CN108785196A - 一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用，属于化妆品领域，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)；该组合物可在护肤类化妆品或清洁类化妆品中应用。本发明的用于抚平痘坑痘印的组合物，以白芨、续断为主要物质，配合川芎、赤芍、甘草多种植物，白芨和续断有很好的促进伤口愈合、增强皮肤自我修复的作用，配合川芎和赤芍、甘草协调促进肌肤血液微循环，消除容易长痘的肌肤炎症，科学配伍，相互促进增效，有明显的抚平痘坑痘印效果。

Description

一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用
技术领域
本发明涉及一种用于抚平痘坑痘印的组合物及其在化妆品中的应用，属于化妆品领域。
背景技术
大多数的年轻人在青春期都会因为自身身体的变化及不卫生、不合理的处理办法，导致 肌肤上留下多种成因的痘坑痘印。痘坑处周围肌肤凹凸不平，多数表现为红肿或暗黑，此处 肌肤特别敏感更加容易发生感染和发炎等肌肤症状。痘坑痘印因为与周围肌肤颜色不同，影 响整体皮肤的光泽度、皮肤亮度，同时部分区域的胶原蛋白发生了破坏，严重影响肌肤弹性， 给人一种暗黑、肌肤凹凸不平、极不健康的观感。
现有中国专利“一种复平凹疤痘坑的中药还原液”(申请号为201610476625.4)，公开了该 中药还原液，由以下各原料制备而成：全蝎、防己、乳香、没药、冬虫夏草、灵芝、五倍子、 银杏叶、西洋参、鸦胆子、狗脊、骨碎补、天麻、黄芪、续断、防风、甘草、紫草、藁本、 白及、菊花、三七、穿山甲、马钱子、凤仙透骨草、莪术、威灵仙、土鳖虫、苍术、蝉蜕和 珍珠。上述中药还原液的组分较多，药性复杂，且含有冬虫夏草、灵芝、西洋参等价格昂贵 的中药材，导致成本居高。
另有中国专利“一种祛痘组合物及其应用与含有该祛痘组合物的祛痘膏”(申请号为 201510433429.4)，公开了所述祛痘组合物包括牛油果树果脂、黄柏提取物、黑柳树皮提取物、 马齿苋提取物、紫苏提取物、积雪草提取物和绿豆提取物，其有效调理痘肌并抑制痘痘再生， 抚平痘坑，去除痘印，可直接涂用或添加到祛痘护肤品中。所述祛痘膏包括所述祛痘组合物 及鲸蜡硬脂醇、棕榈酸乙基己酯、聚二甲基硅氧烷、甘油硬脂酸酯、PEG-100硬脂酸酯、辛 酸/癸酸甘油三酯、丙二醇、聚丙烯酰胺、聚山梨醇酯-60、山梨坦硬脂酸酯、月桂氮卓酮、 PEG-20甲基葡糖倍半硬脂酸酯、薄荷醇、冰片、EDTA二钠、羟苯甲酯、羟苯丙酯和水。上 述祛痘组合物采用多种提取物为原料，原料不容易获得，制备工序繁琐。
还有中国专利“一种防复发中药祛痘修复膏”(申请号为201410763341.4)，该药祛痘控油 修复膏由以下重量份的原料组成：丹参10～25份、野菊花8～15份、白芷8～15份、赤芍8～ 15份、牛蒡子8～10份、甘草8～15份、桃仁6～10份、桑白皮2～6份、玉竹2～6份、纳米珍珠粉3～5份、去离子水100～110份。实际应用过程中发现，该修复膏抚平痘坑痘印的效果不明显。
随着消费水平的提高，人们越来越热衷于天然、绿色、温和、低刺激的化妆品，目前还 没有完全采用中药植物为原料，且组份少，效果显著的抚平痘坑痘印的化妆品。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题，本发明提供一种用于抚平痘坑痘印的组合物，有效改善 皮肤存在痘坑痘印，容易发炎等肌肤问题。本发明还提供了上述组合物在化妆品中的应用。
为了实现上述目的，本发明采用的一种用于抚平痘坑痘印的组合物，包括白芨、续断、 川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)： (1～4)：(1～3)。
作为改进，所述的白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，分别采用白芨提取物、续断提取物、 川芎提取物、赤芍提取物和甘草提取物，各提取物按照以下方法制备：
分别将中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎，按照料液重量比为1:(30～50)加入去离子水，浸泡1小时，热回流提取2-3小时，温度控制在75-85℃，即分别得滤液形式的各提取物。
作为改进，所述中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎在提取前粉碎过60目筛。
另外，本发明还提供了一种所述组合物在化妆品中的应用，所述化妆品为护肤类化妆品 或清洁类化妆品。
作为改进，所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：
0.4％-0.8％的AMPHISOL K、4％-8％的丁二醇、0.04％-0.1％的乙基己基甘油、1％-3％的 戊二醇、2％-6％的海藻糖、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.05％-5％的组合物、0.4％-0.8％的己 二醇、0.4％-0.8％的CARBOMER-TR、0.4％-0.8％的EMULIM 22、4％-8％的角鲨烷、1％-5％ 的DM10、1％-5％的VE醋酸酯、1％-5％的牛油果、0.4％-0.8％的TEA，余量的去离子水；
