CN109477211B - 宽带光学监控 - Google Patents

Abstract

一种现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法，该方法包括以下步骤：a）定义10期望光谱T，所述期望光谱为在波长范围内定义的透射光谱或反射光谱；b）至少一次：b1）通过发射至少在所述波长范围内的光的光源来照射21所述基片，b2）接收22从所述基片反射或者透射通过所述基片的光，b3）确定23所述波长范围内的所述接收光所得的透射光谱和反射光谱中的至少一个中的至少一个；c）将取决于步骤b3）中确定的所述至少一个光谱的光谱或者光谱的组合定义为当前光谱C；d）确定30加权光谱W作为至少所述当前光谱C的函数；e）计算40实数K作为所述当前光谱C、所述期望光谱T和所述加权光谱W的函数；f）利用45所述实数K作为针对所述当前光谱C与所述期望光谱T的偏差的指示。

Description

宽带光学监控

本文提出的本发明涉及现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法。在进一步的方面中，本发明涉及控制薄膜沉积过程的方法和控制多层薄膜的产生的方法。

更具体地说，本发明涉及利用光学监控设备来光学监控薄膜沉积过程，该光学监控设备具有在薄膜沉积期间照射基片的光源、以及用于测量从基片反射或透射通过基片的光的装置。对于单色光学监控，分析仅一个波长的透射或反射，以便监控层在沉积过程期间的生长。这可能不足以监控在产生用作宽带反射器或滤光器（诸如分布式布拉格反射器、窄带通滤光器、宽带通滤光器或多带通滤光器）的精密光学涂层中的沉积过程。为了产生需要具有在扩展的波长范围上定义的给定反射或透射性质的光学涂层，已知应用宽带光学监控。为此目的，宽带光源被布置成将光发送到沉积腔室中，例如作为穿过基片并离开腔室进入光学接收器中的准直光束。在那里，光被带到具有测量强度的光谱分布的阵列检测器的光谱仪。考虑先前记录的校准光谱，确定当前的透射光谱。替代地，从基片反射光并且确定当前的反射光谱。也可以考虑先前记录的校准光谱来确定反射光谱。在薄膜的形成（build-up）期间，透射光谱或反射光谱取决于被沉积的层的厚度而连续地改变。

在这里，我们针对任何量使用术语光谱，其是波长的函数。例如，光谱可以针对波长

的列表逐点定义，其中i为索引。

光学监控的一个问题是（除了光学监控光之外）在沉积腔室中可能存在其他强光源，诸如例如电子束源、溅射源、等离子体/离子源或加热器。来自这些源的光可能在特定波长处非常强烈。来自这些源的光也可能随时间变化。如果这种干扰光进入光学接收器，则其会使当前的透射光谱或反射光谱失真。因此干扰对沉积过程的监控，并且可能错过例如停止当前层的沉积的正确时刻的准确确定。

在专利EP0257229B1中公开了一种光学监控方法，其使用没有光学监控光的情况下的干扰光的周期性测量（“背景测量”）并且随后从测量信号中扣除该背景测量。然而该方法限于相对缓慢地改变的干扰光，并且它需要用于中断光束的部件（例如斩波器）和要应用于测量信号的附加处理步骤。

此外，光源本身可能具有随时间变化的光谱特性。这种变化在背景测量中不能观察到，但可能会妨碍对光谱的正确解读。

本发明的目的是提供一种现场监控基片上的薄膜沉积过程的替代方法。

该目的是通过根据权利要求1所述的方法实现的。

根据本发明的方法是一种现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法。该方法包括以下步骤：

a）定义期望光谱，所述期望光谱为在波长范围内定义的透射光谱或反射光谱；

b）至少一次：

b1）通过发射至少在波长范围内的光的光源来照射基片，

b2）接收从基片反射的或者透射通过基片的光，

b3）确定波长范围内的接收光所得的透射光谱和反射光谱中的至少一个中的至少一个；

c）将取决于步骤b3）中确定的至少一个光谱的光谱或者光谱的组合定义为当前光谱；

d）将加权光谱确定为至少当前光谱的函数；

e）将实数计算为当前光谱、期望光谱和加权光谱的函数；

f）利用所述实数作为针对当前光谱与期望光谱的偏差的指示。

通过应用加权光谱，根据本发明的方法能够区分波长范围内的给出关于当前光谱和期望光谱的偏差的可靠信息的区域与波长范围内的示出干扰的其他区域。我们将具有与要被监控的薄膜的光学性质不同的起源（origin）的光谱上的影响考虑为干扰。因此，可以通过施加适当的加权光谱来给予示出干扰的波长范围内的区域较低的加权。所提到的干扰可能源自薄膜沉积系统中的各种光源或检测器噪声。因此，根据本发明的方法提供一种对基片上的薄膜沉积过程进行宽带光学监控的方法，该方法对来自各种光源的依赖于时间的干扰具有低敏感性。

