CN111487770B - 一种光纤检测用抗污膜及使用这种膜的光纤连接器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光纤检测用抗污膜及使用这种膜的光纤连接器，其涉及光纤领域，旨在解决现有的光纤连接器在连接待检线和测试连接线时，因连接待检线光纤端面落灰而影响检测精度并且损伤检测装置的问题，抗污膜原料按重量份包括以下组分：二氧化钛9‑26份；类水滑石26‑57份；聚甲基硅倍半氧烷60‑87份；笼型聚倍半硅氧烷46‑69份粘合剂23‑49份。抗污膜覆盖测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上。本发明通过在光纤端面上涂覆一层抗污膜，可以有效减少光纤端面脏污问题的发生，从而可以减少对光纤连接器的损伤，提高检测精度。
Description
技术领域
本发明涉及光纤的技术领域，尤其是涉及一种光纤检测用抗污膜及使用这种膜的光纤连接器。
背景技术
光纤是一种由玻璃或者塑料制成的纤维，是一种光传导工具；光纤一般可分为高折射率玻璃芯、低折射率硅玻璃包层以及最外层加强用的树脂涂层；光线在纤芯中传送，当光线射到纤芯和外层界面的角度大于产生全反射的临界角时，光线透不过界面，会全部反射回来，从而光线继续在纤芯内向前传送至光接收器，因此光纤被广泛应用于光纤通信。
但是，由于光在信号传输的过程中，由于受到光纤材料的自身吸收影响和连接器的阻挡等，会造成光的损耗，从而会影响光纤的使用，因此在光纤使用前，通常需要利用插回损测试仪对光纤进行衰减、插入损耗和回波损耗等的检测；而在插回损测试仪使用过程中，由于插回损测试仪造价昂贵，通常在插回损测试仪的连接线上连接一个测试连接线，然后利用光纤连接器，如MPO连接器，将测试连接线和待检线在一起，使得测试连接线与不同的待检线连接，从而减少插回损测试仪的连接线的损耗。
如图1和图2所示，是现有常用的一种光纤连接器，主要包括测试线端插芯1和光接口端插芯2插接，测试线端插芯1内安装有测试连接线3，而且测试连接线3的光纤端面会伸出测试线端插芯1的端面，而光接口端插芯2内则安装有待检线4；同时，光接口端插芯2端面上安装有定位针5，测试线端插芯1端面上安装有与定位针5插接的定位孔51；在连接测试连接线3和待检线4的时候，只要将定位针5和定位孔51插接，将测试线端插芯1和光接口端插芯2扣合在一起，即可将测试连接线3的光纤端面和待检线4的光纤端面贴紧，完成光信号的传输。
但是，上述光纤连接器工作方式存在以下缺陷：由于测试连接线的光纤端面和待检线的光纤端面需要紧密接触，而光纤连接器在使用过程中，测试连接线的光纤端面暴露在空气中并且反复使用，不可避免地造成光纤端面的脏污，因此插拔过程中，脏污颗粒在测试连接线的光纤端面和待检线的光纤端面间被挤压，造成测试连接线的光纤端面和待检线的光纤端面出现严重的损坏状况，不仅影响检测精度，而且造成检测仪器的损坏。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的是提供一种光纤检测用抗污膜及使用这种膜的光纤连接器，本发明通过在光纤端面上涂覆一层特制的抗污膜，可以有效减少光纤端面脏污问题的发生，从而可以减少对光纤连接器的损伤，提高检测精度。
本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9-26份
类水滑石26-57份
聚甲基硅倍半氧烷60-87份
笼型聚倍半硅氧烷46-69份
粘合剂23-49份。
通过采取上述技术方案，类水滑石是一种由带正电荷的金属氢氧化物层和层间电荷平衡阴离子构成的层状双金属氢氧化物，在抗污膜成膜后，可以使得抗污膜的表面带有正电荷，从而对空气中也带有正电荷的灰尘产生排斥，减少灰尘在光纤端面上的粘附；聚甲基硅倍半氧烷作为一种有机硅成分，可以均匀分布在抗污膜体系中，促进抗污膜成膜的同时，提高抗污膜表面的润滑性，从而在对光纤端面进行清洁时，可以快速将脏污去除，而且聚甲基硅倍半氧烷还可以提高抗污膜的耐磨性，可以减少在清理光纤端面时对光纤端面的损伤；笼型聚倍半硅氧烷是一种纳米材料，由于具有无机内核和笼型框架，因此笼型聚倍半硅氧烷具有良好的力学性能的同时，笼型聚倍半硅氧烷还有具有一定的弹性，从而在光纤端头与抗污膜发生抵接的时候，可以减少光纤端头的磨损；二氧化钛作为一种金属氧化物，具有很高的折射率，从而可以减少高光线在经过抗污膜时的损失，从而本发明的抗污膜可以应用在光纤连接器上；本发明可以有效减少光纤端面脏污问题的发生，减少了对光纤连接器的损伤，提高了检测精度。
本发明的进一步设置为，所述粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16-23份，丙烯酸酯8-16份，聚乙烯吡咯烷酮8-16份。
通过采取上述技术方案，硅溶胶是纳米级的二氧化硅颗粒在水中的分散液，具有良好的渗透性和粘结性，同时，丙烯酸酯的加入，可以和硅溶胶产生协同作用，减少抗污膜的开裂问题；聚乙烯吡咯烷酮是N-乙烯基-2-吡咯烷酮发生聚合生成的高分子化合物，作为一种非离子型高分子化合物，具有良好的吸湿性和粘结性能，可以很好地分散在抗污膜体系中，并将抗污膜的各组分很好地粘结在一体，提高抗污膜的强度和降低抗污膜的抗开裂性。