上述乳液的具体制备步骤为：
1)将配方量的CARBOMER-TR溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入配方量的AMPHISOL K、丁二醇、乙基己基甘油、戊二醇、海藻糖、EDTA-2Na、组合物、己二醇至完全溶解，得水相物料；
3)分别将EMULIM 22、角鲨烷、DM10、VE醋酸酯、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料倒入步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加TEA，即得所述乳液。
作为改进，所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：
4％-8％的丁二醇、0.1％-0.5％的透明质酸、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波 940、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、1％-5％的戊二醇、0.1％-0.5％的精氨 酸，余量的去离子水；
上述凝露的具体制备步骤为：
1)将配方量的卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、透明质酸、EDTA-2Na，至完全溶解；
3)待步骤2)溶解完全后，加入配方量的组合物、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待步骤3)的溶液降温至45℃以下，称取配方量的精氨酸，加入到步骤3)的溶液中， 搅拌均匀后，即得所述凝露。
作为改进，所述化妆品为膏霜，按重量百分比计，该膏霜包括：
0.4％-0.8％的己二醇、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的透明质酸、0.4％-0.8％的馨鲜酮、 0.4％-0.8％的卡波TR-1、1％-5％的PEG-100硬脂酸酯、5％-10％的角鲨烷、1％-5％的鲸蜡醇、 1％-5％的VE、1％-5％的牛油果、1％-5％的5粘度硅油、1％-3％的DC1403、1％-5％的DRY-FLO PURE、0.4％-0.8％的10％NaOH，余量的去离子水；
上述膏霜的具体制备步骤为：
1)将卡波TR-1溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入己二醇、组合物、透明质酸、馨鲜酮至完全溶解，得水相物料；
3)分别将配方量的PEG-100硬脂酸酯、角鲨烷、鲸蜡醇、VE、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料加入到步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待步骤4)的水相和油相溶解完全后，分别加入5粘度硅油、DC1403、DRY-FLOPURE， 至完全溶解；
6)上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加10％NaOH，即得膏霜。
作为另一种改进，所述化妆品为贴片面膜中的营养液，按重量百分比计，该贴片面膜营 养液包括：
4％-8％的丁二醇、1％-8％的烟酰胺、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波940、 0.1％-0.5％的黄原胶、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.3％的尿囊素、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、 1％-5％的戊二醇、0.4％-0.8％的TEA，余量的去离子水；
上述贴片面膜营养液的具体制备步骤为：
1)将卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、烟酰胺、EDTA-2Na、黄原胶，搅拌溶解；
3)待步骤2)的溶液完全溶解后，加入组合物、尿囊素、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待溶液降温至45℃以下，添加TEA，搅拌均匀即得所述贴片面膜营养液。
作为改进，所述组合物以折算成原料白芨、续断、川芎、赤芍、甘草的总干重计，是以 占化妆品总重量的0.05％～5％应用到所述化妆品中。
作为改进，所述化妆品中还含有化妆品常规辅料。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1)本发明的用于抚平痘坑痘印的组合物，以白芨、续断为主要物质，配合川芎、赤芍、 甘草多种植物，白芨和续断有很好的促进伤口愈合、增强皮肤自我修复的作用，配合川芎和 赤芍、甘草协调促进肌肤血液微循环，消除容易长痘的肌肤炎症，科学配伍，相互促进增效， 有明显的抚平痘坑痘印效果。