考虑当前光谱来定义加权光谱，因此加权函数可以实时适应于改变的照射情况，因为它是利用用当前光谱获取的信息来更新的。根据本发明，加权函数被动态地计算，因而允许该方法使其自身适应不同的过程并且动态地改变照射情况。除了当前光谱（例如期望光谱）之外，在定义加权光谱时，可以考虑预定义的初始加权光谱或先前使用的加权光谱。

确定接收光的透射光谱或反射光谱的步骤可以包含考虑先前记录的校准光谱来确定透射百分比或反射百分比。可以获取不同波长区域（例如重叠波长区域）中的若干光谱，并将其组合成覆盖较大波长区域的一个光谱。

可以通过计算当前光谱和期望光谱的光谱差的绝对值、将结果乘以加权光谱并建立波长范围之上的总和或积分来执行实数的计算。

根据该方法，实数被利用作为针对当前光谱与因此可以被视为“目标光谱”的期望光谱的偏差的指示。利用实数作为针对当前光谱与期望光谱的偏差的指示的步骤使得可以将根据本发明的方法应用于针对层沉积过程的闭环控制中。根据本发明的方法允许在宽光谱范围之上例如在380nm至1000nm的波长范围之上进行宽带光学监控，并且同时由于其应用了“动态噪声抑制”的算法而将所产生的监控信号中的噪声（即实数）保持为低。

该方法具有进一步的优点：提高了用于薄膜沉积和光学监控的布置的设计中的灵活性。当应用根据本发明的方法时，显著地放松了针对将光学监控路径与可能的干扰光路径分离的要求，因而使薄膜沉积腔室的新设计成为可能。根据本发明的方法的应用进一步增加了选择过程参数的自由度。在已知的监控方法的情况下将不是可允许的过程参数（因为它们产生太多的干扰光）在应用根据本发明的方法时变得合格。这种过程参数的示例是更高功率的应用、膜沉积期间的加热或替代涂层材料的使用。

在根据本发明的方法的一个实施例中，其可以与仍然要提到的任何实施例组合，除非相抵触，步骤b）被重复至少两次，以测量至少先前光谱和当前光谱，并且其中在步骤d）中

- 将信号光谱和噪声光谱计算为至少一个先前光谱和当前光谱的函数，并且

- 将加权光谱计算为信号光谱和噪声光谱的函数，特别是计算为信号光谱与噪声光谱之比。

信号光谱反映了光谱的缓慢改变部分。例如它可以被计算为相同类型的若干光谱之上的平均光谱。移动平均计算可以被分别应用于每个波长处的光谱的值。

噪声光谱反映了光谱的时间上的不稳定性或光谱的快速改变部分。例如，其可以被计算为若干光谱之上的最大值和最小值之间的逐点标准偏差或逐点差。

加权光谱可以被计算成使得权重在信号光谱具有高强度的地方针对波长为高并且权重在信号光谱具有低强度的地方为低。这样，担任数字标准的角色的所得到的实数仅受到干扰光的偶然小变化的微弱影响。加权光谱可以被计算成使得权重在噪声光谱具有低强度的地方针对波长为高。这样，光谱中具有很小干扰的区域对用作数字标准的实数具有大的贡献。加权光谱可以被计算成使得权重在噪声光谱具有高强度的地方针对波长为低。这样，示出大的时间上的不稳定性的光谱的区域在其对用作数字标准的实数的影响方面得到抑制。可以想到大量的数学函数来将信号光谱和噪声光谱组合为示出上面列出的条件中的至少一些的加权光谱。满足上面列出的条件的简单方式是使用信号光谱和噪声光谱之比作为加权光谱。在取该比之前可以将某一常数添加到噪声光谱，以避免除以零或非常小的值。

