CN108353740B - 一种小型西瓜高效省力化栽培方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种小型西瓜高效省力化栽培方法,包括以下步骤:做种植垄;铺地膜和滴管带;西瓜苗定植;拱棚搭建;棚膜开洞;田间管理。本发明采用玻璃纤维管做拱棚拱架,仅用一层棚膜,后期采用在棚膜上开洞的方式进行一次性永久放风,投入少,操作简单;本发明中小西瓜在生长前期基本处在一个稳定的生长环境中,避免了一般拱棚栽培方式下放风造成的温度忽高忽低对植株生长的影响,后期在避雨环境中生长,植株更健壮,生长速度快,病害、裂果减少,不仅能提前上市,而且西瓜商品性好,效益更高;本发明采用绿色地膜覆盖,不仅能抑制杂草、保温保湿,而且能防止夏季强光造成的叶片日灼现象。

Description

一种小型西瓜高效省力化栽培方法
技术领域
本发明属于植物栽培技术领域,涉及的是一种小型西瓜高效省力化栽培方法。
背景技术
传统的西瓜栽培方法一般是露地爬地栽培,瓜藤、瓜果满地爬,因瓜果在露天地面上成熟,果面着色不均匀,容易感染病害,商品性差,如果水分管理不当还容易裂果。利用保护地栽培西瓜可以使西瓜提早上市,显著提高种植者经济效益,因此近几年来我国保护地西瓜栽培面积逐年增大,利用拱棚栽培西瓜是一种当前比较普遍的西瓜保护地栽培模式,其特点是投资少,效益显著,因此深得瓜农青睐。当前生产小型西瓜拱棚栽培技术主要有大拱棚和小拱棚两种,由于大拱棚栽培西瓜成本较高,利用率低,操作复杂,因此生产上越来越推崇小拱棚栽培。
目前小型西瓜拱棚种植采用的方法主要有3种:
第1种是大棚吊蔓栽培,每667m2栽培株可达1200株,产量高,且西瓜表面着色均匀,商品性好;但由于需要建棚搭架吊蔓,生产成本增加,且要根据温度情况进行放风管理,费工费力,大面积推广应用受到一定限制。
第2种是大棚地膜覆盖爬地栽培,每667m2栽培株可达600-800株,该方法比大棚吊蔓栽培节省人工,但产量低,前期也要根据温度情况经常进行放风管理,费工费力。
第3种是传统小拱棚栽培,一般采用双膜模式,即“地膜+拱棚”模式,每667m2栽培株600-800株,覆盖后四周用土封严,生长后期撤掉棚膜和拱架,西瓜在露地生长,该方法比大棚节省建造成本,但西瓜生长前期也要根据温度情况进行放风管理,后期水分管理不当,西瓜容易裂果,而且西瓜在露地生长,外观商品性差。
拱棚栽培西瓜一般应用于早春时节,这个季节随时会有大风出现,以上三种方法,在生长前期都要进行人工放风,一旦在放风过程中遇到大风就很有可能把棚膜刮开,对西瓜生长造成严重影响;放风过程中还要注意防风口的位置、大小及距离间隔,同时需要把握好放风时间,这些都需要熟练过程及较高的技术要求,把握不好就会对西瓜造成致命影响。
发明内容
为了解决传统拱棚栽培模式存在的问题,本发明提供一种小型西瓜高效省力化栽培方法。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种小型西瓜高效省力化栽培方法,具体步骤如下:
(1)做种植垄:在平整好的种植地上做南北向栽植垄,垄面由西向东微微倾斜,垄面宽度为1.6-1.8m,垄底宽1.8-2.0m,垄高10-25cm,垄长40-60m,沟宽30-40cm,垄面呈5-10度向东倾斜,西高东低;
(2)铺地膜和滴管带:在栽植垄上距离垄西边40cm处铺设滴管带,然后在栽植垄上铺地膜,四周压实;
(3)西瓜苗种植:在栽植垄上离垄西边30cm处,按照40-45cm的株距,用打孔器打孔,把西瓜嫁接苗定植在定植带上;
(4)拱棚搭建:将2m长的玻璃纤维杆一端在栽植垄栽苗的西边沿地膜边垂直插下,插入深度8-10cm,另一端从瓜苗的另一侧,离种植垄西边1.2m处插下,形成拱杆,顺着定植垄按40-45cm间距一个,搭建拱棚,使拱棚的高度为50-60cm,最后在拱棚上覆盖白色塑料无滴膜,形成棚膜,四周用土封严,拱棚搭建好后灌一次透水,之后根据墒情进行滴灌;