2)本发明的组合物，其组成主要为从植物中提取得到的天然成分，各提取物组分相互作 用，特别是在抚平痘坑、痘印方面具有协同作用。本发明的护肤组合物可应用于护肤类或者 清洁类化妆品中，例如凝露、水剂和面膜配方中使用，赋予化妆品抚平痘坑和紧致肌肤功效。 本发明的组合物可以进行浓缩添加在化妆品中，同时根据产品情况也可以稀释添加，根据配 方情况避免出现分层等状况。
3)本发明的组合物可应用在护肤类化妆品(例如凝露、护肤霜、护肤乳液、爽肤水、面 膜等)或是清洁类化妆品(例如洁面乳等)。具体地，所述护肤组合物以折算成原料白芨、续 断、川芎、赤芍、甘草的总干重计，是以占化妆品总重量的0.05％～5％应用到这些化妆品中。
4)本发明的抚平痘坑痘印的组合物气味天然，肤感较好，添加到凝露、膏霜、乳液、洗 面奶、洗面膏、香波、爽肤水或紧肤水、面膜、沐浴剂等化妆品中，通过控制合理的添加量以及适当的工艺条件，不会对化妆品的组织结构造成破坏，对化妆品的稳定性不会带来不利 的影响，不会引起变色、分层等质量问题。
5)本发明提供了一种具有抚平痘坑痘印功效的组合物，其应用于化妆品的生产，在促进 肌肤血液微循环、促进肌肤胶原蛋白生长和紧致肌肤方面起到协同作用，且天然提取物对皮 肤温和、基本无刺激性，它们的加入能够更好的改善皮肤的美观。此外，本发明生产出的化 妆品，产品外观、内在质量能保持长期稳定。
附图说明
图1为本发明及对照组受试者的ITA值变化曲线图；
图2为本发明及对照组受试者的黑色素值变化曲线图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面对本发明进行进一步详细说明。 但是应该理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限制本发明的范围。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术术语和科学术语与属于本发明的技术领域的技 术人员通常理解的含义相同，本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的 实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
一种用于抚平痘坑痘印的组合物，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续 断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)。本发明的组合 物，其组成主要为从植物中提取得到的天然成分，各提取物组分相互作用，特别是在抚平痘 坑、痘印方面具有协同作用。本发明的组合物可应用于护肤类或者清洁类化妆品中，例如凝 露、水剂和面膜配方中使用，赋予化妆品抚平痘坑和紧致肌肤功效。
作为改进，所述的白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，分别采用白芨提取物、续断提取物、 川芎提取物、赤芍提取物和甘草提取物，各提取物按照以下方法制备：
分别将中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎，按照料液重量比为1:(30～50)加入去离子水，浸泡1小时，热回流提取2-3小时，温度控制在75-85℃，即分别得滤液形式的各提取物。
作为改进，所述中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎在提取前粉碎过60目筛。
另外，本发明还提供了所述组合物在制备具有抚平痘坑痘印功效的化妆品中的应用。具 体地，所述的化妆品可以是护肤类化妆品(例如凝露、护肤霜、护肤乳液、爽肤水、面膜等) 或是清洁类化妆品(例如洁面乳等)。
本发明中，所述具有抚平痘坑痘印功效的组合物可以作为添加剂添加到所述化妆品中， 具体应用时可将本发明的组合物中各提取物分别添加，也可预先混合后添加到化妆品中，优 选是将各提取物按比例预先混合均匀后添加使用。
根据本发明的具体实施方案，本发明的化妆品除了包括所述的具有抚平痘印功效的护肤 组合物外，其他组分的选用可以按照本领域中的常规操作进行，例如可包括一些常规的油相 和水相，或者进一步包括所属领域中常用的其他添加相。在一些乳化型化妆品中，通常包括 乳化剂、赋型(增稠)剂，还会添加化妆品通常含有的基础原料和必要的添加剂，例如润肤 剂(例如植物油、白油、动物油脂及其衍生物等)、保湿剂(例如甘油、丙二醇、1,3-丁二醇 等)、香精、去离子水、抗氧化剂、防腐剂等，还可添加一些营养成分，这些具体成分的应用 及用量可根据所述化妆品的具体种类而进行选择，或者按照常规量添加，这对于本领域的技 术人员而言是很容易掌握的。
具体地，所述组合物以折算成原料白芨、续断、川芎、赤芍、甘草的总干重计，在化妆 品中的添加量为化妆品总重量的0.05％-5％，可根据化妆品的具体种类不同而具有不同含量。