可以评估更大数量的先前光谱以确定噪声光谱和信号光谱，诸如例如在当前光谱之前的最后5到20个光谱。

通过应用该方法的该实施例，扩展到具有低信号电平的区域中的波长范围可以安全地包括在用于监控薄膜沉积过程的波长范围内，因为在信噪比低的地方，其对用作数字标准的实数的影响被限制。因此，例如利用卤素光源，可以将390nm以下的波长包括到监控波长范围内，而没有对监控信号的稳定性的不利影响。

在根据本发明的方法的一个实施例中，其可以与预先提到的任何实施例和仍然要提到的任何实施例组合，除非相抵触，实数K被计算为

其中C是所述当前光谱，T是所述期望光谱，W是所述加权光谱，

是在其处定义光谱的波长，并且n是数字，特别地n = 1或n = 2。

根据该实施例，被用作数字标准的实数的计算是通过以下方式执行的：计算当前光谱和期望光谱的光谱差的绝对值，将光谱差提高到n次幂，将结果乘以加权光谱，并且建立波长范围之上的总和或积分。这样，如果当前光谱和期望光谱完美匹配，则数字标准结果将具有零值。被用作数字标准的实数对于当前光谱和期望光谱之间的大的偏差将具有大的值。通过将光谱差取为更高次的幂n>1，例如n = 2，大的局部偏差导致数字标准方面的过度成比例增加。替代地，可以将光谱差直接乘以加权光谱而不将光谱差取为更高次的幂，即选择n = 1，以使得在特定波长处当前光谱与期望光谱之间的局部偏差的影响仅取决于该波长处的加权光谱。

在根据本发明的方法的一个实施例中，其可以与预先提到的任何实施例和仍然要提到的任何实施例组合，除非相抵触，光源是氘-卤素光源或激光驱动的光源。

该实施例允许在某些波长处示出不稳定信号并因此往往在与常规的监控方法一起应用时产生不稳定的监控信号的高性能光源的应用。

氘-卤素光源在某些波长处示出不稳定的信号，例如在486nm和656nm处的氘峰处。然而，如果在根据本发明的方法中用作光源，则可以从宽带光谱导出稳定的监控信号，因而充分利用由氘-卤素光源可获得的宽光谱范围。

类似地，激光驱动的光源（LDLS）可能在800nm以上的某些波长处示出不稳定的信号。如果在根据本发明的方法中用作光源，则可以产生稳定的监控信号，而不管这些不稳定的信号如何。因此，该方法利用了激光驱动的光源的有吸引力的性质，即跨宽波长范围和光源的长寿命的高亮度。

此外，在本发明的范围内，还有一种控制基片上的薄膜沉积过程的方法，包括以下步骤：

- 开始薄膜沉积过程；

- 在一连串的时间步中，应用根据本发明的现场监控薄膜沉积过程的方法，以产生用于每个时间步的实数，从而产生一系列的数字标准；

- 一旦该系列的数字标准满足预定义条件，就终止薄膜沉积过程。

该方法允许准确地确定给定层的薄膜沉积过程的终止的时刻。由于通过根据本发明的现场监控薄膜沉积过程的方法产生的监控信号非常可靠，即包含很少的噪声或干扰，所以将不会意外地和过早地满足预定义条件。该方法也防止光谱中的干扰可能完全阻止实现预定义条件的情况，这将导致长得太多的沉积过程并且基片被浪费。例如预定义条件可以是该序列中的最后实数具有给定限制以下的值。预定义条件也可以基于对该序列中的若干数字标准的评估，特别是基于对该序列中的最后几个数字标准的评估。例如，可以通过该序列中的最后几个数字标准拟合多项式，并且预定义条件可以是在对应于最后时间步的时间处应用于多项式的导数的条件。作为示例，预定义标准可以是此时一阶导数为正。此外，预定义标准可以另外要求薄膜沉积过程已经运行了最少数量的时间步。

在根据本发明的方法的一个实施例中，其可以与预先提到的任何实施例和仍然要提到的任何实施例组合，除非相抵触，预定义条件是该系列通过最小值的过渡（transition）。

利用该方法的该实施例，可以非常精确地检测当前光谱与期望光谱的最近似的时刻。当检测到过渡时已经出现通过最小值的过渡的事实没有问题，因为期望光谱可以被计算成使得达到期望光谱，例如在达到预期的层厚度之前三个时间步。在这种情况下，用于层终止的预定义条件将是在该序列中第三个最后时间步处的通过最小值的过渡的存在。通过最小值的过渡可以被识别为最小值后跟着一定数量（例如两个）被用作数字标准的实数的增加值。通过最小值的过渡的检测可以基于通过该序列中的最后几个实数的多项式拟合。

