CN108447808A - 一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004064 recycling Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000686 essence Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
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Abstract
一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,包括箱体和风机,所述箱体为矩形腔体,箱体一侧上表面设有排气口,箱体两侧分别设有抽气口和进气口,进气口位于排气口一侧,箱体内腔上部设有气体交换管,气体交换管弧形固定安装在箱体内,且与排气口联通,气体交换管下方设有水平固定的喷淋管,喷淋管与气体交换管在空间上垂直,箱体内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊,滚动滑辊分别与喷淋管在空间上垂直,滚动滑辊上水平放置有盛放产品的基板,所述风机安装在箱体外部,风机的进风口与箱体的抽气口管路联通,风机的出风口与箱体的进气口管路联通。
Description
技术领域
本发明涉及湿式制程设备领域,尤其涉及一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置。
背景技术
半导体制程是在超洁净无尘室进行的,仍然有些污染源的存在,至于污染源的来源,不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生,以及制程反应产生物的结果,尤其是制程反应产生物一项,更成为制程污染的主要来源,大多会造成良率和可靠度的下降;在半导体制程中,无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。
湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展,但有些机构设计,使用上有维修困难、耗液量大、均匀性不佳、漏液,背面脏污等等问题。其中若为高温制程,制程中产生气体量大,常会造成气体排出负担大,影响设备正常工作的同时,也会使得机台零件寿命减短,另外,在高温制程过程中,需要提高高温环境,排出的高温气体带走了设备内温度,减少了热量利用率,增加了能源耗损。
发明内容
本发明正是针对现有技术存在的不足,提供了一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置。
为解决上述问题,本发明所采取的技术方案如下:
一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,包括箱体和风机,所述箱体为矩形腔体,箱体一侧上表面设有排气口,箱体两侧分别设有抽气口和进气口,进气口位于排气口一侧,箱体内腔上部设有气体交换管,气体交换管弧形固定安装在箱体内,且与排气口联通,气体交换管下方设有水平固定的喷淋管,喷淋管与气体交换管在空间上垂直,箱体内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊,滚动滑辊分别与喷淋管在空间上垂直,滚动滑辊上水平放置有盛放产品的基板,所述风机安装在箱体外部,风机的进风口与箱体的抽气口管路联通,风机的出风口与箱体的进气口管路联通。
进一步的,所述基板在滚动滑辊上定向定位移动,且喷淋管位于基板的正上方。
进一步的,所述抽气口与风机之间设有过滤装置。
进一步的,所述进气口设有回转的缓冲管。
本发明与现有技术相比较,本发明的有益效果如下:
本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,半导体湿式高温制程过程中产生的大量的水蒸气,风机工作时,抽气口抽取箱体内带有高热量的水蒸气,通过风机的配合管路,然后将高温气体通过进气口通入箱体中,实现腔体内高温气体的再生利用,节省高温气体使用量,节约能耗,同时,降低排气口的高温气体排放负担,保证了机台的正常工作,提高了机台零部件的使用寿命。
附图说明
图1为本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置结构示意图;
图2为本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置左视结构示意图。
具体实施方式
下面将结合具体的实施例来说明本发明的内容。
如图1和图2所示,所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,包括箱体10和风机20,所述箱体10为矩形腔体,箱体10一侧上表面设有排气口11,箱体10两侧分别设有抽气口12和进气口13,进气口13位于排气口11一侧,箱体10内腔上部设有气体交换管14,气体交换管14弧形固定安装在箱体内,且与排气口11联通,气体交换管14下方设有水平固定的喷淋管15,喷淋管15与气体交换管14在空间上垂直,箱体10内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊16,滚动滑辊16分别与喷淋管15在空间上垂直,滚动滑辊16上水平放置有盛放产品的基板17,所述风机20安装在箱体10外部,风机20的进风口与箱体10的抽气口12管路联通,风机20的出风口与箱体10的进气口13管路联通。
所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,半导体湿式高温制程过程中产生的大量的水蒸气,风机20工作时,抽气口12抽取箱体10内带有高热量的水蒸气,通过风机20的配合管路,然后将高温气体通过进气口13通入箱体10中,实现腔体内高温气体的再生利用,节省高温气体使用量,节约能耗,同时,降低排气口的高温气体排放负担,保证了机台的正常工作,提高了机台零部件的使用寿命。
所述基板17在滚动滑辊16上定向定位移动,且喷淋管15位于基板17的正上方,保证基板17上盛放的半导体产品始终位于喷淋管15正下方,保证喷淋覆盖面最全面,喷淋效果最佳。
所述抽气口12与风机20之间设有过滤装置18,有效滤除高温气体中的杂质,避免影响风机的工作同时,通入箱体10中含有杂质的高温气体,污染产品。
所述进气口13设有回转的缓冲管19,减缓风机20经进气口13送入箱体10中的高温气体产生强力冲击,影响产品的正常加工,破坏设备的稳定性。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,其特征是,包括箱体(10)和风机(20),所述箱体(10)为矩形腔体,箱体(10)一侧上表面设有排气口(11),箱体(10)两侧分别设有抽气口(12)和进气口(13),进气口(13)位于排气口(11)一侧,箱体(10)内腔上部设有气体交换管(14),气体交换管(14)弧形固定安装在箱体内,且与排气口(11)联通,气体交换管(14)下方设有水平固定的喷淋管(15),喷淋管(15)与气体交换管(14)在空间上垂直,箱体(10)内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊(16),滚动滑辊(16)分别与喷淋管(15)在空间上垂直,滚动滑辊(16)上水平放置有盛放产品的基板(17),所述风机(20)安装在箱体(10)外部,风机(20)的进风口与箱体(10)的抽气口(12)管路联通,风机(20)的出风口与箱体(10)的进气口(13)管路联通。
2.根据权利要求1所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,其特征是,所述基板(17)在滚动滑辊(16)上定向定位移动,且喷淋管(15)位于基板(17)的正上方。
3.根据权利要求1所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,其特征是,所述抽气口(12)与风机(20)之间设有过滤装置(18)。
4.根据权利要求1所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置,其特征是,所述进气口(13)设有回转的缓冲管(19)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810436229.8A CN108447808A (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810436229.8A CN108447808A (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108447808A true CN108447808A (zh) | 2018-08-24 |
Family
ID=63202577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810436229.8A Pending CN108447808A (zh) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | 一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN108447808A (zh) |
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