CN108619888A - 一种半导体废气处理的酸碱中和设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种半导体废气处理的酸碱中和设备，涉及环保设备技术领域。该半导体废气处理的酸碱中和设备，包括半导体发生装置，所述半导体发生装置右侧连通有第一输气管，所述除污箱内部固定安装有过滤网，所述过滤网底部固定安装有压力喷水装置，所述除污箱顶部过滤装置，所述酸性反应台右端连通有第三输气管，所述第三输气管右端连通有碱性反应台，所述碱性反应台右侧连通有排气口。该半导体废气处理的酸碱中和设备，通过设置过滤网，过滤网上设置若干的压力喷水装置，使较大的粒子被液滴捕集，通过设置第二气泵，也可以使得反应的更为充分，通过通过设置第三气泵，也可以使得反应的更为充分。
Description
技术领域
本发明涉及环保设备技术领域，具体为一种半导体废气处理的酸碱中和设备。
背景技术
随着社会的进步，工业化的进程也飞速发展，工业生产不断发展会对大气中排放大量的工业残余气体，这样的气体排放到大气中，会导致很多严重的后果，例如：产生环境污染，对工厂的厂房，尤其是现代化的钢结构厂房有很大的腐蚀作用，造成不可挽回的损失，对成品及再制品的表面质量产生影响，特别是酸气会导致铜及铜合金带材表面产生腐蚀、锈斑，另外酸碱废气对人的身体健康也有很大的危害，半导体废气排放也不例外，半导体制配过程中会产生酸碱气体，这样的气体排放到空气中会污染空气，危害人体的健康，甚至会产生爆炸，对工人的人身安全带来影响，于是半导体废气处理的酸碱中和设备应运而生。现在对制配半导体产生的废气处理多采用洗涤塔进行吸收，碱性气体采用酸性洗涤塔吸收，酸性气体采用碱性洗涤塔吸收。往往这样简单的采用洗涤塔中和酸碱气体的方式导致中和不彻底，没有达到净化标准就排放到大气中，同样也会对环境产生影响。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种半导体废气处理的酸碱中和设备，解决了半导体废气处理时酸碱中和的问题。
技术方案
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种半导体废气处理的酸碱中和设备，包括半导体发生装置，所述半导体发生装置右侧连通有第一输气管，所述第一输气管上连通有第一风机，所述第一风机右端连通有除污箱，所述除污箱顶部连通有第一气泵，所述除污箱内部固定安装有过滤网，所述过滤网底部固定安装有压力喷水装置，所述除污箱顶部过滤装置，所述过滤装置顶端连通有第二输气管，所述第二输气管底端连通有酸性反应台，所述酸性反应台右端连通有第三输气管，所述第三输气管右端连通有碱性反应台，所述碱性反应台右侧连通有排气口。
进一步的，所述过滤网数量为三个，且分别均匀分布在除污箱的内部，所述压力喷水装置有若干个，且分别均匀分布在过滤网底部。
进一步的，所述酸性反应台右侧连通有第二气泵，所述酸性反应台左侧贯穿有第一吸水管，所述第一吸管右端延伸至酸性反应台底部，所述第一吸水管的一端连通有第一回收箱。
进一步的，所述酸性反应台右侧设置有第一PH控制阀，所述第三输气管通过PH控制阀与酸性反应台连通，所述酸性反应台右侧固定安装有第一驱动电机，所述第一驱动电机输出端活动连接有第一驱动轴，所述第一驱动轴左端贯穿酸性反应台的右侧并延伸至其内部，所述第一驱动轴上设置有第一搅拌叶，且酸性反应台内部盛有适量的HCL溶液。
进一步的，所述碱性反应台右侧连通有第三气泵，所述碱性反应台顶部贯穿有第二吸水管，所述第二吸水管底端延伸至碱性反应台底部，所述第二吸水管的一端连通有第二回收箱。
进一步的，所述碱性反应台右侧设置有第二PH控制阀，所述排气口通过第二PH控制阀与碱性反应台连通，所述碱性反应台右侧固定安装有第二驱动电机，所述第二驱动电机输出端活动连接有第二驱动轴，所述第二驱动轴右端贯穿碱性反应台右侧，并延伸至其内部，所述第二驱动轴上设置有第二搅拌叶，所述碱性反应台内部盛有NAOH溶液。
