CN110093583B - 一种光致变色装饰膜及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光致变色装饰膜,包括由载体表面向外依次层叠的光致变色镀膜层、介质镀膜层以及红外吸收镀膜层;所述光致变色镀膜层的厚度为0.5‑21nm;所述介质镀膜层的厚度为33.5‑210nm;所述红外吸收镀膜层的厚度为21‑95nm。本发明通过利用光学与电子学的原理作用(将光致变色镀膜材料、介质镀膜材料以及红外吸收镀膜材料进行有效的搭配来实现),对一定的波长和强度的光作用下,分子结构发生变化,从而导致它对光的吸收峰值‑即得到颜色的相应改变,这种可逆性的改变而得到客户所需要的光致变色效果,从而深深吸引着消费者的眼球,刺激着消费者的心灵欲望。本发明还公开一种上述光致变色装饰膜的制作方法,工艺步骤精简,工艺参数容易控制,适合大规模化生产。
Description
技术领域
本发明涉及电子产品加工技术领域,特别地,涉及一种光致变色装饰膜及其制作方法。
背景技术
目前,市场上的电子产品表面都有着不同颜色的装饰效果。为了应对客户对市场产品的需求与渴望,为了应对市场的供应急需的短缺,为了满足客户对产品表面功能的特效欲求,为达到供与求的消费急盼,开发一种能够具有光致变色且使用寿命长的电子产品及其制作方法具有重要意义。
发明内容
本发明的第一目的在于提供一种能够具有光致变色且使用寿命长的电子产品,具体方案如下:
一种光致变色装饰膜,包括由载体表面向外依次层叠的光致变色镀膜层、介质镀膜层以及红外吸收镀膜层;
所述光致变色镀膜层的厚度为0.5-21nm;
所述介质镀膜层的厚度为33.5-210nm;
所述红外吸收镀膜层的厚度为21-95nm。
以上技术方案中优选的,所述光致变色镀膜层的材质为三氧化钨;
所述介质镀膜层的材质为二氧化硅、氧化锆、五氧化二钽、二氧化钛、五氧化三钛、三氧化二铌、五氧化二铌以及五氧化二钽中的至少一种;
所述红外吸收镀膜层的材质为单晶硅以及锗中的至少一种。
以上技术方案中优选的,所述介质镀膜层包括由光致变色镀膜层表面向外设置的0.5-30nm的二氧化硅、12-85nm的五氧化钛以及21-85nm的二氧化硅。
以上技术方案中优选的,所述三氧化钨、二氧化硅、二氧化钛、二氧化硅以及锗的厚度依次为5nm、10nm、32.7nm、44.5nm以及46.6-75nm。
应用本发明的光致变色装饰膜,效果是:
1、将光致变色镀膜材料、介质镀膜材料以及红外吸收镀膜材料进行有效的搭配来实现,其中:加入红外材料和介质材料的主要目的是为了达到满足客户对产品正面所要求的颜色、亮度、颜色的饱和度,也就是说通过最后一层红外吸收镀膜材料(高折射率红外材料)的吸收过滤杂光,使介质材料所反射出的蓝白光更强、更艳丽、更饱和。
2、本发明通过利用光学与电子学的原理作用,对一定的波长和强度的光作用下,分子结构发生变化,从而导致它对光的吸收峰值-即得到颜色的相应改变,这种可逆性的改变而得到客户所需要的光致变色效果,从而深深吸引着消费者的眼球,刺激着消费者的心灵欲望。
本发明还公开一种具有上述光致变色装饰膜的制作方法,具体包括以下步骤:
对载体表面进行真空表面除气处理;
在载体表面通过溅射/蒸镀方式沉积光致变色装饰膜。
以上技术方案中优选的,真空表面除气处理时的真空度为1.0×10-3Pa-6.0×10- 4Pa。
以上技术方案中优选的,还包括设置在所述红外吸收镀膜层之上的保护膜层,所述保护膜层为丝印形成的油墨层或贴合的膜片。
以上技术方案中优选的,所述载体的透明菲林产品、透明树脂产品或透明塑胶产品。
以上技术方案中优选的,在沉积光致变色装饰膜时通过修正挡板实现;
在载体表面通过溅射方式沉积光致变色装饰膜具体是:将载体放入真空镀膜机内;将真空镀膜机内抽真空至0.8×10-4-1.5×10-4Pa;将形成膜层的金属靶放置好,并将真空镀膜机内通入氧气;将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面,即得带有光致变色装饰膜的产品;
在载体表面通过蒸镀方式沉积光致变色装饰膜具体是:通过蒸镀机将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面,即得带有光致变色装饰膜的产品。
以上技术方案中优选的,真空表面除气处理采用RF射频源离子清洁。
应用本发明的制作方法,效果是:
1、步骤精简,工艺参数便于控制。
2、通过溅射/蒸镀方式沉积光致变色装饰膜,能够形成高纯度的硅氧化物、金属氧化物和亚氧化状态的金属氧化物(通过控制氧气的流量以及希望形成的金属氧化物膜层的金属单质来实现控制的)中的至少一种,使得各膜层的光学性能发挥至最佳,获得光致变色的膜层,满足现实的需求;保护膜层的设置用于保护和/或辅助显示膜层的颜色,延长使用寿命、提高色彩亮度等。
3、本发明中通过RF离子射频源处理起到清洁,可以提高载体的表面张力,使载体的表面与膜层的结合力更大,膜层的附着更牢固,不易掉膜。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照附图,对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是实施例1中具有光致变色装饰膜的电子产品的局部结构示意图;
图2是实施例1中具有光致变色装饰膜的电子产品的反射率和波长对照图;
其中:1、光致变色镀膜层,2、介质镀膜层,3、红外吸收镀膜层,4、保护膜层,5、载体。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
实施例1:
一种具有光致变色装饰膜的电子产品,光致变色装饰膜包括由载体表面向外依次层叠的光致变色镀膜层1、介质镀膜层2以及红外吸收镀膜层3,详见图1,所述光致变色镀膜层1的厚度为0.5-21nm,所述介质镀膜层2的厚度为33.5-210nm,所述红外吸收镀膜层3的厚度为21-95nm。
所述光致变色镀膜层1的材质为三氧化钨;所述介质镀膜层2的材质为二氧化硅、氧化锆、五氧化二钽、二氧化钛、五氧化三钛、三氧化二铌、五氧化二铌以及五氧化二钽中的至少一种;所述红外吸收镀膜层3的材质为单晶硅以及锗中的至少一种。
本实施例中优选:所述介质镀膜层2包括由光致变色镀膜层1表面向外设置的0.5-30nm的二氧化硅、12-85nm的五氧化钛以及21-85nm的二氧化硅,具体是:光致变色装饰膜包括由载体表面向外依次层叠的三氧化钨层、二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层以及锗层的厚度依次为5nm、10nm、32.7nm、44.5nm以及70nm。
上述具有光致变色装饰膜的电子产品的制作方法,包括以下步骤:
对载体5表面进行真空表面除气处理,采用RF射频源离子清洁,真空表面除气处理时的真空度为1.0×10-3Pa-6.0×10-4Pa;
在载体表面通过溅射/蒸镀方式沉积光致变色装饰膜,此过程中通过修正挡板实现;在载体表面通过溅射方式沉积光致变色装饰膜具体是:将载体放入真空镀膜机内;将真空镀膜机内抽真空至0.8×10-4-1.5×10-4Pa;将形成膜层的金属靶放置好,并将真空镀膜机内通入氧气;将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面(具体是通入氧气后,在溅射室内的真空度稳定在0.8×10-1Pa-6×10-1Pa的时候开始溅射);此步骤还可以通过沉积来实现:在载体表面通过蒸镀方式沉积光致变色装饰膜具体是:通过蒸镀机将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面;
在所述红外吸收镀膜层3之上设置保护膜层4,得到具有光致变色装饰膜的电子产品。
所述保护膜层为丝印形成的油墨层或贴合的膜片,优选:油墨层为普通黑色油墨保护层,起到吸光作用;膜片优选普通黑色膜片,起到吸光保护作用。
所述载体的透明菲林产品、透明树脂产品或透明塑胶产品。
本实施例所得具有光致变色装饰膜的电子产品的性能详见图2,从图2中可以看出,与现有的谱图产品比较,本实施例的产品对不同波长光照的反射效果不同,符合光致变色的需求,实用性强。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种光致变色装饰膜,其特征在于:包括由载体表面向外依次层叠的光致变色镀膜层(1)、介质镀膜层(2)以及红外吸收镀膜层(3);
所述光致变色镀膜层(1)的厚度为0.5-21nm;
所述介质镀膜层(2)的厚度为33.5-210nm;
所述红外吸收镀膜层(3)的厚度为21-95nm;
所述光致变色镀膜层(1)的材质为三氧化钨;
所述介质镀膜层(2)的材质为二氧化硅、氧化锆、五氧化二钽、二氧化钛、五氧化三钛、三氧化二铌、五氧化二铌以及五氧化二钽中的至少一种;
所述红外吸收镀膜层(3)的材质为单晶硅以及锗中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的光致变色装饰膜,其特征在于:所述介质镀膜层(2)包括由光致变色镀膜层(1)表面向外设置的0.5-30nm的二氧化硅、12-85nm的五氧化钛以及21-85nm的二氧化硅。
3.根据权利要求2所述的光致变色装饰膜,其特征在于:所述三氧化钨、二氧化硅、二氧化钛、二氧化硅以及锗的厚度依次为5nm、10nm、32.7nm、44.5nm以及46.6-75nm。
4.一种如权利要求1-3任意一项所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:
对载体表面进行真空表面除气处理;
在载体表面通过溅射/蒸镀方式沉积光致变色装饰膜。
5.根据权利要求4所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:真空表面除气处理时的真空度为1.0×10-3Pa-6.0×10-4Pa。
6.根据权利要求4所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:还包括设置在所述红外吸收镀膜层(3)之上的保护膜层,所述保护膜层为丝印形成的油墨层或贴合的膜片。
7.根据权利要求4所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:所述载体的透明菲林产品、透明树脂产品或透明塑胶产品。
8.根据权利要求4所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:在沉积光致变色装饰膜时通过修正挡板实现;
在载体表面通过溅射方式沉积光致变色装饰膜具体是:将载体放入真空镀膜机内;将真空镀膜机内抽真空至0.8×10-4-1.5×10-4Pa;将形成膜层的金属靶放置好,并将真空镀膜机内通入氧气;将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面,即得带有光致变色装饰膜的产品;
在载体表面通过蒸镀方式沉积光致变色装饰膜具体是:通过蒸镀机将金属氧化物膜层按序沉积在基材的表面,即得带有光致变色装饰膜的产品。
9.根据权利要求4所述的光致变色装饰膜的制作方法,其特征在于:真空表面除气处理采用RF射频源离子清洁。
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