本发明的进一步设置为，抗污膜原料按重量份还包括以下组分：氧化铝5-13份。
通过采取上述技术方案，氧化铝是一种高硬度的化合物，氧化炉的加入可以直接增强抗污膜自身的耐磨性能，同时，氧化铝加入后可以与二氧化钛相互作用，不仅可以避免二氧化钛出现斑点和强度不足的问题，而且氧化铝可以促使二氧化钛表面带有正电荷，进一步减少空气中灰尘在光纤端面上的粘附。
本发明的进一步设置为，抗污膜原料按重量份还包括以下组分：酒石酸5-14份。
通过采取上述技术方案，酒石酸的加入，可以电离出适量的氢离子，从而可以促进聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷中的硅氧烷基团水解，使得聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷中的硅氧烷基团与二氧化钛上的羟基结合，促使抗污膜中的成分紧密结合，从而提高抗污膜的抗开裂性，同时酒石酸的加入也可以提高抗污膜的成膜速度。
本发明的进一步设置为，抗污膜原料按重量份还包括以下组分：偏铝酸钠2-8份。
通过采取上述技术方案，偏铝酸钠作为一种两份化合物，可以中和抗污膜体系中多余的氢离子，减少多余氢离子对抗污膜体系中各组分的结构破坏，同时，偏铝酸钠与氢离子反应的得到的铝离子，可以类水滑石结构中的镁离子进行交换，增加类水滑石表面正电荷的含量，从而可以进一步减少灰尘在光纤端面处的粘附。
本发明的进一步设置为，抗污膜原料按重量份还包括以下组分：柠檬酸钙3-9份。
通过采取上述技术方案，柠檬酸钙的加入，可以引入钙离子，钙离子可以与类水滑石中的碳酸根形成沉淀，减少类水滑石中的碳酸根离子，从而可以减少类水滑石对紫外和红外的吸收，降低抗污膜对光信号传输的影响；同时，柠檬酸根与镁离子可以形成柠檬酸镁凝胶，提高了抗污膜体系中各组分的粘结强度。
本发明的另一目的在于提供一种使用本发明抗污膜的光纤连接器，包括测试线端插芯和光接口端插芯，所述测试线端插芯内设置有延伸至测试线端插芯插设端的测试连接线，所述光接口端插芯内设置有延伸至光接口端插芯插设端的待检线，所述测试连接线的连接端面上设有抗污膜。
通过采取上述技术方案，抗污膜的加入，使得在测试线端插芯和光接口端插芯的日常使用过程中，有效减少测试连接线的连接端面上的灰尘粘附，从而可以有效减少因挤压灰尘而引起待检线和测试连接线光纤端面损伤的问题。
本发明的进一步设置为，所述抗污膜覆盖测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面。
通过采取上述技术方案，由于测试连接线十分纤细，直接将抗污膜涂覆在测试连接线的端面上十分困难，因此可以直接在测试线端插芯的插设端端面进行涂覆抗污膜，使得抗污膜直接覆盖到测试连接线的端面上，方便快捷。
本发明的进一步设置为，所述测试线端插芯的插设端端面位于测试连接线端壁处设置有抗磨凹槽。
通过采用上述技术方案，在测试线端插芯和光接口端插芯插设后，待检线和测试连接线间不接触，如果测试连接线端面不可避免地粘附有灰尘，也可以有效减少待检线和测试连接线的损伤。
综上所述，本发明包括以下至少一种有益技术效果：
1.本发明通过将抗污膜涂覆在测试连接线的光纤端面上，利用抗污膜表面带有正电荷，可以减少空气中灰尘在光纤端面上的粘附；同时，利用抗污膜表面的润滑性和耐磨性，使得光纤端面的灰尘易于清理，从而本发明可以有效减少光纤端面脏污问题的发生，从而可以减少对光纤连接器的损伤，提高检测精度；
2.本发明加入了氧化铝，可以直接增强抗污膜自身的耐磨性能，同时，氧化铝加入后可以与二氧化钛相互作用，不仅可以避免二氧化钛出现斑点和强度不足，而且可以促使二氧化钛表面带有正电荷，进一步减少空气中灰尘在光纤端面上的粘附；
3.本发明加入了酒石酸，可以电离出适量的氢离子，从而可以促进硅氧烷水解，使得聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷中的硅氧烷基团与二氧化钛上的羟基结合，使得抗污膜中的成分紧密结合，从而提高抗污膜的抗开裂性；
4.本发明加入了柠檬酸钙，可以引入钙离子，钙离子可以与类水滑石中的碳酸根形成沉淀，减少类水滑石中的碳酸根离子，从而可以减少类水滑石对紫外和红外的吸收，从而减少抗污膜对光信号传输的影响；同时，柠檬酸根与镁离子可以形成柠檬酸镁凝胶，提高抗污膜体系中各组分的粘结强度。
附图说明
图1是现有光纤连接器的结构示意图。
图2是用以体现现有待检线和测试连接线光纤端面连接结构的剖视图。
图3是本发明中实施例一的结构示意图。
图4是用以体现本发明实施例一中待检线和测试连接线光纤端面连接结构的剖视图。
图5是用以体现本发明实施例二中待检线和测试连接线光纤端面连接结构的剖视图。