本发明另外针对一种控制基片上的多层薄膜的产生的方法，包括以下步骤：

- 提供用于多层薄膜的至少一个层的期望光谱；

- 应用根据本发明的控制薄膜沉积过程的方法，以控制用于至少一个层和/或用于后续层的沉积的膜沉积过程。

该方法确保最终多层薄膜的性能尽可能接近原始设计。该方法适于控制基片上的多层薄膜的产生，由此完整的多层薄膜需要具有预定的光学性质。该方法允许精确地停止用于任何中间层堆叠的沉积过程。

用于至少一个层的期望光谱可以根据用于所讨论的层以下并且包括所讨论的层的多层薄膜的层堆叠中的每个层的给定层厚度以及限定折射率的层组成来计算。

在该方法的一个实施例中，其可以与预先提到的任何实施例和仍然要提到的任何实施例组合，除非相抵触，该方法包括重新计算用于要沉积在该层顶部上的层的层厚度和层组成的附加步骤，该重新计算基于当前光谱和/或基于该层被完成的时刻处的实数的值。

该方法的该实施例允许现场重新优化，即在不中断产生过程的情况下校正与原始设计的小偏差。该方法的该实施例可以导致多层薄膜的产生中的显著的产量改进和成本降低。利用该方法可以满足最终的透射或反射光谱中的更严格的公差。导致在当前光谱中可观察到的偏差的沉积速率或层的组成中的小变化可以通过调整剩余的涂层配方来校正到新的所需层厚度和组成，以便实现用于最终多层薄膜的期望的反射或透射光谱。

该方法的一个实施例还包括基于重新计算的层厚度和层组成来计算用于包括该层和至少另外层的层堆叠的期望光谱的步骤。

该方法的该实施例具有以下优点：精确终止重新优化的层的沉积是可能的。期望光谱针对在终止所讨论的层的情况下完成的中间层堆叠之后要产生的经调整或重新优化的层堆叠来计算。这样，在提供期望光谱时，考虑重新优化过程中确定的新的层厚度和层组成。

根据本发明的方法即：现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法、控制薄膜沉积过程的方法、以及控制基片上的多层薄膜的产生的方法可以在操作蒸发器或磁控溅射工具时应用。该方法也可以应用于离子电镀、离子束溅射和原子层沉积。它们在光学薄膜的产生的情境中特别有用。

现在将借助于附图来进一步例示本发明。附图示出：

图1为根据本发明的方法的示意性流程图；

图2为通过用于薄膜沉积过程的设备的横截面图；

图3为图3.a）至3.c）中的光谱及其相互关系的示例；

图4为根据本发明的方法的实施例的示意性流程图；

图5为通过根据本发明的控制薄膜沉积过程的方法而产生的一系列数字标准。

图1示出现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法的示意性流程图。存在提供10期望光谱T的步骤。在三个步骤中测量20光谱，所述三个步骤即：通过发射至少在波长范围内的光的光源来照射21基片、通过接收22从基片反射或透射通过基片的光、以及通过确定23在波长范围之上的接收光的透射或反射光谱。被测量的光谱被定义为当前光谱C。当前光谱C在该方法的两个步骤中被使用。首先，当前光谱C在计算40实数K的步骤中被使用。其次，通过考虑当前光谱C来确定30加权光谱W。实数K的计算40取得当前光谱C、期望光谱T和加权光谱W作为输入，并且用输入的函数产生实数K作为输出。作为最后的步骤45，实数K被利用作为针对当前光谱C与期望光谱T的偏差的指示。因此，实数K是针对当前光谱C与步骤10所提供的期望光谱T的偏差的量度，即其被用作数字标准。可选地，除了当前光谱C之外，加权光谱W的确定30还可以考虑初始加权光谱W0。这样的初始加权光谱可以从使用中的光源的性质、期望光谱和/或从在先前薄膜沉积过程期间确定的加权光谱导出。初始加权光谱W0的可选使用由虚线框和虚线箭头指示。