如一种实施例，所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：
0.4％-0.8％的AMPHISOL K(鲸蜡醇磷酸酯钾)、4％-8％的丁二醇、0.04％-0.1％的乙基己 基甘油、1％-3％的戊二醇、2％-6％的海藻糖、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.05％-5％(以折算 成原料白芨、续断、川芎、赤芍、甘草的总干重计，以下相同)的组合物、0.4％-0.8％的己二 醇、0.4％-0.8％的CARBOMER-TR(卡波)、0.4％-0.8％的EMULIM 22(三山嵛精PEG-20酯 类)、4％-8％的角鲨烷、1％-5％的DM10(聚二甲基硅氧烷)、1％-5％的VE醋酸酯、1％-5％ 的牛油果、0.4％-0.8％的TEA(三乙醇胺)，余量的去离子水；
上述乳液的具体制备步骤为：
1)将配方量的CARBOMER-TR溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入配方量的AMPHISOL K、丁二醇、乙基己基甘油、戊二醇、海藻糖、EDTA-2Na、组合物、己二醇至完全溶解，得水相物料；
3)分别将EMULIM 22、角鲨烷、DM10、VE醋酸酯、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料倒入步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加TEA，即得所述乳液。
另外一种实施例，所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：
4％-8％的丁二醇、0.1％-0.5％的透明质酸、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波 940、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、1％-5％的戊二醇、0.1％-0.5％的精氨 酸，余量的去离子水；
上述凝露的具体制备步骤为：
1)将配方量的卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、透明质酸、EDTA-2Na，至完全溶解；
3)待步骤2)溶解完全后，加入配方量的组合物、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待步骤3)的溶液降温至45℃以下，称取配方量的精氨酸，加入到步骤3)的溶液中， 搅拌均匀后，即得所述凝露。
另外一种实施例，所述化妆品为膏霜，按重量百分比计，该膏霜包括：
0.4％-0.8％的己二醇、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的透明质酸、0.4％-0.8％的馨鲜酮、 0.4％-0.8％的卡波TR-1(卡波)、1％-5％的PEG-100硬脂酸酯、5％-10％的角鲨烷、1％-5％的鲸 蜡醇、1％-5％的VE(维生素E)、1％-5％的牛油果、1％-5％的5粘度硅油、1％-3％的DC1403 (硅油)、1％-5％的DRY-FLO PURE(改性淀粉)、0.4％-0.8％的10％NaOH，余量的去离子水；
上述膏霜的具体制备步骤为：
1)将卡波TR-1溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入己二醇、组合物、透明质酸、馨鲜酮至完全溶解，得水相物料；
3)分别将配方量的PEG-100硬脂酸酯、角鲨烷、鲸蜡醇、VE、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料加入到步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待步骤4)的水相和油相溶解完全后，分别加入5粘度硅油、DC1403、DRY-FLOPURE， 至完全溶解；
6)上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加10％NaOH，即得膏霜。
另外一种实施例，所述化妆品为贴片面膜中的营养液，按重量百分比计，该贴片面膜营 养液包括：
4％-8％的丁二醇、1％-8％的烟酰胺、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波940、 0.1％-0.5％的黄原胶、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.3％的尿囊素、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、 1％-5％的戊二醇、0.4％-0.8％的TEA(三乙醇胺)，余量的去离子水；
上述贴片面膜营养液的具体制备步骤为：
1)将卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、烟酰胺、EDTA-2Na、黄原胶，搅拌溶解；