工作原理：使用时，半导体制配过程中产生的废气通过第一风机抽到除污箱中，第一气泵的设置，使得除污箱内产生气压差，在压力的作用下，使得位于除污箱底部的废气往上移动，过滤网会将颗粒较大的粉尘阻挡在除污箱下部，压力喷水装置向下喷射液体，因颗粒和液滴之间的惯性碰撞、拦截和凝聚等作用，使较大的粒子被液滴捕集，从而沉落在除污箱底部，顶部过滤装置设置会对净化的气体进一步净化，随之较纯的酸碱气体会在气压差的作用下进入到酸性反应台，酸性反应台中的HCL会中和废气中的碱性气体，转动的第一搅拌叶，和第二气泵控制气压，会使得中和反应更为充分，随着压力的变化中和反应的气体会被压力压到第一回收箱进行循环利用，当第一PH控制阀显示气体为酸性时可打开控制阀，这是酸性气体会通入碱性反应台，碱性反应台内的NAOH会中和酸性气体，在压力的作用下反应后液体会被压力压到第二回收箱，从而进行循环利用，第二PH控制阀检测气体为中性时，可打开控制阀，将处理后的气体排放。
有益效果
相比较现有技术：
1、该半导体废气处理的酸碱中和设备，通过设置过滤网，过滤网上设置若干的压力喷水装置，喷出的液滴可对废气进行初步纯化处理，液滴和粉尘在惯性碰撞、拦截和凝聚等作用下，使较大的粒子被液滴捕集，从而沉落在除污箱底部将一些粉尘沉淀到除污箱箱底，设置的第一气泵，可加速气体往上移动，从而驱使气体进入酸性反应台，设置的过滤装置会对气体进一步纯化。
2、该半导体废气处理的酸碱中和设备，通过设置第二气泵，第二气泵可通过改变酸性反应台内部的压强，使得中和反应发生的更为彻底，同时也可以将中和反应产生的液体压到第一回收箱进行再回收利用，设置的第一驱动电机，驱动第一驱动轴，使得第一搅拌叶进行搅拌，也可以使得反应的更为充分，设置的第一PH控制阀，可以检验反应发生是否完全。
3、该半导体废气处理的酸碱中和设备，通过通过设置第三气泵，第二三气泵可通过改变碱性反应台内部的压强，使得中和反应发生的更为彻底，同时也可以将中和反应产生的液体压到第二回收箱进行再回收利用，设置的第二驱动电机，驱动第二驱动轴，使得第二搅拌叶进行搅拌，也可以使得反应的更为充分，设置的第二PH控制阀，可以检验反应发生是否完全。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为本发明局部结构示意图。
图中：1半导体发生装置、2第一输气管、3第一风机、4除污箱、5第一气泵、6过滤网、7压力喷水装置、8过滤装置、9第二输气管、10酸性反应台、11第一驱动电机、12第一驱动轴、13第一吸水管、14第一回收箱、15第二气泵、16第一PH控制阀、17第三输气管、18碱性反应台、19第三气泵、20第二吸水管、21第二PH控制阀、22排气口、23第二回收箱、24第二驱动电机、25第二驱动轴、26第二搅拌叶、27第一搅拌叶。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1-2所示，本发明实施例提供一种半导体废气处理的酸碱中和设备，包括半导体发生装置1，半导体发生装置1右侧连通有第一输气管2，第一输气管2上连通有第一风机3，第一风机3右端连通有除污箱4，除污箱4顶部连通有第一气泵5，除污箱4内部固定安装有过滤网6，过滤网6底部固定安装有压力喷水装置7，过滤网6数量为三个，且分别均匀分布在除污箱4的内部，压力喷水装置7有若干个，且分别均匀分布在过滤网6底部，通过设置过滤网6，过滤网6上设置若干的压力喷水装置7，喷出的液滴可对废气进行初步纯化处理，液滴和粉尘在惯性碰撞、拦截和凝聚等作用下，使较大的粒子被液滴捕集，从而沉落在除污箱4底部将一些粉尘沉淀到除污箱4箱底，设置的第一气泵5，可加速气体往上移动，从而驱使气体进入酸性反应台，设置的过滤装置8会对气体进一步纯化，除污箱4顶部过滤装置8，过滤装置8顶端连通有第二输气管9，第二输气管9底端连通有酸性反应台10，酸性反应台10右侧连通有第二气泵15，酸性反应台10左侧贯穿有第一吸水管13，第一吸管13右端延伸至酸性反应台10底部，第一吸水管13的一端连通有第一回收箱14，酸性反应台10右端连通有第三输气管17，第三输气管17右端连通有碱性反应台18，碱性反应台18右侧连通有排气口22，酸性反应台10右侧设置有第一PH控制阀16，第三输气管17通过PH控制阀16与酸性反应台10连通，酸性反应台10右侧固定安装有第一驱动电机11，第一驱动电机11输出端活动连接有第一驱动轴12，第一驱动轴12左端贯穿酸性反应台10的右侧并延伸至其内部，第一驱动轴12上设置有第一搅拌叶27，且酸性反应台10内部盛有适量的HCL溶液，碱性反应台18右侧连通有第三气泵19，通过设置第二气泵15，第二气泵15可通过改变酸性反应台10内部的压强，使得中和反应发生的更为彻底，同时也可以将中和反应产生的液体压到第一回收箱14进行再回收利用，设置的第一