CN107865974A - 干式工艺处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供能够不将对象物润湿地进行杀菌或除臭、安全性高的干式工艺处理方法。根据实施方式，干式工艺处理方法是通过使盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而不将存在于上述空间内的对象物润湿地使次氯酸成分到达，进行上述对象物的杀菌或除臭的干式工艺处理方法。

Description

干式工艺处理方法

优先权基础申请等关联申请的引用

本申请以日本专利申请2016-186932(申请日：2016年9月26日)作为基础并由该申请享有优先权。本申请通过参照该申请而包含该申请的全部内容。

技术领域

这里描述的实施方式涉及杀菌水的干式工艺处理方法。

背景技术

近年来，从生活中的各种物体、场所中的卫生方面和健康方面的观点出发，要求将它们进行杀菌。直到今天，在它们的杀菌中，使用以次氯酸钠为代表的杀菌水。

然而，对于食品、蔬菜水果、衣服、畜舍、居住空间等1)不能使其润湿的对象物(通过润湿而受到损伤的物体、通过润湿而变得无法使用的物体等)、2)或形状上具有液体不能到达细部的结构的物体、或对象物具有防水性从而液体不能到达细部的物体，要求除了湿式工艺以外的杀菌、除臭对策。

作为利用干式工艺处理的杀菌、除臭对策，通过臭氧气体等具有杀菌效果的气体进行来杀菌，但这些气体大多是对人体有毒的气体，使用范围受到限定。因此，要求不将对象物润湿、且没有残留性、且安全性高的杀菌方法。此外，为了提高通用性，期望对于空间内的设备等尽量不产生腐蚀(锈)等的影响。

发明内容

本实施方式的课题在于提供不将对象物润湿、且安全性高的杀菌水的干式工艺处理方法及干式工艺处理装置。

根据实施方式，干式工艺处理方法的特征在于，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH5～8的次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于上述空间内的对象物，不将对象物润湿地以干式工艺处理进行杀菌或除臭。

根据上述干式工艺处理方法，能够不将对象物润湿地、此外不产生锈地安全地进行杀菌或除臭。

附图说明

图1是概略地表示第1实施方式中的干式工艺处理装置的截面图。

图2是将上述干式工艺处理装置的过滤器部分放大而表示的立体图。

图3是概略地表示上述干式工艺处理装置及杀菌或除臭的对象物的设置例的图。

图4是概略地表示用于生成次氯酸水的3室型的电解水生成装置的一个例子的截面图。

图5是对于盐分浓度不同的多种次氯酸水，将由腐蚀引起的金属板的重量减少率与经过时间的关系进行比较而表示的曲线图。

图6是对于被覆率不同的多种过滤器，将风速的变化率进行比较而表示的曲线图。

图7是表示第2实施方式所述的干式工艺处理装置及喷雾空间的立体图。

图8是概略地表示第1变形例所述的干式工艺处理装置的截面图。

图9是概略地表示第2变形例所述的干式工艺处理装置的截面图。

具体实施方式

以下，参照附图对各种实施方式进行说明。另外，对实施方式中共同的构成标注相同的符号，并省略重复的说明。此外，各图是实施方式及有助于其理解的示意图，其形状或尺寸、比例等与实际的装置有不同的地方，但它们可以通过参考以下的说明和公知技术来适当地进行设计变更。

(第1实施方式)

图1是概略地表示第1实施方式所述的干式工艺处理装置的构成的截面图，图2是将上述干式工艺处理装置的过滤器部分放大而表示的立体图。

如图1中所示的那样，干式工艺处理装置10例如作为气液接触方式的干式工艺处理装置而构成。即，其是通过使次氯酸水浸渗在过滤器中，并将空气通过该过滤器而流通，从而使次氯酸水与空气接触，将次氯酸水变换成气体而放出的干式工艺处理装置。

若详细叙述，则干式工艺处理装置10具备箱状的框体12。框体12的侧壁12a具有吸气口14，与侧壁12a相对的侧壁12b具有喷雾口16。在框体12内，设置有吸气风扇18、过滤器20、贮存作为杀菌水的次氯酸水的液体接受器22、将液体接受器22内的次氯酸水供给到过滤器20中的给水机构24。在框体12的顶棚壁12c上，装卸自如地载置有容纳补充用的次氯酸水的贮水槽(或贮水盒)26。