3)待步骤2)的溶液完全溶解后，加入组合物、尿囊素、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待溶液降温至45℃以下，添加TEA，搅拌均匀即得所述贴片面膜营养液。
上述配方中，还可添加适量的防腐剂、香精等，这些具体成分的应用及用量可按照现有 化妆品的常规技术进行。
本发明的抚平痘坑痘印的组合物气味天然，肤感较好，添加到凝露、膏霜、乳液、洗面 奶、洗面膏、香波、爽肤水或紧肤水、面膜、沐浴剂等化妆品中，通过控制合理的添加量以及适当的工艺条件，不会对化妆品的组织结构造成破坏，对化妆品的稳定性不会带来不利的 影响，不会引起变色、分层等质量问题。
整体而言，本发明提供了一种具有抚平痘坑痘印功效的组合物，其应用于化妆品的生产， 在促进肌肤血液微循环、促进肌肤胶原蛋白生长和紧致肌肤方面起到协同作用，且天然提取 物对皮肤温和、基本无刺激性，它们的加入能够更好的改善皮肤的美观。此外，本发明生产 出的化妆品，产品外观、内在质量能保持长期稳定。
实施例1
白芨提取物、续断提取物、川芎提取物、赤芍提取物、甘草提取物的制备及护肤组合物 的配制。
分别取白芨、续断、川芎、赤芍、甘草等中草药，按照以下方法制得多种中草药的混合 提取物：
1)采用研磨机将各中药研磨成细碎粉状过60目筛，筛选过网目细碎中药使用，把过筛 网的中药粉末混合均匀；
2)按照正交实验所确定好的去离子水提取的料液比例1:50，称取配方量的去离子水浸泡 中药1小时，放置电热套加热，加热温度到78-85℃，打开冷循环水进行热回流提取2小时；
3)制备出的样品在常温下冷却，静置20分钟，取上清液进行离心过滤，离心速度设置 为1500-2000转/分钟，离心时间2-3分钟；取离心液进行过滤处理，5-10微米孔径滤纸过滤 一次，5微米以下滤纸再过滤一次，得到澄清透明的滤液。
该提取液实际应用于化妆品时，为便于添加到化妆品中，可将提取液按照1:20比例溶于 化妆品水相中，以避免过浓的提取液直接应用于化妆品特别是水剂类化妆品时引起的浑浊、 不透明现象。
也可以分别取白芨、续断、川芎、赤芍、甘草等中草药，按照上述方法分别制得白芨提 取物、续断提取物、川芎提取物、赤芍提取物、甘草提取物，之后再将各提取物按比例混合， 溶于化妆品中保存。
另外，实际生产中，为便于添加到化妆品中，也可将各提取物适当调整至预定标准浓度。
皮肤痘印的修护同时需要自由基炎症因子的清除和肌肤胶原蛋白的生成。自由基的有效 清除可以防止痘印处的肌肤再受外界环境和内部因素产生自由基的双重刺激，提供给肌肤一 个卫生、安全的修复环境；同时凹陷的肌肤需要新生成的胶原蛋白进行补充和回复，所以胶 原蛋白的生长对于痘印的修护补充至关重要。
下面对本发明组合物针对自由基清除和促胶原蛋白分泌的性能进行详细分析。
实施例2
DPPH自由基清除实验。
按照实施例1的方法制备中药组方提取物，并将各提取物配制成复合提取物样品组方， 各提取物配比为1:1:1:1:1(以折算成各中草药原料的干重计，以下相同)。
实验方法：
将待测复合提取物样品与DPPH(终浓度为100μM)混合反应，设定3个重复孔，同时设置不含药物的空白对照孔和Trolox阳性对照孔，30℃，1h，酶标仪测定OD值，检测波长 为515nm，计算得到抗氧化率，具体结果如表1所示。
其中，抗氧化率(％)＝(1-实验孔OD515nm/空白孔OD515nm)×100％。
表1本发明复合提取物样品的抗氧化率
样品 浓度(μg/mL) 抗氧化率(％)
Trolox对照 25 96.116
复合提取物样品 100 72.695
分析表1的内容可知，本发明的提取液具有明显的去除自由基能力，对于有痘印处肌肤 可以清除自由基，提供抗氧化功效；对于无痘印处肌肤同样有抗氧化的效果，有效的减缓肌 肤的衰老情况。
实施例3
促胶原蛋白分泌实验。
按照实施例1的方法制备中药组方提取物，并将各提取物配制成复合提取物样品组方， 各提取物白芨：续断：川芎：赤芍：甘草的配比为2:1:1:1:1。
实验方法：
96孔细胞培养板上，将HDFa细胞与待测复合提取物样品混合，设置不含药物的空白对 照和TGF-β阳性对照；37℃，5％CO2培养3天，收取细胞培养上清，存于-80℃；加入MTS，采用MTS比色法检测490nm的OD值；按胶原蛋白ELISA试剂盒中提供的方法检测胶原蛋 白的分泌，酶标仪测定OD值，检测波长为450nm。
计算得到胶原蛋白分泌增加率如表2所示。
其中，胶原蛋白分泌增加率(％)＝(实验孔OD450nm/细胞存活率/空白孔OD450nm-1)×100％
表2本发明中复合提取物样品的胶原蛋白分泌增加率
样品 浓度(μg/mL) 细胞存活率(％) 胶原蛋白分泌增加率(％)
TGF-β 0.01 126.023 64.787
复合提取物样品 10 105.668 29.873
分析表2，由细胞存活率可以看出，本发明的复合提取物样品对细胞没有毒害作用，因 此安全无刺激；该复合提取物样品促进胶原蛋白分泌达到近40％的增长，具有明显促进胶原 蛋白生成的效果。可以得出添加有此提取物样品的护肤品，具有有效促进肌肤胶原蛋白的生 成，填补由于痘印产生肌肤凹凸不平的症状，达到抚平痘痕痘印的效果。
实施例4
对受试者皮肤亮度、黑色素测试。