图中，1、测试线端插芯；2、光接口端插芯；3、测试连接线；4、待检线；5、定位针；51、定位孔；6、抗污膜；7、抗磨凹槽。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
实施例一：
本发明公开了一种使用抗污膜的光纤连接器，如图3和图4所示，主要包括测试线端插芯1和光接口端插芯2，测试线端插芯1内安装有测试连接线3，同时测试连接线3的连接端面延伸出测试线端插芯1的插设端端面，光接口端插芯2内安装有待检线4，同时待检线4的连接端面延伸出光接口端插芯2的插设端端面；在本实施例中，测试线端插芯1的插设端端面上涂覆抗污膜6，并且抗污膜6覆盖测试连接线3的连接端端面。而且，在本实施例中，光接口端插芯2端面上安装有定位针5，测试线端插芯1端面上安装有与定位针5插接的定位孔51；在连接测试连接线3和待检线4的时候，只要将测试线端插芯1和光接口端插芯2插设在一起，使得定位针5和定位孔51插接，待检线4的光纤端面与测试连接线3光线端面上的抗污膜6即可抵接，从而可以实现光信号在待检线4和测试连接线3间的传输，使得对待检线4的性能检测得以正常进行。
实施例二：
一种使用抗污膜的光纤连接器，如图5所示，与实施例一的不同之处在于：测试线端插芯1的插设端端面凹陷设置有抗磨凹槽7，抗磨凹槽7与测试连接线3一一对应设置且位于测试连接线3端壁四周，抗污膜6涂覆在抗磨凹槽7、测试连接线3和测试线端插芯1的端面上；在将定位针5和定位孔51插接后，测试线端插芯1的端壁与光接口端插芯2的端壁抵接，测试连接线3和待检线4相对但不接触，实现光信号的基本传输的同时，进一步减少测试连接线3的磨损。
实施例三：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9份
类水滑石28份
聚甲基硅倍半氧烷60份
笼型聚倍半硅氧烷50份
粘合剂23份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶18份，丙烯酸酯8份，聚乙烯吡咯烷酮10份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为32份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例四：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛12份
类水滑石26份
聚甲基硅倍半氧烷63份
笼型聚倍半硅氧烷46份
粘合剂26份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16份，丙烯酸酯12份，聚乙烯吡咯烷酮8份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在25转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为35份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例五：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛20份
类水滑石33份
聚甲基硅倍半氧烷69份
笼型聚倍半硅氧烷53份
粘合剂32份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶19份，丙烯酸酯12份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为50份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例六：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石55份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷62份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶20份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为74份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例七：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛24份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷84份
笼型聚倍半硅氧烷69份
粘合剂44份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯12份，聚乙烯吡咯烷酮16份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为71份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例八：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9份
