CN110416128A - 一种蚀刻装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蚀刻装置,该蚀刻装置包括:支撑体;多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。本发明的蚀刻装置,能够提高产品良率。
Description
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种蚀刻装置。
【背景技术】
在液晶显示面板制造过程中,湿法蚀刻装置应用十分广泛,涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工序。
湿法蚀刻装置通常包括一排传送滚轴,在每个传送滚轴上设置有多个滚轮,通过传送滚轴的转动带动滚轮转动,以便于对基板进行传送。
但是,滚轮长期在各种酸性、碱性、有机药液的环境下浸泡或风干会造成滚轮磨损,从而产生尘粒,此时再与基板接触,会刮伤基板或者将尘粒粘在基板上,从而降低产品良率。
因此,有必要提供一种蚀刻装置,以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种蚀刻装置,能够提高产品良率。
为解决上述技术问题,本发明提供一种蚀刻装置,包括:
支撑体;
多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;
多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。
本发明的蚀刻装置,包括支撑体;多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应,由于在与滚轮对应的位置增加清洁件,从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁,防止尘粒刮伤基板或粘在基板上,进而提高了产品良率。
【附图说明】
图1为现有刻装置的结构示意图。
图2为本发明的蚀刻装置的结构示意图。
图3为图2中蚀刻装置的正视图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
如图1所示,现有的蚀刻装置包括支撑体10、多个第一传送滚轴21。其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13,其中多个第一传送滚轴21设置在两个侧壁11、12之间,且多个第一传送滚轴21并排设置,也即位于同一平面内。每个第一传送滚轴21上均套装有多个滚轮22,第一传送滚轴21带动所述滚轮22转动。
请参照图2和3,图2为本发明的蚀刻装置结构示意图。
如图2和3所示,结合图1,本实施例的蚀刻装置包括支撑体10、第一传送滚轴21、滚轮22、第二传送滚轴23、多个清洁件24。
其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13,两个侧壁11、12均设于底板13上,也即底板13位于两个侧壁11、12的下方。
多个第一传送滚轴21设于支撑体10上,具体设置在两个侧壁11、12之间。每个第一传送滚轴21的其中一个端部设于其中一个侧壁11上,另外一个端部设于另外一个侧壁12上。多个第一传送滚轴21并排设置,也即位于第一平面内,也即各第一传送滚轴21的高度相等。
每个第一传送滚轴21上均套装有三个滚轮22,第一传送滚轴21可带动所述滚轮22转动。相邻两个滚轮22之间可间隔设置。当然滚轮的数量不限于三个,可以为一个、两个或者三个以上。
多个第二传送滚轴23也设于所述支撑体10上,具体设于两个所述侧壁11、12之间。其中多个所述第二传送滚轴23并排设置,也即位于第二平面内,换句话讲多个第二传送滚轴23的高度相等。其中所述第二传送滚轴23的高度与所述第一传送滚轴21的高度不等,或者说所述第一平面的高度与所述第二平面的高度不等。
清洁件24套装在所述第二传送滚轴23上。也即每个第二传送滚轴23上套装有三个所述清洁件24。所述清洁件24用于对所述滚轮22进行清洁,所述滚轮22与所述清洁件24对应,所述清洁件24的位置与对应的滚轮22的位置对应。在一实施方式中,为了提高清洁效果,所述滚轮22与所述清洁件24一一对应。也即每个滚轮22对应一清洁件24,当然也可多个滚轮22对应一个清洁件24。可以理解的,本实施例可在部分或者全部的滚轮22增加清洁件。当然清洁件的数量不限于三个,可以为一个、两个或者三个以上。
如图3所示,在一实施方式中,所述清洁件24设置在所述滚轮22的下方。此时所述第一平面的高度大于所述第二平面的高度。其中在一实施方式中,所述清洁件的24顶表面的形状为弧形,从而可增大清洁件与滚轮之间的接触面积。当然所述清洁件24的底表面的形状也可为弧形。当然,可以理解的,所述清洁件24也可设置在所述滚轮22的上方,在一实施方式中,所述清洁件的24底表面的形状为弧形。此时所述第一平面的高度小于所述第二平面的高度。或者在所述滚轮22的上方和下方均设置所述滚轮22。
为了进一步提高清洁效果,所述清洁件24的宽度d1大于或等于所述滚轮22的宽度d2。在一实施方式中,所述清洁件24的材料包括人造纤维、海绵、无尘布中的至少一种。
所述蚀刻装置还可包括升降组件(图中未示出),所述升降组件与所述第二传送滚轴23连接,所述升降组件用于对所述第二传送滚轴23的高度进行调节。也即升降组件用于控制第二传送滚轴23的升降。在一实施方式中所述升降组件包括气缸。
所述蚀刻装置还可包括驱动组件,所述驱动组件与所述第二传送滚轴23连接,所述驱动组件用于使所述第二传送滚轴23转动,以带动所述清洁件24转动。
以清洁件设于滚轮下方为例,在具体工作过程中,在蚀刻制程前,先调节第二传送滚轴23或者第一传送滚轴21的高度,使得清洁件24的顶表面与滚轮22的底表面接触,在一实施方式中,第二传送滚轴23转动,并且带动清洁件24转动,以对滚轮的外表面进行全面清洁;在另一实施方式中,第一传送滚轴21转动,并且带动滚轮22转动,以对滚轮的外表面进行清洁。可以理解的,其余部件的工作原理与现有技术的相同。
在另一实施例中,所述清洁件24也可直接固定在所述支撑体10的底板上。也即本实施例中不需要第二传送滚轴。
本实施例的蚀刻装置在具体工作过程中,在蚀刻制程前,先调节第一传送滚轴21的高度,使得清洁件24的顶表面与滚轮22的底表面接触,第一传送滚轴21转动,并且带动滚轮22转动,以对滚轮的外表面进行清洁。可以理解的,其余部件的工作原理与现有技术的相同。
由于在现有的蚀刻装置的基础上增加清洁件,从而能够在制程前对滚轮的外表面进行有效的清洁,防止尘粒刮伤基板或粘在基板上,进而提高了产品良率。
本发明的蚀刻装置,包括支撑体;多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应,由于在与滚轮对应的位置增加清洁件,从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁,防止尘粒刮伤基板或粘在基板上,进而提高了产品良率。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种蚀刻装置,其特征在于,包括:
支撑体;
多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;
多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。
2.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述清洁件的宽度大于或等于所述滚轮的宽度。
3.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述滚轮与所述清洁件一一对应。
4.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述清洁件的顶表面的形状和\或底表面的形状为弧形。
5.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括:
多个并排设置的第二传送滚轴,设于所述支撑体上,每个所述第二传送滚轴上套装有多个所述清洁件;其中所述第一传送滚轴的高度与所述第二传送滚轴的高度不等。
6.根据权利要求5所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括升降组件,所述升降组件与所述第二传送滚轴连接,所述升降组件用于对所述第二传送滚轴的高度进行调节。
7.根据权利要求5所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括驱动组件,所述驱动组件与所述第二传送滚轴连接,所述驱动组件用于使所述第二传送滚轴转动。
8.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述支撑体还包括底板和侧壁,所述底板设置在所述侧壁的下方,所述清洁件固定在所述底板上。
9.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述清洁件设置在所述滚轮的下方和/或者上方。
10.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,
所述清洁件的材料包括人造纤维、海绵、无尘布中的至少一种。
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