(5)棚膜开洞:瓜苗生长前期不用放风,直到瓜苗团棵时期,白天温度超过32度时,在棚膜西边离地30cm处用直径15cm打孔器打孔Ⅰ,孔Ⅰ中心之间间距20cm;当西瓜进入伸蔓期,白天温度稳定在20度以上时,在棚膜东边挨着地膜向上用直径40cm打孔器打孔Ⅱ,孔Ⅱ中心之间间距40-45cm;
(6)田间管理:采用三蔓整枝,三个瓜蔓环绕瓜苗根部一圈,从东边洞口伸出,使得西瓜在拱棚内。
所述步骤(1)中的栽植垄为东西方向梯形倾斜式,垄的上底宽1.6-1.8m,下底宽1.8-2.0m,垄东边高度为10cm,西边为25cm。
在步骤(1)中,种植畦苗由西向东略微倾斜,东边高度为10cm,西边为25cm,瓜蔓顺地面延伸,蔓顶端向下倾斜。
在步骤(2)中,地膜采用绿色地膜。
所述步骤(4)中的玻璃纤维杆直径为1cm。
在步骤(5)中,棚膜东西方向开洞,保证棚内空气自然流通。
西瓜栽植在梯形倾斜式垄面上,垄与垄之间为作业道和沥水沟,园区四周有排水沟。
本发明的有益效果:
本发明采用玻璃纤维管做拱棚拱架,可多年重复使用,后期采用在棚膜上开洞的方式进行一次性永久放风,操作简单,节约劳动力成本;本发明中小西瓜生长前期基本处在一个稳定的生长环境中,避免了一般拱棚(包括大棚)栽培方式下放风造成的温度忽高忽低对植株生长的影响,生长速度更快,因而能提早上市,效益更好;本方面采用在棚两侧上下开洞,保证棚内空气自然流通,中午棚内热气能很快散去,花期蜜蜂可以自由出入,不用人工授粉,节约了劳动力成本;本发明中小西瓜生长后期,西瓜和植株根部在避雨环境中生长,可保持根系土壤水分均衡,避免水分过多和巨变而引起西瓜裂果,以及通过雨水传播的病害,生产的西瓜商品率高,商品性好;本发明采用绿色地膜覆盖,不仅能抑制杂草,保温保湿,而且能降低夏季强光造成的叶片日灼现象。
附图说明
为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1为本发明西瓜栽培方法实施例的主视图;
图2为本发明西瓜栽培方法实施例的东侧视图;
图3为本发明西瓜栽培方法实施例的西侧视图;
图中标记:1-种植垄,2-拱棚,3-定植带,4-滴管带,5-西瓜,6-地膜,7-瓜蔓,8-拱杆,9-棚膜,10-孔Ⅰ,11-孔Ⅱ。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
一种小型西瓜高效省力化栽培方法,具体步骤如下:
(3)做西瓜种植垄:在平整好的种植地上做南北向栽植垄1,垄面由西向东微微倾斜,垄面宽度为1.6-1.8m,垄底宽1.8-2.0m,垄高10-25cm,垄长可根据地块确定,一般40-60m,沟宽30-40cm,垄面呈5-10度向东倾斜,西高东低;
(4)铺地膜和滴管带:在栽植垄1上距离垄西边40cm处铺设滴管带4,然后在栽植垄1上铺宽2.0m绿色地膜6,四周压实,地膜厚度0.02mm;
(3)西瓜苗种植:在栽植垄1上离垄西边30cm处,按照40-45cm的株距,用打孔器打孔,把健壮的西瓜嫁接苗定植在定植带3上;
(4)拱棚搭建:将2m长的玻璃纤维杆一端在栽植垄栽苗的西边沿地膜边垂直插下,插入深度8-10cm,另一端从瓜苗的另一侧,离种植垄西边1.2m处插下,形成拱杆8,顺着定植垄按40-45cm间距一个,搭建拱棚2,使拱棚2的高度为50-60cm,最后在拱棚上覆盖白色塑料无滴膜,形成棚膜9,白色塑料薄膜的宽度为2.0m,厚为0.04mm,四周用土封严,拱棚搭建好后灌一次透水,之后根据墒情进行滴灌;
(5)棚膜开洞:瓜苗生长前期不用放风,直到瓜苗团棵时期,白天温度超过32度时,在棚膜西边离地30cm处用直径15cm打孔器打孔Ⅰ10,孔Ⅰ10中心之间间距20cm,当西瓜进入伸蔓期,白天温度稳定在20度以上时,在棚膜东边挨着地膜向上用直径40cm打孔器打孔Ⅱ11,孔Ⅱ11中心之间间距40-45cm;
(6)田间管理:该技术采用三蔓整枝,三个瓜蔓7环绕瓜苗根部一圈,从东边洞口伸出,使得西瓜5在拱棚内,其他按照传统方式进行整枝、压蔓、留瓜、病虫害防治和肥水管理。
所述步骤(1)中东西方向梯形倾斜式栽植垄,垄的上底宽1.6-1.8m,下底宽1.8-2.0m,垄东边高度为10cm,西边为25cm。