类水滑石26份
聚甲基硅倍半氧烷60份
笼型聚倍半硅氧烷46份
氧化铝5份
粘合剂23-49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16份，丙烯酸酯8份，聚乙烯吡咯烷酮8份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将氧化铝研磨是450目的粉末状，然后将二氧化钛、氧化铝和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为32份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例九：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛23份
类水滑石31份
聚甲基硅倍半氧烷66份
笼型聚倍半硅氧烷52份
氧化铝10份
粘合剂32份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶19份，丙烯酸酯13份，聚乙烯吡咯烷酮15份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将氧化铝研磨是450目的粉末状，然后将二氧化钛、氧化铝和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为49份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷69份
氧化铝13份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮16份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将氧化铝研磨是450目的粉末状，然后将二氧化钛、氧化铝和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为68份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十一：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9份
类水滑石26份
聚甲基硅倍半氧烷60份
笼型聚倍半硅氧烷46份
酒石酸5份
粘合剂23份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16份，丙烯酸酯8份，聚乙烯吡咯烷酮8份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为32份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十二：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛22份
类水滑石36份
聚甲基硅倍半氧烷77份
笼型聚倍半硅氧烷31份
酒石酸13份
粘合剂34份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶18份，丙烯酸酯13份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为55份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十三：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷69份
酒石酸14份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮16份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为69份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十四：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9份
类水滑石26份
聚甲基硅倍半氧烷60份
笼型聚倍半硅氧烷46份
酒石酸5份
偏铝酸钠2份
粘合剂23份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16份，丙烯酸酯8份，聚乙烯吡咯烷酮8份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为69份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入偏铝酸钠、聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十五：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛22份