吸气风扇18与吸气口14相对地设置。吸气风扇18通过吸气口14将外部空气吸气，向过滤器20送风。过滤器20与喷雾口16相对、且设置于液体接受器22上。过滤器20例如形成为矩形状，沿着大致垂直方向设立。从吸气风扇18送来的外部空气通过过滤器20从喷雾口16排出到外部。过滤器20也可以包含无纺布。对于过滤器20的详细情况在后面进行叙述。

液体接受器22配置在框体12的底壁12d上。液体接受器22贮存有规定量的次氯酸水，同时接受从过滤器20滴落的次氯酸水而进行贮存。

给水机构24具备设置于过滤器20的上方的滴下管30、从液体接受器22的底部延伸至滴下管30的给水配管32、与给水配管32的中途部连接的送液泵34和驱动送液泵34及上述的吸气风扇18的控制器35。

如图1及图2中所示的那样，滴下管30大致水平地延伸，在过滤器20的上方空开规定的间隔而配置。本实施方式中，给水配管32与滴下管30的两端连接，从两端给水到滴下管30中。在滴下管30上，形成有多个滴下孔30a，在滴下管30的轴方向上以规定的间距排列。被给水到滴下管30中的次氯酸水从多个滴下孔30a滴下到过滤器20中。次氯酸水的给水量或滴下量可以通过控制器35而适当调整。

在框体12的顶棚壁12c上设置有给水口36，贮水槽26的注入口部分装卸自如地安装在给水口36上。给水管38从给水口36延伸出至液体接受器22的附近。在给水管38的中途部设置有开闭阀40。此外，设置有探测液体接受器22内的液体的液面高度、即探测次氯酸水的余量的浮子传感器42。若通过浮子传感器42探测到次氯酸水的减少，则控制器35将开闭阀40开放。于是，次氯酸水从贮水槽26通过给水管38被补充到液体接受器22中。若液体接受器22内的次氯酸水达到规定量，则根据浮子传感器42的检测，控制器35将开闭阀40关闭，停止给水。

另外，次氯酸水的补充并不限于上述的贮水槽26，操作员也可以从给水口36通过手动进行补充。

图3示出将干式工艺处理装置10设置在规定空间内的一个例子。如图中所示的那样，干式工艺处理装置10配置在例如通过壁面而分隔的空间S内。在该空间S内，载置有成为杀菌或除臭的对象的各种对象物OB1、OB2。空间S优选被密闭，但也可以一部分对外部开放。

如图1及图3中所示的那样，在通过利用干式工艺处理装置10的干式工艺对空间S内喷雾次氯酸水的雾沫或干雾沫时，首先，驱动送液泵34，将次氯酸水从液体接受器22通过给水配管32送至滴下管30中。然后，从滴下管30的滴下孔30a向过滤器20滴下(给水)次氯酸水，浸渗于过滤器20中。同时，驱动吸气风扇18，将从吸气口14吸入的外部空气(或空间S内的空气)向过滤器20送风。浸渗于过滤器20中的次氯酸水与透过过滤器20的空气一起从喷雾口16被喷雾到空间S内。次氯酸水在离开过滤器20的时刻发生气化，次氯酸成分从喷雾口16被喷雾到空间S内。另外，喷雾物质中也可以包含粒径为1μ以下的液状的雾沫。所喷雾的次氯酸成分对规定空间S内进行杀菌或除臭，同时到达空间S内的对象物OB1、OB2上，不将这些对象物OB1、OB2润湿地进行杀菌或除臭。此外，对象物中也包含形成空间S的壁部的内表面、及配置在空间S内的设备等。因此，次氯酸成分到达壁部内表面及设备等，对它们进行杀菌及除臭。

另外，通过将干式工艺处理装置10的喷雾口16与对象物之间的距离D设定为5cm以上，从喷雾口16被喷雾的粒径为1μm以下的雾沫在常温下在到达对象物之前的期间发生气化，可以作为气体到达对象物。由此，可以不将对象物润湿地进行杀菌及除臭。