在步骤(1)中,种植畦苗由西向东略微倾斜,东边高度为10cm,西边为25cm,瓜蔓顺地面延伸,蔓顶端向下倾斜,抑制营养生长过旺。
在步骤(2)中,地膜采用绿色地膜,既能抑制杂草生长,又能提高地温,保持根系部分湿润,促进瓜苗健康生长。
所述步骤(4)中的玻璃纤维杆直径为1cm。
在步骤(5)中,棚膜西边在上方开洞,有利于散热,解决了一般拱棚从下边放风,热空气不易散去,棚内中午温度过高的问题。
在步骤(5)中,棚膜东西方向开洞,保证棚内空气自然流通,花期蜜蜂可以自由出入,不用人工授粉。
在步骤(6)中,三蔓围绕根部环绕一圈,减弱瓜蔓营养生长,提高坐果率,同时保持坐瓜节位在拱棚内,提高果实的商品性。
所述步骤(6)中,第1个雌花摘去,留第2个雌花结的瓜。
西瓜栽植在梯形倾斜式垄面上,垄与垄之间为作业道和沥水沟,园区四周有排水沟。梯形垄面上铺设绿色地膜,抑制杂草生长,同时保持根系土壤水分均衡,避免水分过多和巨变而引起西瓜裂果及患病。
本发明采用玻璃纤维管做拱棚拱架,仅用一层棚膜,后期采用在棚膜上开洞的方式进行一次性永久放风,投入少,操作简单;
本发明中小西瓜在生长前期基本处在一个稳定的生长环境中,避免了一般拱棚(包括大棚)栽培方式下放风造成的温度忽高忽低对植株生长的影响,后期在避雨环境中生长,植株更健壮,生长速度快,病害、裂果减少,不仅能提前上市,而且西瓜商品性好,效益更高;本发明采用绿色地膜覆盖,不仅能抑制杂草、保温保湿,而且能防止夏季强光造成的叶片日灼现象。
以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (4)

1.一种小型西瓜高效省力化栽培方法,其特征在于,具体步骤如下:
(1)做种植垄:在平整好的种植地上做南北向栽植垄,垄面由西向东微微倾斜,垄面宽度为1.6-1.8m,垄底宽1.8-2.0m,垄高10-25cm,垄长40-60m,沟宽30-40cm,垄面呈5-10度向东倾斜,西高东低;
(2)铺地膜和滴管带:在栽植垄上距离垄西边40cm处铺设滴管带,然后在栽植垄上铺地膜,四周压实;
(3)西瓜苗种植:在栽植垄上离垄西边30cm处,按照40-45cm的株距,用打孔器打孔,把西瓜嫁接苗定植在定植带上;
(4)拱棚搭建:将2m长的玻璃纤维杆一端在栽植垄栽苗的西边沿地膜边垂直插下,插入深度8-10cm,另一端从瓜苗的另一侧,离种植垄西边1.2m处插下,形成拱杆,顺着定植垄按40-45cm间距一个,搭建拱棚,使拱棚的高度为50-60cm,最后在拱棚上覆盖白色塑料无滴膜,形成棚膜,四周用土封严,拱棚搭建好后灌一次透水,之后根据墒情进行滴灌;
(5)棚膜开洞:瓜苗生长前期不用放风,直到瓜苗团棵时期,白天温度超过32度时,在棚膜西边离地30cm处用直径15cm打孔器打孔Ⅰ,孔Ⅰ中心之间间距20cm;当西瓜进入伸蔓期,白天温度稳定在20度以上时,在棚膜东边挨着地膜向上用直径40cm打孔器打孔Ⅱ,孔Ⅱ中心之间间距40-45cm;
(6)田间管理:采用三蔓整枝,三个瓜蔓环绕瓜苗根部一圈,从东边洞口伸出,使得西瓜在拱棚内;
所述步骤(1)中的栽植垄为东西方向梯形倾斜式,垄的上底宽1.6-1.8m,下底宽1.8-2.0m,垄东边高度为10cm,西边为25cm;
在步骤(1)中,种植畦苗由西向东略微倾斜,东边高度为10cm,西边为25cm,瓜蔓顺地面延伸,蔓顶端向下倾斜;
在步骤(5)中,棚膜东西方向开洞,保证棚内空气自然流通。
2.根据权利要求1所述的一种小型西瓜高效省力化栽培方法,其特征在于,在步骤(2)中,地膜采用绿色地膜。
3.根据权利要求1所述的一种小型西瓜高效省力化栽培方法,其特征在于,所述步骤(4)中的玻璃纤维杆直径为1cm。
4.根据权利要求1所述的一种小型西瓜高效省力化栽培方法,其特征在于,西瓜栽植在梯形倾斜式垄面上,垄与垄之间为作业道和沥水沟,园区四周有排水沟。
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