类水滑石36份
聚甲基硅倍半氧烷77份
笼型聚倍半硅氧烷31份
酒石酸13份
偏铝酸钠5份
粘合剂34份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶18份，丙烯酸酯13份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入偏铝酸钠、酒石酸和重量份为55份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十六：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷69份
酒石酸14份
偏铝酸钠8份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮16份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，然后将二氧化钛和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为69份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入偏铝酸钠、聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十七：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9份
类水滑石26份
聚甲基硅倍半氧烷60份
笼型聚倍半硅氧烷46份
柠檬酸钙2份
粘合剂23份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16份，丙烯酸酯10份，聚乙烯吡咯烷酮8份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将柠檬酸钙研磨至450目粉状，然后将二氧化钛、柠檬酸钙和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为69份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十八：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛23份
类水滑石49份
聚甲基硅倍半氧烷74份
笼型聚倍半硅氧烷53份
柠檬酸钙6份
粘合剂29份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶21份，丙烯酸酯8份，聚乙烯吡咯烷酮13份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将柠檬酸钙研磨至450目粉状，然后将二氧化钛、柠檬酸钙和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为69份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例十九：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷69份
柠檬酸钙8份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将柠檬酸钙研磨至450目粉状，然后将二氧化钛、柠檬酸钙和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入重量份为66份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
实施例二十：
一种光纤检测用抗污膜，原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛26份
类水滑石57份
聚甲基硅倍半氧烷87份
笼型聚倍半硅氧烷69份
氧化铝8份
酒石酸14份
偏铝酸钠8份
柠檬酸钙8份
粘合剂49份。
其中，粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶23份，丙烯酸酯16份，聚乙烯吡咯烷酮14份。
上述抗污膜的制备方法为：
将二氧化钛研磨至600目的粉末状，并将类水滑石研磨至400目的粉末状，将柠檬酸钙和氧化铝研磨至450目粉状，然后将二氧化钛、柠檬酸钙、氧化铝和类水滑石，在20转/分装的转速下干混3分钟，然后加入酒石酸和重量份为66份的水，以50转/分钟的转速，混合20分钟，然后加入偏铝酸钠、聚甲基硅倍半氧烷和笼型聚倍半硅氧烷，继续混合20分钟，最后加入粘合剂，混合15分钟，即可得到抗污膜浆料。
上述抗污膜的涂覆方法为：
将抗污膜浆料喷涂在测试连接线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，80℃干燥固化，即可得到厚度为规定光波长四分之一的抗污膜。