但是，具有粒径的雾沫优选在空间上尽可能早地被气化，在到达对象物时成为基本被气化的状态。因此，优选喷雾物质中包含的次氯酸成分基本上以被气化的成分为主要成分，具有粒径的液状的雾沫不被喷雾。如果，在从喷雾口没有被气化而被喷雾的情况下，也优选具有粒径的液状的雾沫的量尽可能少，进而也优选粒径为0.3μm以下的雾沫。若液状雾沫的粒径为0.3μm以下，则雾沫在刚被喷雾后被气化，即使对象物与喷雾口的距离进一步近，也能够防止对象物被润湿，对于喷雾装置和对象物的配置能够增加自由度。

为了防止通过次氯酸成分的空间喷雾而在对象物上产生结露，也可以将规定空间S的湿度控制在例如90％以下。规定空间S的湿度可以通过例如将湿度反馈而将吸气风扇18进行开关控制、或另外准备具有除湿功能的设备控制加湿、除湿量来进行调整。

上述的干式工艺处理装置10及干式工艺处理方法中，作为次氯酸水，使用盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、pH为5～8的次氯酸水。该次氯酸水为具有优异的杀菌效果及除臭效果、同时在食品添加物中也被认可为安全的水。这样的次氯酸水可以通过例如3室型的电解装置(电解池)来生成。

图4为概略地表示电解水生成装置的一个例子的截面图。如该图中所示的那样，电解水生成装置具备所谓的3室型的电解槽(电解池)100。电解槽100形成为扁平的矩形箱状，其内部通过阴离子交换膜(第1隔膜)112及阳离子交换膜(第2隔膜)114而分隔成中间室115a和位于中间室115a的两侧的阳极室115b及阴极室115c这3室。在阳极室115b内设置有阳极116，与阴离子交换膜112相对。在阴极室115c内设置有阴极118，与阳离子交换膜114相对。阳极116及阴极118形成为大致相等大小的矩形板状，将中间室15a夹持而彼此相对。

电解水生成装置具备向电解槽100的中间室115a中供给电解液例如饱和食盐水的电解液供给部119、向阳极室115b及阴极室115c中供给电解原水例如水的水供给部211、和对阳极116及阴极118分别施加正电压及负电压的电源213。

电解液供给部119具备生成饱和食盐水的盐水槽215、从盐水槽215向中间室115a的下部导入饱和食盐水的供给配管119a、设置在供给配管119a中的送液泵219、和将在中间室115a内流动的电解液从中间室115a的上部送至盐水槽215中的排水配管119b。

水供给部211具备供给水的未图示的给水源、从给水源向阳极室115b及阴极室115c的下部导入水的给水配管211a、将在阳极室115b内流动的水从阳极室115b的上部排出的第1排水配管211b、和将在阴极室115c内流动的水从阴极室115c的上部排出的第2排水配管211c。

在通过像上述那样构成的电解水生成装置来生成酸性水(次氯酸水及盐酸)和碱性水(氢氧化钠)时，使送液泵219工作，将饱和食盐水供给到电解槽100的中间室115a中，同时将水给水到阳极室115b及阴极室115c中。同时，由电源213对阳极116及阴极118分别施加正电压及负电压。在向中间室115a流入的盐水中，电离的钠离子被阴极118吸引，通过阳离子交换膜114而向阴极室115c流入。并且，在阴极室115c中，水在阴极118处被电解而生成氢气和氢氧化钠水溶液。所生成的氢氧化钠水溶液及氢气从阴极室115c流出到第1排水配管211b中，通过未图示的气液分离器被分离成氢氧化钠水溶液和氢气。所分离的氢氧化钠水溶液(碱性水)通过第1排水配管211b被排出。

此外，在中间室115a内的盐水中，电离的氯离子被阳极116吸引，通过阴离子交换膜112而向阳极室115b流入。并且，氯离子在阳极116处被还原而产生氯气。之后，氯气在阳极室115b内与水反应而产生次氯酸水和盐酸。像这样而生成的酸性水(次氯酸水及盐酸)从阳极室115b通过第2排水配管211c而流出。