图2示出通过用于薄膜沉积过程的设备的横截面。该设备包括用于执行根据本发明的现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法的部件。基片200位于蒸发器腔室201中。帽罩（calotte）202承载基片200。光接收器203收集传入的光，并通过具有阵列检测器的光谱仪来分析光。示出了两种可能类型的光路。对于反射测量，来自光发送器205的光遵循虚线所示的光路204。在这种情况下，光从基片200上的薄膜反射。对于透射测量，来自光发送器207的光遵循点虚线所示的光路206。在这种情况下，光透射通过基片和其上的薄膜。光源可以被并入到光发送器205、207中。光谱仪可以被内置到光接收器203中。替代地，光发送器205、207和光接收器203可以是发送器/接收器头，其通过例如光纤分别连接到光源和光谱仪，光源和光谱仪例如位于控制柜中。蒸发源208（通常是电子束蒸发源）被放置在蒸发器腔室的底部处。这些电子束蒸发源可以产生至少能间接地找到其进入光接收器203的路并贡献于测量光谱的光。在用于薄膜沉积的其他类型的设备中，干扰光的源也可以是溅射源、等离子体/离子源、或加热器。

图3.a）和3.b）示出反射光谱的示例。反射率R被示出为依赖于波长λ。光谱覆盖例如380nm至1000nm的宽光谱范围。在两个图中，相同的期望光谱T被示出为虚线。在图3.a）中，示出了早前在沉积过程期间测量的先前光谱P。图3.b）示出了测量的当前光谱C，其与先前光谱P仅略有不同。已经考虑了先前记录的校准光谱来确定显示％反射的测量光谱P和C。通常，当前光谱C已经更接近期望光谱T一点儿，然而，当前光谱C中的峰303具有与先前光谱P中相比明显更高的强度。例如，如果分别采用当前光谱C或先前光谱P与期望光谱T之间的区域作为两个光谱的偏差的量度，则峰303的强度的增加将遮蔽从先前光谱到当前光谱发生的向期望光谱接近的部分。峰303是随时间变化的来自光源的典型干扰。

图3.c）示意性地示出可能的加权光谱W。波长范围内的两个区域301和302受到干扰光的影响。在这些区域中，与波长范围的其余部分相比，加权光谱减小。减小权重的这些区域对应于图3.a）和图3.b）中的测量光谱中的峰的群集。根据本发明的方法动态地更新加权函数W。这样的更新是加权光谱中的下沉304，其局部地将权重减小到接近零。下沉304被引入是由于在对应于峰303的波长处随时间的快速改变。这样，该波长处的噪声和快速波动对用作数字标准的实数K几乎没有影响，区域301和302对实数K具有减小的影响，而提供稳定和可靠的信息的301和302之间的区域以大的权重贡献于实数K。

图4示出该方法的实施例的示意性流程图。在该实施例中，执行照射基片21、接收光22和确定透射或反射光谱23的序列若干次，从而产生先前光谱P、P'以及被定义为当前光谱C的最后测量的光谱。在步骤50中，信号光谱S和噪声光谱N被计算为先前光谱P、P'和当前光谱C的函数。确定加权光谱W的步骤30通过将加权光谱W定义为信号光谱S与噪声光谱N之比来执行。该加权光谱W与当前光谱C和在步骤10中提供的期望光谱T一起被输入用于计算40实数K。在该方法的该实施例中，通过将当前光谱C和期望光谱T的平方差乘以加权光谱W并将各波长之上的结果相加来计算实数K。作为最后的步骤45，实数K被利用作为针对当前光谱C与期望光谱T的偏差的指示。

图5示出通过根据本发明的控制薄膜沉积过程的方法而产生的一系列数字标准。数字标准K已经通过监控基片上的薄膜沉积过程的方法来确定。当被用作数字标准的实数K的值在若干量级上改变时，它们以对数标度绘制。时间轴t的左端对应于基片200上的薄膜沉积过程的开始，其中已经存在两个薄膜层。从左到右，薄膜500生长到期望的厚度，如由基片的不同视距501、502和503所图示的。对于每个时间步，在图中绘制点。时间步例如可以对应于在蒸发器腔室中承载基片的帽罩的旋转周期，通常为0.5秒至5秒。薄膜沉积在数字标准的序列的右端上所指示的最后的点处终止。这时满足了预定义条件。在这种情况下，预定义条件是：存在具有增加值的序列中的两个连续的数字标准。数字标准的序列在第三个最后的时间步处具有最小值。为计算被用作数字标准的实数K而提供的期望光谱可以针对稍薄大于（thinner by somewhat more than）两个时间步乘以生长速率的层厚度而计算。这样，当通过被用作数字标准的实数K的两次连续增加适当地识别出了通过最小值的过渡时，差不多达到了预期的层厚度。然后可以计算用于完成层的剩余时间，以便确切地达到预期的层厚度。用于终止薄膜沉积的预定义条件也可以包含通过（t-k）-图中的最后几个点拟合多项式，例如通过最后十个点拟合三阶多项式。最后的时间步处的多项式的一阶导数可以被用于检测上升斜率。可以从这种多项式拟合中以比从原始数据点更稳定的方式识别最小值的出现及其在时间中的位置。最小值的时间中的位置和用于终止沉积的理想时刻都不需要与测量的时间步一致。在识别最小值之后，可以计算完成层所需的剩余时间。该剩余时间可以是时间步的分数。总之，控制薄膜沉积过程的该方法允许基于覆盖宽光谱范围的光谱的评估的准确层终止。