对比例一：
与实施例三相比，不添加二氧化钛。
对比例二：
与实施例三相比，不添加类水滑石。
对比例三：
与实施例三相比，不添加聚甲基硅倍半氧烷。
对比例四：
与实施例三相比，不添加笼型聚倍半硅氧烷。
对比例五：
与实施例三相比，将聚甲基硅倍半氧烷替换成等量的笼型聚倍半硅氧烷。
对比例六：
与实施例三相比，将笼型聚倍半硅氧烷替换成等量的聚甲基硅倍半氧烷。
对比例七：
与实施例三相比，将二氧化钛替换成等量的二氧化硅。
对比例八：
与实施例三相比，将二氧化钛替换成等量的氟化镁。
性能检测：
将实施例三至实施例十九以及对比例一至对比例六中的抗污膜，涂覆到实施例一中的测试连接线的连接端端面和测试线端插芯的插设端端面上，得到试样，然后准备未涂覆抗污膜的光纤连接器，作为对比试样；然后利用上述光纤连接器分别多次对两种不同长但同类型的光纤进行插损检测；
将实施例三至实施例十九以及对比例一至对比例六中的抗污膜，涂覆到实施例一中的光纤连接器的光纤线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，然后将所有光纤连接器放入同一环境下，10天后，检测测试连接线端面上的灰尘粘附量，灰尘粘附量＝灰尘粘附粘结÷测试连接线端面面积。
将实施例三至实施例十九以及对比例一至对比例六中的抗污膜，涂覆到实施例一中的光纤连接器的光纤线的连接端面和测试线端插芯的插设端端面上，然后采用湿棉布(5wt％的洗洁精水溶液)摩擦各抗污膜200次，压力为200g/cm2，摩擦角度为90度，200次摩擦后，检测各抗污膜的插损值，计算抗污膜插损值增加量，抗污膜插损值增加量＝(摩擦后检测值-摩擦前检测值)÷摩擦前检测值。
由实施例三至实施例七以及对比例一至对比例六的检测结果可知，本发明制备的抗污膜，可以有效减少光纤端面脏污问题的发生，提高检测精度并减少了对光纤连接器的损伤，在；
由实施例三至实施例七以及为未涂抗污膜的首次插损值可知，虽然因涂覆抗污膜会相对提高插损值，但是，涂覆有抗污膜的光纤连接器对不同长度的待检线的插损值检测可控(如在本发明中，实施例三与未涂覆光纤连接器的差值为0.08dB)，因此在计算待检线实际插损值的时候，可以减去抗污膜的插损值，提高检测准确性。
由实施例三至实施例七以及实施例八至实施例十的检测结果可知，本发明中由于加入了氧化铝，不仅提高了抗污膜的抗污性，而且可以进一步提高抗污膜的耐磨性能。
由实施例三至实施例七以及实施例十一至实施例十三的检测结果可知，本发明由于加入了酒石酸钙，可以进一步提高抗污膜的耐磨性能。
由实施例三至实施例七以及实施例十四至实施例十六的检测结果可知，本发明在加入酒石酸的基础上，加入了偏铝酸钠，减少氢离子的影响的同时，偏铝酸钠与氢离子反应的得到的铝离子，可以类水滑石结构中的镁离子进行交换，增加类水滑石表面正电荷的含量，从而可以进一步减少灰尘在光纤端面处的粘附。
由实施例三至实施例七以及实施例十七至实施例十九的检测结果可知，本发明由于添加了柠檬酸钙，可以减少由于抗污膜引起的插损值的同时，可以进一步提高抗污膜的耐磨性。
本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。本发明的进一步设置为，抗污膜原料按重量份还包括以下组分：氧化铝5-13份。
Claims (8)
1.一种光纤检测用抗污膜，其特征在于原料按重量份包括以下组分：
二氧化钛9-26份；
类水滑石26-57份；
聚甲基硅倍半氧烷60-87份；
笼型聚倍半硅氧烷46-69份；
粘合剂23-49份；
所述粘合剂按重量份包括以下组分：硅溶胶16-23份，丙烯酸酯8-16份，聚乙烯吡咯烷酮8-16份。
2.根据权利要求1所述的一种光纤检测用抗污膜，其特征在于原料按重量份还包括以下组分：氧化铝5-13份。
3.根据权利要求1所述的一种光纤检测用抗污膜，其特征在于原料按重量份还包括以下组分：酒石酸5-14份。
4.根据权利要求3所述的一种光纤检测用抗污膜，其特征在于原料按重量份还包括以下组分：偏铝酸钠2-8份。
5.根据权利要求1所述的一种光纤检测用抗污膜，其特征在于原料按重量份还包括以下组分：柠檬酸钙3-9份。
6.一种使用根据权利要求1-5任意一项所述抗污膜的光纤连接器，包括测试线端插芯(1)和光接口端插芯(2)，其特征在于：所述测试线端插芯(1)内设置有延伸至测试线端插芯(1)插设端的测试连接线(3)，所述光接口端插芯(2)内设置有延伸至光接口端插芯(2)插设端的待检线(4)，所述测试连接线(3)的连接端面上设有抗污膜(6)。
7.根据权利要求6所述的一种光纤连接器，其特征在于：所述抗污膜(6)覆盖测试连接线(3)的连接端面和测试线端插芯(1)的插设端端面。
8.根据权利要求7所述的一种光纤连接器，其特征在于：所述测试线端插芯(1)的插设端端面位于测试连接线(3)端壁处设置有抗磨凹槽(7)。
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