在使用上述那样的3室型的电解槽100时，由于盐水被供给到以第1隔膜及第2隔膜分隔的中间室115a中，所以在阳极水或阴极水中几乎不会混入盐水。由此，电解水生成装置能够生成盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、pH5～8的次氯酸水。

通过将盐分浓度为500mg/kg以下的次氯酸水进行喷雾，能够抑制对象物(生物、设备等)、空间壁面等的腐蚀。对验证了基于盐分浓度的腐蚀程度的结果进行说明。

准备盐分浓度不同的多种次氯酸水，将金属板片浸渍在各次氯酸水中，测定伴随时间经过而引起的金属板片的腐蚀状态的变化(外观变化及伴随腐蚀而引起的重量变化)。关于次氯酸水，准备在有效氯浓度(FAC)为50mg/kg、调整为pH6的微酸性次氯酸水中添加氯化钠而使盐分浓度为0mg/kg、200mg/kg、500mg/kg、1000mg/kg、2000mg/kg、4000mg/kg的6种次氯酸水。作为金属板片，使用容易出现腐蚀影响的铜板(C2010)(长度为15mm、宽度为15mm、厚度为1mm)。

图5表示关于各铜板的经过时间与重量减少率之间的关系。由该图获知，次氯酸水的盐分浓度越高、例如为1000mg/kg以上，则铜板的重量减少越大，腐蚀越进行。此外获知，盐分浓度为500mg/kg以下时，几乎不产生铜板的重量减少，铜板难以腐蚀或不腐蚀。根据这样的验证结果，通过将喷雾的次氯酸水的盐分浓度设定为500mg/kg以下，能够实现配置在空间S内的对象物OB、壁面等难以生锈的喷雾。

若次氯酸水的有效氯浓度为200mg/kg以下，则能够抑制喷雾的干雾沫或雾沫所到达的对象物的腐蚀、此外对于存在于空间内的设备等上的锈的产生。若为粒径为1μm以下的液状的雾沫，则在到达对象物时，不会使对象物润湿、或难以润湿。此外，由于气化的次氯酸成分不包含盐分/离子系，所以难以使对象物等进一步腐蚀，同时不会使对象物等润湿。

次氯酸水优选pH为5～8。若变得低于pH5，则由于平衡状态下的氯气的存在比率提高，所以容易产生氯气，有效氯浓度容易降低，但若为pH5～7，则由于次氯酸水的存在比率高，所以有效氯浓度难以降低，稳定。但是，由于次氯酸的pKa为7.5，所以若变得大于pH8，则次氯酸成分的存在比率变成一半以下。

另一方面，干式工艺处理装置10的过滤器20为将次氯酸水吸收或吸附的过滤器，并且由与次氯酸水的反应性低的材料形成。在一个例子中，过滤器20由以选自聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、特氟隆(注册商标)、PVDF、氯乙烯、纤维素、丙烯酸类、陶瓷、无机氧化物、无机氮化物中的1种或多种组合的物质作为主要成分、且包含氨基、氰酸酯基、巯基中的任一者的粘接剂、防腐剂、表面改性剂、着色剂、亲水剂的含有率为0.1％以下的材料形成。

若一般的加湿机的过滤器中使用的粘接剂、防腐剂、表面改性剂、着色剂、亲水剂的含有率达到0.1％以上，则次氯酸成分的HClO与它们反应而失活，在过滤器20中气化的雾沫中变得不包含次氯酸成分。如本实施方式那样，若粘接剂、防腐剂、表面改性剂、着色剂、亲水剂的含有率为0.1％以下，则能够不使次氯酸成分失活地使次氯酸水气化而喷雾扩散。在作为过滤器使用无纺布的情况下，也可以由与上述同样的材料来形成无纺布。

喷雾时，为了稳定地放出次氯酸成分，需要调整浸渗在过滤器20中的次氯酸水的含水率。若含水率超过下限值，则有时在过滤器或无纺布上析出杂质。若含水率超过上限值，则接近于过滤器表面被水的膜覆盖的状态，由于若以该状态进行通风，则以大于1μm的粒径被放出，所以作为干式工艺变得不成立。