按照实施例1的方法制备中药组方提取物，并将各提取物配制成复合提取物样品组方， 各提取物配比为白芨：续断：川芎：赤芍：甘草为2:2:1:1:1。进一步制备成含提取物组方的 化妆品凝露样品。
志愿者分别在左右半脸脸颊有痘印处涂抹含有本发明提取物组方的凝露样品和不含有本 发明提取物组方的空白凝露样品，对8位受试者测试持续6周，分别在受试者使用第2、4、 6周对受试者ITA值和黑色素值进行测试。具体测试结果如下表3-8；
其中对含有本发明组合物的凝露配方、空白样品的凝露配方，两种样品的平均变化率参 见图1-2。
表3受试者第2周ITA测试值
表4受试者第4周ITA测试值
表5受试者第6周ITA测试值
表6受试者第2周黑色素测试值
表7受试者第4周黑色素测试值
表8受试者第6周黑色素测试值
分析表3-5及图1可知，受试者皮肤明显ITA值有不同程度的提升，说明受试者在使用 凝露样品过程中亮度值会提高，从侧面反映了受试者皮肤变得更加均匀和平整，说明本发明 的产品具有抚平痘痕痘印、平整皮肤、提亮肤色的功效。
分析表6-8及图2可知，受试者受试皮肤黑色素没有明显变化，说明皮肤亮度值的提升 不与黑色素的减少相关，再次佐证了使用含本发明中药组方的凝露样品，会使皮肤变得平整、 光滑，具有明显的抚平痘痕、痘印的效果。
实施例5
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：AMPHISOL K(0.4％)、丁二醇(4％)、 乙基己基甘油(0.1％)、戊二醇(1％)、海藻糖(5％)、EDTA-2Na(0.02％)、实施例2中提 取液样品组方(5％)、己二醇(0.5％)、CARBOMER-TR(0.5％)、EMULIM 22(0.5％)、角 鲨烷(5％)、DM10(5％)、VE醋酸酯(5％)、牛油果(5％)、TEA(0.5％)、去离子水补足 至100％；
上述乳液的具体制备步骤为：
1)将配方量的CARBOMER-TR溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入配方量的AMPHISOL K、丁二醇、乙基己基甘油、戊二醇、海藻糖、EDTA-2Na、组合物(实施例2提取物样品)、己二醇至完全溶解，得水相物 料；
3)分别将EMULIM 22、角鲨烷、DM10、VE醋酸酯、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料倒入步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加TEA，即得所述乳液。
实施例6
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：AMPHISOL K(0.8％)、丁二醇(8％)、 乙基己基甘油(0.1％)、戊二醇(2％)、海藻糖(4％)、EDTA-2Na(0.06％)、实施例2中提 取液样品组方(5％)、己二醇(0.8％)、CARBOMER-TR(0.6％)、EMULIM 22(0.5％)、角 鲨烷(6％)、DM10(4％)、VE醋酸酯(3％)、牛油果(4％)、TEA(0.5％)、去离子水补足 至100％；
上述乳液的制备步骤与实施例5中的步骤一致。
实施例7
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：丁二醇(5％)、透明质酸(0.2％)、 EDTA-2Na(0.02％)、卡波940(0.4％)、实施例2中提取液样品组方(5％)、乙基己基甘油 (0.3％)、戊二醇(1％)、精氨酸(0.3％)、去离子水(补足至100％)；
上述凝露的具体制备步骤为：
1)将配方量的卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、透明质酸、EDTA-2Na，至完全溶解；
3)待步骤2)溶解完全后，加入配方量的组合物(实施例4中样品组方)、乙基己基甘油、 戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待步骤3)的溶液降温至45℃以下，称取配方量的精氨酸，加入到步骤3)的溶液中， 搅拌均匀后，即得所述凝露。
实施例8
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：丁二醇(8％)、透明质酸(0.5％)、 EDTA-2Na(0.06％)、卡波940(0.6％)、实施例2中提取液样品组方(4％)、乙基己基甘油 (0.5％)、戊二醇(3％)、精氨酸(0.3％)、去离子水补足至100％；
上述凝露的制备步骤与实施例7中的步骤一致。
实施例9
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为膏霜，按重量百分比计，该膏霜包括：己二醇(0.5％)、实施例2中样品组 方(5％)、透明质酸(0.3％)、馨鲜酮(0.5％)、卡波TR-1(0.4％)、PEG-100硬脂酸酯(3％)、 角鲨烷(5％)、鲸蜡醇(5％)、VE(3％)、牛油果(3％)、5粘度硅油(5％)、DC1403(3％)、 DRY-FLO PURE(3％)、10％NaOH(0.5％)、去离子水补足至100％；