参考标号的列表：

10提供期望光谱

20测量光谱

21照射基片

22接收光

23确定透射或反射光谱

30确定加权光谱

40计算实数K

45利用实数K作为针对光谱C与光谱T的偏差的指示

50计算信号光谱和噪声光谱

200基片

201蒸发器腔室

202承载基片的帽罩

203光接收器

204光路（在反射中）

205光发送器（在反射中）

206光路（在透射中）

207光发送器（在透射中）

208蒸发源

301、302波长范围中的区域

303当前光谱中的峰

304加权光谱中的下沉

500薄膜

501、502、503薄膜沉积过程的各种视距中的具有薄膜的基片

C当前光谱

K数字标准

N噪声光谱

P、P'先前光谱

R反射率

S信号光谱

T期望光谱

t时间

W加权光谱

W0初始加权光谱

λ波长。

Claims (9)

1.一种现场监控基片上的薄膜沉积过程的方法，该方法包括以下步骤：

a）定义期望光谱T，所述期望光谱为在波长范围内定义的透射光谱或反射光谱；

b）至少一次：

b1）通过发射至少在所述波长范围内的光的光源来照射所述基片，

b2）接收从所述基片反射或者透射通过所述基片的光，

b3）确定所述波长范围内的所述接收光所得的透射光谱和反射光谱中的至少一个中的至少一个；

c）将取决于步骤b3）中确定的所述至少一个光谱的光谱或者光谱的组合定义为当前光谱C；

d）作为至少所述当前光谱C的函数来确定加权光谱W；

e）作为所述当前光谱C、所述期望光谱T和所述加权光谱W的函数来计算实数K；

f）利用所述实数K作为针对所述当前光谱C与所述期望光谱T的偏差的指示。

2.根据权利要求1所述的方法，其中步骤b）被重复至少两次以测量至少先前光谱和所述当前光谱，并且其中在步骤d）中

- 作为所述至少一个先前光谱和所述当前光谱的函数来计算信号光谱S和噪声光谱N，并且

- 作为所述信号光谱S和所述噪声光谱N的函数，特别是作为所述信号光谱S与所述噪声光谱N之比，来计算所述加权光谱W。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述实数K被计算为

其中C是所述当前光谱，T是所述期望光谱，W是所述加权光谱，

是在其处定义光谱的波长，并且n是数字，特别地n = 1或n = 2。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中光源是氘-卤素光源或激光驱动的光源。

5.一种控制基片上的薄膜沉积过程的方法，包括以下步骤：

- 开始薄膜沉积过程；

- 在一连串的时间步中，应用根据权利要求1至4中任一项所述的方法，以产生用于每个时间步的所述实数K，从而产生一系列的数字标准；

- 一旦所述系列的数字标准满足预定义条件，就终止所述薄膜沉积过程。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述预定义条件是所述系列通过最小值的过渡。

7.一种控制基片上的多层薄膜的产生的方法，包括以下步骤：

- 提供用于所述多层薄膜的至少一个层的期望光谱；

- 应用根据权利要求5或6的方法，以控制用于所述至少一个层和/或用于后续层的沉积的膜沉积过程。

8.根据权利要求7所述的方法，包括重新计算用于要沉积在所述层的顶部上的层的层厚度和层组成的附加步骤，该重新计算基于所述当前光谱和/或基于所述层被完成的时刻处的所述实数的值。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括基于重新计算的层厚度和层组成来计算用于包括所述层和至少另外层的层堆叠的期望光谱的步骤。

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