过滤器的含水率的下限值可以以浸渗的液体的重量来定义。其中，将[(使用状态的过滤器20或无纺布的重量)-(干燥状态的重量)]/[(在过滤器20或无纺布的整个区域中，将水浸渗直至水滴落，在除水后30秒以上，水不滴落的状态)-(干燥状态的重量)]×100≥30％作为下限值的定义。

在气液接触方式的情况下，次氯酸水中的盐分含有率越低，则过滤器或无纺布中的盐析出越得到抑制。此外，若盐分浓度为500mg/kg以下，则能够进一步抑制杂质的析出。

过滤器的含水率的上限值可以通过将含水率置换成被覆率来定义。所谓被覆率，表示过滤器20或无纺布的空孔中的浸渗液的截面积占有率，若被覆率超过80％，则过滤器接近被水膜覆盖的状态，产生大于1μm的粒径的雾沫。

图6是表示以进入过滤器的风的风速作为基准、伴随被覆率的增加而引起的风速(从过滤器出来的风的风速)的变化率的曲线图。由图6获知，在任一风速(1m/sec、2m/sec、3m/sec)下，直到被覆率为80％以下为止，均在风速上没有大的变化，在接近过滤器20被水膜覆盖的状态、被膜率超过80％的状态下，风速急剧减少。由此，通过将被覆率为80％以下规定为给水量或滴下量的上限值，作为判断基准设定为[从过滤器出来的风的风速/进入过滤器的风的风速]×100≥75％，能够防止粒径大于1μm的雾沫的放出。

本实施方式中，对通过干式工艺处理装置10喷雾次氯酸水的规定空间、及对象物可以进行各种选择。例如，规定空间可以选择马棚、仓库、居住空间、蔬菜室、设施、壁橱、垃圾场等存在对象物的所有空间。

对象物包含具有表面防水性的生物。作为这样的生物，可以选择包含草莓、稻种、秋葵、黄瓜、南瓜、茄子的蔬菜水果；包含猪、牛、鸟的家畜；或花卉。对于具有接触角为90度以上的表面防水性的生物，若是液体则不沾水，从而次氯酸成分不能到达整体，但若是气体，则能够对表面整体进行处理。因此，对于这些生物，通过将次氯酸成分向空间放出而进行干式工艺处理，能够有效地进行杀菌或除臭。例如，葡萄、草莓等的与水分的接触角为100～30度左右，稻、米的接触角为130度以上。

对象物也可以包含表面被粒径为1μm以下的纤维状覆盖的物体、及裹有毛或粉的、或具有气孔或气根的、具有摄入空气的结构的生物。所放出的次氯酸成分或雾沫由于为气体或粒径小至1μm以下，所以容易侵入这些对象物的纤维间、或气孔中，能够对这些对象物有效地进行杀菌或除臭。

进而，对象物也可以包含具有厌水性(收获后不能用水清洗)的物体、例如草莓、此外在液体中成分不能渗透至内部的结构物、例如生物、稻种。

此外，作为对象物，可以选择衣服、垃圾等从生活中的各种物体、场所中的卫生方面或健康方面出发要求杀菌或除臭的所有物体。

如以上那样，根据本实施方式，能够提供能够不将对象物润湿地、此外不产生锈地、安全地进行杀菌或除臭的干式工艺处理方法及干式工艺处理装置。

另外，干式工艺除了上述的第1实施方式以外，还可以使用将次氯酸水浸渗于包含无纺布的布中，不送风而自然使其气化的干式工艺、或将被雾沫化的次氯酸水在到达对象物前通过利用气温的蒸发而使其气化的干式工艺。

接着，对其他实施方式及变形例所述的干式工艺处理装置进行说明。在以下说明的其他实施方式及变形例中，对与上述的第1实施方式相同的部分标注相同的参照符号，并将其详细的说明省略或简化，以与第1实施方式不同的部分为中心进行详细说明。

(第2实施方式)