上述膏霜的具体制备步骤为：
1)将卡波TR-1溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入己二醇、护肤组合物、透明质酸、馨鲜酮至完全溶解， 得水相物料；
3)分别将配方量的PEG-100硬脂酸酯、角鲨烷、鲸蜡醇、VE、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料加入到步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待步骤4)的水相和油相溶解完全后，分别加入5粘度硅油、DC1403、DRY-FLOPURE， 至完全溶解；
6)上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加10％NaOH，即得膏霜。
实施例10
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为膏霜，按重量百分比计，该膏霜包括：己二醇(0.8％)、实施例2中样品组 方(4％)、透明质酸(0.4％)、馨鲜酮(0.8％)、卡波TR-1(0.6％)、PEG-100硬脂酸酯(5％)、 角鲨烷(8％)、鲸蜡醇(2％)、VE(5％)、牛油果(1％)、5粘度硅油(3％)、DC1403(1％)、 DRY-FLO PURE(5％)、10％NaOH(0.8％)、去离子水补足至100％；
上述膏霜的制备步骤与实施例9中的步骤一致。
实施例11
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为贴片面膜中的营养液，按重量百分比计，该贴片面膜营养液包括：丁二醇 (5％)、烟酰胺(5％)、EDTA-2Na(0.02％)、卡波940(0.4％)、黄原胶(0.3％)、实施例2所述的本发明提取物组方(5％)、尿囊素(0.1％)、乙基己基甘油(0.2％)、戊二醇(1％)、TEA(0.4％)、去离子水补足至100％；
上述贴片面膜营养液的具体制备步骤为：
1)将卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、烟酰胺、EDTA-2Na、黄原胶，搅拌溶解；
3)待步骤2)的溶液完全溶解后，加入护肤组合物、尿囊素、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待溶液降温至45℃以下，添加TEA，搅拌均匀即得所述贴片面膜营养液。
实施例12
本发明所述用于抚平痘坑痘印的组合物在化妆品中的应用。
所述化妆品为贴片面膜中的营养液，按重量百分比计，该贴片面膜营养液包括：丁二醇 (8％)、烟酰胺(1％)、EDTA-2Na(0.08％)、卡波940(0.8％)、黄原胶(0.5％)、实施例2所述的本发明提取物组方(1％)、尿囊素(0.3％)、乙基己基甘油(0.5％)、戊二醇(5％)、TEA(0.8％)、去离子水补足至100％；
上述贴片面膜中的营养液的制备步骤与实施例11中的步骤一致。
分别制备以上乳液样品、凝露样品、膏霜样品和贴片面膜营养液样品各3份，分别在常 温、低温(-15℃)、高温(40℃)下，考察产品稳定性，每周考察一次，持续一个月时间，乳液样品、凝露样品、膏霜样品和贴片面膜营养液样品在低温和高温情况下均未发生变色、分层等现象，表明产品稳定性较好。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原 则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，包括白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，所述白芨、续断、川芎、赤芍和甘草的重量配比为(1～5)：(1～5)：(1～5)：(1～4)：(1～3)。
2.根据权利要求1所述的一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，所述的白芨、续断、川芎、赤芍和甘草，分别采用白芨提取物、续断提取物、川芎提取物、赤芍提取物和甘草提取物，各提取物按照以下方法制备：
分别将中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎，按照料液重量比为1:(30～50)加入去离子水，浸泡1小时，热回流提取2-3小时，温度控制在75-85℃，即分别得滤液形式的各提取物。
3.根据权利要求2所述的一种用于抚平痘坑痘印的组合物，其特征在于，所述中草药白芨、续断、川芎、赤芍、甘草粉碎在提取前粉碎过60目筛。
4.一种权利要求1所述组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为护肤类化妆品或清洁类化妆品。
5.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为乳液，按重量百分比计，该乳液包括：
