外导热管172之上。例如螺栓的多个紧固件186沿法兰盘182的周缘间隔设置，分别贯穿法兰盘182并嵌入壳体110。紧固件186将法兰盘182压紧在壳体110之上，法兰盘182和壳体110之间的弹性密封件184被压实并发生弹性形变。由此，弹性密封件184紧贴在外导热管172和壳体110的连接处，以实现密封效果。其中，法兰盘182靠近壳体110的一端可设有楔形的法兰盘缺口188，弹性密封件184填充在法兰盘缺口188之中，以达到增强密封效果的目的。
本实施例的密封组件180零部件少，结构简单，易于安装装配，并且密封效果好。
实施例10：
本发明的实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。除上述任一实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。
外导热管172包括石英导热管，和/或内加热管176包括红外加热管。
红外加热管的加热效率高，并可在大气环境下稳定长期工作，石英导热管的透光度良好，其能够对来自内加热管176的热量进行高效传递。
具体实施例
本实施例提供了一种用于化学气相沉积处理的加热装置100。其包括：壳体110、载具130、加热组件140和传热组件150。
壳体110具体包括箱体112和设置在箱体112之上的盖体114。盖体114与箱体112相互配合，共同限定出具有真空环境的腔室120。腔室120之中设有载具130。载具130用于承载硅片200。加热装置100还包括传动滚轮190。传动滚轮190滚动而对载具130和载具130之上的硅片200进行传递。
加热组件140向硅片200提供热量，以使得硅片200的温度升高。加热组件140具体包括第一加热组件160和第二加热组件170。第一加热组件160为设置在载具130之上的铝板加热器，第二加热组件170为设置在载具130之下的红外加热装置。加热组件140包括第一加热组件160和第二加热组件170。
传热组件150包括第一传热组件152和第二传热组件154。第一传热组件152设置在壳体110的内侧部上。第二传热组件154设置在壳体110的下部底部上。第一传热组件152和第二传热组件154为铝板。第二加热组件170包括石英材料的外导热管172和进行红外光加热的内加热管176。内加热管176伸入外导热管172之中。外导热管172包括闭口端1722和敞口端1724。内加热管176因敞口端1724的设置而处于大气环境中。
加热装置100还包括密封组件180。密封组件180可避免外部空气进入腔室120。密封组件180包括：法兰盘182、弹性密封件184和紧固件186。法兰盘182环绕外导热管172的周缘设置。弹性密封件184设于法兰盘182和壳体110之间。紧固件186适于将法兰盘182与壳体110连接，以使得弹性密封件184封堵通孔与外导热管172之间的间隙。
本实施例中，传热组件150使得载具130快速升温传递热量给硅片200，并能使载具130所在的真空环境的温度更加稳定，同时载具130上的所有硅片200达到良好的温度均匀性。
腔室120之中在载具130下方阵列布置的具第二加热组件170可实现使载具130快速升温的效果，同时，第二加热组件170的具体为红外加热管的内加热管176直接放置在大气环境中，通过将具体为红外灯管的内加热管176放置在具体为石英管的外导热管172之内的方式，本实施例可实现真空状态的腔室120内的红外加热，大大简化了内加热管176的接线并便于内加热管176的后期维护。同时，在腔室120内，在载具130上方布置一块具体为铝板加热器的第一加热组件160，第一加热组件160正对着硅片200进行辐射加热，弥补载板下方第二加热组件170导致的温度不均匀，能使硅片200达到更好温度均匀性。
综上，本发明实施例的有益效果为：
1.本发明的实施例能够提高腔室120之中的保温效果，提高加热装置100的加热效率，亦能够促进腔室120之中温度的均匀分布。
2.本发明的实施例能够在保证硅片200生产效率的基础上，提高硅片200的质量。
3.本发明的实施例提供的加热组件140接线简单，易于维修更换。
在本发明中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，包括：
壳体，包围限定出腔室；
载具，设于所述腔室中，适于承载被加工件；
加热组件，适于生发热量，以使得所述被加工件的温度升高；
传热组件，设于所述腔室中，适于对来自所述加热组件的热量进行传导。
2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述传热组件包括：
一个或多个的板状金属传热组件；
其中，所述板状金属传热组件与所述壳体连接。
3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述加热组件包括：
第一加热组件，设置于所述载具的任一侧；
第二加热组件，设置于所述载具与所述任一侧相对的另一侧。
4.根据权利要求3所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述传热组件包括：
第一传热组件，设于所述壳体的侧部上；
第二传热组件，设于所述壳体的底部上。
5.根据权利要求3所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述第一加热组件包括：
一个或多个的板状金属加热组件；
其中，所述板状金属加热组件设于所述腔室中，并与所述壳体连接。
6.根据权利要求3所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述第二加热组件包括：
一个或多个的管状加热组件；
其中，所述管状加热组件的至少一部分伸入所述腔室，并且所述管状加热组件与所述壳体可拆卸连接。
7.根据权利要求6所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述管状加热组件包括：
外导热管，包括闭口端和敞口端，并包围限定出外导热管腔；
内加热管，由所述敞口端伸入所述外导热管腔，并向所述闭口端的方向延伸；
其中，所述闭口端伸入所述腔室，所述外导热管腔通过所述敞口端与所述腔室的外部空间连通。
8.根据权利要求7所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，还包括：
密封组件；
其中，所述壳体之上设有通孔，所述外导热管通过所述通孔伸入所述腔室，所述密封组件适于密封所述通孔，以使得所述腔室的内部空间与外部空间相互分隔。
9.根据权利要求8所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，所述密封组件包括：
法兰盘，环绕所述外导热管的周缘设置；
弹性密封件，设于所述法兰盘和所述壳体之间；
紧固件，适于将所述法兰盘与所述壳体连接，以使得所述弹性密封件封堵所述通孔与所述外导热管之间的间隙。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的用于化学气相沉积处理的加热装置，其特征在于，
所述外导热管包括石英导热管；和/或
所述内加热管包括红外加热管。
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