图7是表示具备第2实施方式所述的干式工艺处理装置的杀菌装置的立体图。

如图7中所示的那样，杀菌装置具备容纳容器50和设置于容纳容器50的上部开口处的干式工艺处理装置10。容纳容器50的内部空间S形成杀菌水被喷雾的规定空间。容纳容器50具有用于将对象物取出放入的插入口52和将该插入口52开闭的门53。此外，在容纳容器50内，设置有用于载置对象物的多段的架子54。根据本实施方式，容纳容器50形成为内部空间S的体积成为10m³以下的大小。

干式工艺处理装置10具有扁平的矩形状的框体12，该框体12具有与容纳容器50相对的底壁12d、与底壁相对的顶棚壁12c、和沿着底壁12d的侧缘设立的多个侧壁12a、12b。在相对的2个侧壁12a、12b上，分别形成有吸气口14，此外，在底壁12d上设置有多个喷雾口16。在框体12的顶棚壁12c上，设置有用于供给次氯酸水的给水口56。

与上述的第1实施方式同样地，在框体12内设置有贮存次氯酸水的液体接受器、过滤器、将液体接受器的次氯酸水供给到过滤器中的给水机构、从吸气口将外部空气吸气并向过滤器送风的风扇等。作为次氯酸水，与第1实施方式同样地使用盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、pH5～8的次氯酸水。

在上述杀菌装置中，将作为杀菌的对象物OB的例如蔬菜、水果等食品、此外任意的对象物放入容纳容器50内，载置于架子54上。并且，通过在将门53关闭的状态下驱动干式工艺处理装置10，从而由喷雾口16将次氯酸水变换成气体而对容纳容器50的内部空间S进行喷雾，使其到达对象物OB。由此，进行内部空间S内、及对象物OB的杀菌及除臭。

另外，喷雾物质中也可以包含粒径为1μ以下、进一步优选粒径为0.3μ以下的液状的雾沫。

根据如上述那样构成的杀菌装置及干式工艺处理方法，能够不将对象物OB润湿地、此外在容器内不产生锈地、安全地将对象物OB进行杀菌或除臭。此外，根据本实施方式，通过将次氯酸水变换成气体或喷雾为包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的规定空间S的体积设定为10m³以下，能够将次氯酸水的雾沫或干雾沫没有浓度不均地对规定空间S的整个区域进行喷雾。同时，能够不将对象物OB润湿地使次氯酸成分均匀地到达，能够最大限度地有效利用雾沫粒径小(1μm以下)的作用效果。

(第1变形例)

图8为概略地表示第1变形例所述的干式工艺处理装置的图。根据第1变形例，干式工艺处理装置设定为喷雾式。即，干式工艺处理装置10具备贮存盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、pH5～8的次氯酸水的容器60、将容器60内进行加压的泵62、从设置于容器60内的容器60的上端延伸至底壁的附近的给水管64、和设置于容器60的上端且与给水管64连接的喷雾喷嘴66。

根据干式工艺处理装置10，通过在利用泵62对容器60内加压的状态下按压喷雾喷嘴66，从而由喷雾喷嘴66将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而进行喷雾。在使用这样的干式工艺处理装置10的情况下，也可以实施与上述的第1实施方式同样的干式工艺处理方法。

(第2变形例)

图9是概略地表示第2变形例所述的干式工艺处理装置的图。根据第2变形例，干式工艺处理装置设定为超声波式的喷雾装置。即，干式工艺处理装置10具有箱状的框体12，在该框体12内设置有给水槽72及超声波振荡器74。在框体12的顶棚壁上设置有喷雾口76及给水口78。在给水槽72中贮存有盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、pH5～8的次氯酸水。

根据干式工艺处理装置10，通过对由给水槽72送来的次氯酸水利用超声波振荡器74给予超声波振动，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而从喷雾口76喷雾到机器外。

在使用这样的干式工艺处理装置10的情况下，也能够实施与上述的第1实施方式同样的干式工艺处理方法。

另外，在第2变形例中，也可以设置加热器来代替超声波振荡器74。在该情况下，通过利用加热器将次氯酸水加热并使其蒸发，能够将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫。