0.4％-0.8％的AMPHISOL K、4％-8％的丁二醇、0.04％-0.1％的乙基己基甘油、1％-3％的戊二醇、2％-6％的海藻糖、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.05％-5％的组合物、0.4％-0.8％的己二醇、0.4％-0.8％的CARBOMER-TR、0.4％-0.8％的EMULIM 22、4％-8％的角鲨烷、1％-5％的DM10、1％-5％的VE醋酸酯、1％-5％的牛油果、0.4％-0.8％的TEA，余量的去离子水；
上述乳液的具体制备步骤为：
1)将配方量的CARBOMER-TR溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入配方量的AMPHISOL K、丁二醇、乙基己基甘油、戊二醇、海藻糖、EDTA-2Na、组合物、己二醇至完全溶解，得水相物料；
3)分别将EMULIM 22、角鲨烷、DM10、VE醋酸酯、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料倒入步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加TEA，即得所述乳液。
6.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为凝露，按重量百分比计，该凝露包括：
4％-8％的丁二醇、0.1％-0.5％的透明质酸、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波940、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、1％-5％的戊二醇、0.1％-0.5％的精氨酸，余量的去离子水；
上述凝露的具体制备步骤为：
1)将配方量的卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、透明质酸、EDTA-2Na，至完全溶解；
3)待步骤2)溶解完全后，加入配方量的组合物、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待步骤3)的溶液降温至45℃以下，称取配方量的精氨酸，加入到步骤3)的溶液中，搅拌均匀后，即得所述凝露。
7.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为膏霜，按重量百分比计，该膏霜包括：
0.4％-0.8％的己二醇、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.5％的透明质酸、0.4％-0.8％的馨鲜酮、0.4％-0.8％的卡波TR-1、1％-5％的PEG-100硬脂酸酯、5％-10％的角鲨烷、1％-5％的鲸蜡醇、1％-5％的VE、1％-5％的牛油果、1％-5％的5粘度硅油、1％-3％的DC1403、1％-5％的DRY-FLO PURE、0.4％-0.8％的10％NaOH，余量的去离子水；
上述膏霜的具体制备步骤为：
1)将卡波TR-1溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入己二醇、组合物、透明质酸、馨鲜酮至完全溶解，得水相物料；
3)分别将配方量的PEG-100硬脂酸酯、角鲨烷、鲸蜡醇、VE、牛油果完全溶解，得油相物料；
4)将步骤3)得到的油相物料加入到步骤2)的水相物料内，继续加热搅拌至完全溶解；
5)待步骤4)的水相和油相溶解完全后，分别加入5粘度硅油、DC1403、DRY-FLO PURE，至完全溶解；
6)上述所有物料溶解完全后，继续搅拌降温至45℃以下，添加10％NaOH，即得膏霜。
8.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品为贴片面膜中的营养液，按重量百分比计，该贴片面膜营养液包括：
4％-8％的丁二醇、1％-8％的烟酰胺、0.02％-0.08％的EDTA-2Na、0.4％-0.8％的卡波940、0.1％-0.5％的黄原胶、0.05％-5％的组合物、0.1％-0.3％的尿囊素、0.1％-0.5％的乙基己基甘油、1％-5％的戊二醇、0.4％-0.8％的TEA，余量的去离子水；
上述贴片面膜营养液的具体制备步骤为：
1)将卡波940溶解在去离子水中，搅拌加热至完全溶解；
2)向步骤1)的溶液中，分别加入丁二醇、烟酰胺、EDTA-2Na、黄原胶，搅拌溶解；
3)待步骤2)的溶液完全溶解后，加入组合物、尿囊素、乙基己基甘油、戊二醇，待溶解后，继续搅拌同时停止加热；
4)待溶液降温至45℃以下，添加TEA，搅拌均匀即得所述贴片面膜营养液。
9.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述组合物以折算成原料白芨、续断、川芎、赤芍、甘草的总干重计，是以占化妆品总重量的0.05％～5％应用到所述化妆品中。
10.根据权利要求4所述的组合物在化妆品中的应用，其特征在于，所述化妆品中还含有化妆品常规辅料。
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