驱动电机11，驱动第一驱动轴12，使得第一搅拌叶27进行搅拌，也可以使得反应的更为充分，设置的第一PH控制阀16，可以检验反应发生是否完全，碱性反应台18顶部贯穿有第二吸水管20，第二吸水管20底端延伸至碱性反应台18底部，第二吸水管20的一端连通有第二回收箱23，碱性反应台18右侧设置有第二PH控制阀21，排气口22通过第二PH控制阀21与碱性反应台18连通，碱性反应台18右侧固定安装有第二驱动电机24，第二驱动电机24输出端活动连接有第二驱动轴25，第二驱动轴25右端贯穿碱性反应台18右侧，并延伸至其内部，第二驱动轴25上设置有第二搅拌叶26，碱性反应台18内部盛有NAOH溶液，通过通过设置第三气泵19，第三气泵19可通过改变碱性反应台18内部的压强，使得中和反应发生的更为彻底，同时也可以将中和反应产生的液体压到第二回收箱23进行再回收利用，设置的第二驱动电机24，驱动第二驱动轴25，使得第二搅拌叶26进行搅拌，也可以使得反应的更为充分，设置的第二PH控制阀21，可以检验反应发生是否完全。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种半导体废气处理的酸碱中和设备，包括半导体发生装置(1)，其特征在于：所述半导体发生装置(1)右侧连通有第一输气管(2)，所述第一输气管(2)上连通有第一风机(3)，所述第一风机(3)右端连通有除污箱(4)，所述除污箱(4)顶部连通有第一气泵(5)，所述除污箱(4)内部固定安装有过滤网(6)，所述过滤网(6)底部固定安装有压力喷水装置(7)，所述除污箱(4)顶部过滤装置(8)，所述过滤装置(8)顶端连通有第二输气管(9)，所述第二输气管(9)底端连通有酸性反应台(10)，所述酸性反应台(10)右端连通有第三输气管(17)，所述第三输气管(17)右端连通有碱性反应台(18)，所述碱性反应台(18)右侧连通有排气口(22)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备，其特征在于：所述过滤网(6)数量为三个，且分别均匀分布在除污箱(4)的内部，所述压力喷水装置(7)有若干个，且分别均匀分布在过滤网(6)底部。
3.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备，其特征在于：所述酸性反应台(10)右侧连通有第二气泵(15)，所述酸性反应台(10)左侧贯穿有第一吸水管(13)，所述第一吸管(13)右端延伸至酸性反应台(10)底部，所述第一吸水管(13)的一端连通有第一回收箱(14)。
4.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备，其特征在于：所述酸性反应台(10)右侧设置有第一PH控制阀(16)，所述第三输气管(17)通过PH控制阀(16)与酸性反应台(10)连通，所述酸性反应台(10)右侧固定安装有第一驱动电机(11)，所述第一驱动电机(11)输出端活动连接有第一驱动轴(12)，所述第一驱动轴(12)左端贯穿酸性反应台(10)的右侧并延伸至其内部，所述第一驱动轴(12)上设置有第一搅拌叶(27)，且酸性反应台(10)内部盛有适量的HCL溶液。
5.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备，其特征在于：所述碱性反应台(18)右侧连通有第三气泵(19)，所述碱性反应台(18)顶部贯穿有第二吸水管(20)，所述第二吸水管(20)底端延伸至碱性反应台(18)底部，所述第二吸水管(20)的一端连通有第二回收箱(23)。
6.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备，其特征在于：所述碱性反应台(18)右侧设置有第二PH控制阀(21)，所述排气口(22)通过第二PH控制阀(21)与碱性反应台(18)连通，所述碱性反应台(18)右侧固定安装有第二驱动电机(24)，所述第二驱动电机(24)输出端活动连接有第二驱动轴(25)，所述第二驱动轴(25)右端贯穿碱性反应台(18)右侧，并延伸至其内部，所述第二驱动轴(25)上设置有第二搅拌叶(26)，所述碱性反应台(18)内部盛有NAOH溶液。
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