本发明并不限定于上述的实施方式或变形例的原样，在实施阶段在不脱离其主旨的范围内可以将构成要素变形而具体化。此外，通过上述实施方式或变形例中公开的多个构成要素的适当的组合，可以形成各种发明。例如，也可以从实施方式中所示的全部构成要素中删除几个构成要素。进而，也可以将不同的实施方式中的构成要素适当组合。

Claims (21)

1.一种干式工艺处理方法，其中，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于所述规定空间内的对象物上，不将所述对象物润湿地进行杀菌或除臭。

2.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸成分通过气液接触方式制成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，对所述规定空间进行喷雾，并使其扩散。

3.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸成分通过超声波或加热制成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，对所述规定空间进行喷雾。

4.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，使用通过3室型电解池生成的次氯酸水。

5.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，通过将次氯酸水以含水率30％以上浸渗于过滤器或无纺布中、并穿过所述过滤器或无纺布而进行送风，从而在所述过滤器或无纺布中没有析出物地使次氯酸水强制气化或自然气化，将次氯酸水成分喷雾到空间中。

6.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸水给水并浸渗到过滤器或无纺布中，将次氯酸水的给水量调整为使覆盖所述过滤器或无纺布的空孔的被覆率成为0～80％的状态，穿过所述过滤器或无纺布而进行送风，使次氯酸水强制气化或自然气化，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而进行喷雾。

7.根据权利要求5或6所述的干式工艺处理方法，其中，利用风扇将外部空气摄入并向所述过滤器或无纺布进行送风，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，并使其在所述规定空间内进行空间扩散。

8.根据权利要求5或6所述的干式工艺处理方法，其中，所述过滤器或无纺布由下述材料形成，所述材料以选自聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、特氟隆、PVDF、氯乙烯、纤维素、丙烯酸类、陶瓷、无机氧化物、无机氮化物中的1种或将多种组合而成的物质作为主要成分，且含有0.1％以下的包含氨基、氰酸酯基、巯基中的任一者的粘接剂、防腐剂、表面改性剂、着色剂、亲水剂。

9.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，通过在将所述规定空间的湿度调整为90％以下的状态下将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫并对所述规定空间进行喷雾，从而以对象物没有结露的干式工艺进行处理。

10.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，所述规定空间为体积为10m³以内的空间，在距离喷雾口为5cm以上的空间中设置对象物，不将该对象物润湿地以干式工艺进行处理。

11.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，所述对象物包含形成所述规定空间的壁部内表面或设备表面，使将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而得到的次氯酸成分到达所述壁部内表面或设备表面，进行杀菌或除臭。

12.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，所述对象物包含具有表面防水性的生物。

13.根据权利要求12所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫并使其到达所述对象物的表面。

14.根据权利要求12或13所述的干式工艺处理方法，其中，作为所述对象物的生物，包含含有草莓、稻种、秋葵、黄瓜、南瓜、茄子的蔬菜水果、包含猪、牛、鸟的家畜、或花卉中的任一者。

15.根据权利要求14所述的干式工艺处理方法，其中，所述对象物包含表面被粒径为1μ以下的纤维状覆盖的物体。

16.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，所述对象物包含裹有毛或粉的、或具有气孔或气根的、具有摄入空气的结构的生物。

17.一种干式工艺处理方法，其中，将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水通过干式工艺使次氯酸成分到达存在于所述规定空间内的对象物，不将所述对象物润湿地进行杀菌或除臭。

18.根据权利要求17所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸成分通过气液接触方式变换成气体，对所述规定空间进行喷雾。

19.根据权利要求17所述的干式工艺处理方法，其中，使用通过3室型电解池生成的次氯酸水。

20.根据权利要求17所述的干式工艺处理方法，其中，通过将次氯酸水以含水率30％以上浸渗于过滤器或无纺布中，穿过所述过滤器或无纺布而进行送风，从而在所述过滤器或无纺布中没有析出物地使次氯酸水强制气化或自然气化，将次氯酸水成分对空间进行喷雾。

21.根据权利要求20所述的干式工艺处理方法，其中，利用风扇将外部空气摄入并向所述过滤器或无纺布进行送风，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，使其在所述规定空间内进行空间扩散。