CN107615657B - 弹性波装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种在具有中空构造的弹性波装置中难以产生压电薄膜的裂纹或缺损、且难以产生层叠膜内的界面剥离、能够通过泄露检测容易挑选出不合格品的弹性波装置。弹性波装置(1)具备支承基板(2)、包含压电薄膜(4)的层叠膜(3)、和IDT电极(5)，在俯视下，在设置有IDT电极(5)的区域的外侧的区域，层叠膜(3)局部地不存在，还具备：支承层(8)，在支承基板(2)上，被设置在层叠膜(3)局部地不存在的区域(R)的至少一部分，并且被配置为在俯视下包含层叠膜(3)被设置的区域；盖部件(9)，被设置在支承层(8)上，与压电薄膜(4)以及支承层(8)一起构成IDT电极(5)所面对的中空空间(7)。

Description

弹性波装置
技术领域
本发明涉及在支承基板上层叠有层叠膜的弹性波装置。
背景技术
下述的专利文献1所记载的弹性波装置中，在支承基板上设置有层叠膜，在该层叠膜上层叠有压电薄膜。上述层叠膜具有高声速膜以及低声速膜。低声速膜由所传播的体波(bulk wave)的声速比压电薄膜中所传播的体波的声速低的膜构成。高声速膜由所传播的体波的声速比压电薄膜中所传播的弹性波的声速高的膜构成。
此外，下述的专利文献2所记载的弹性波装置中，通过在压电薄膜上设置支承层以及盖部件，从而形成有中空空间。在该中空空间内，密封IDT电极。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：WO2012/086639 A1
专利文献2：WO2009/104438 A1
发明内容
-发明要解决的课题-
专利文献1、2所记载的弹性波装置中，压电薄膜由LiTaO3的压电单晶构成。因此，容易产生因外力导致的裂纹、缺损。特别地，由于外部连接端子的接合工序或切割时等所施加的应力，有可能压电薄膜会产生裂纹、缺损。
此外，专利文献1的弹性波装置中，在外部连接端子的连接、切割时，也有可能在包含压电薄膜的层叠体中产生界面剥离。
再有，在专利文献2这种的弹性波装置中，需要确保中空构造的密封性。上述中空构造的密封性通常采用泄露检测来确定，由此挑选出不合格品。但是，若将上述这种的中空构造应用于专利文献1的层叠体，则存在通过泄露检测而无法确认中空构造的密封性的情况。该情况下，难以通过泄露检测来挑选出不合格品。
本发明的目的在于，提供一种在具有中空构造的弹性波装置中难以产生压电薄膜的裂纹、缺损、且难以产生层叠膜内的界面剥离、进而通过泄露检测能够容易挑选出不合格品的弹性波装置。
-解决课题的手段-
本发明所涉及的弹性波装置具备：支承基板；层叠膜，被设置在所述支承基板上，具有包含压电薄膜的多个膜；和IDT电极，被设置在所述压电薄膜的一个面，在俯视下，在设置有所述IDT电极的区域的外侧的区域，所述层叠膜局部地不存在，所述弹性波装置还具备：支承层，在所述支承基板上，被设置在所述层叠膜局部地不存在的区域的至少一部分，并且被配置为在俯视下包围所述层叠膜被设置的区域；和盖部件，被设置在所述支承层上，与所述压电薄膜以及所述支承层一起构成所述IDT电极所面对的中空空间。
在本发明所涉及的弹性波装置的某个特定方向，所述压电薄膜由LiTaO3构成。该情况下，能够更为有效地抑制因外力导致的压电薄膜的裂纹、缺损。
在本发明所涉及的弹性波装置的其他的特定方向，还具备：第1绝缘层，被设置为从所述层叠膜不存在的区域的至少一部分起到达所述压电薄膜上；和布线电极，与所述IDT电极电连接，从所述压电薄膜上起到达所述第1绝缘层上，且到达位于所述层叠膜不存在的区域的所述第1绝缘层部分上。该情况下，难以产生布线电极的断线。
在本发明所涉及的弹性波装置的另外的特定方向，所述第1绝缘层从所述压电薄膜上起通过所述层叠膜的侧面到达所述层叠膜不存在的区域的至少一部分。该情况下，能够更为有效地抑制层叠膜内的界面剥离。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，所述第1绝缘层上的与所述支承基板相反的一侧的面具有倾斜面，该倾斜面倾斜，使得从所述层叠膜不存在的区域起随着接近位于所述压电薄膜上的部分而接近于所述压电薄膜侧。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，所述第1绝缘层的所述倾斜面从所述支承基板上起到达所述压电薄膜上的所述第1绝缘层部分。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，所述第1绝缘层从所述第1绝缘层的所述倾斜面起到达所述层叠膜不存在的区域。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，所述层叠膜具有所述压电薄膜、和所传播的体波的声速比所述压电薄膜中传播的弹性波的声速高的高声速膜，在所述高声速膜上层叠有所述压电薄膜。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，作为多个层，所述层叠膜具有：所述压电薄膜、所传播的体波的声速比所述压电薄膜中传播的弹性波的声速高的高声速膜、和被层叠在所述高声速膜上且所传播的体波声速比所述压电薄膜中所传播的弹性波声速低的低声速膜，在所述低声速膜上层叠有所述压电薄膜。该情况下，能够有效地将弹性波限制在压电薄膜内。
在本发明所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方向，所述层叠膜具有：所述压电薄膜、声阻抗相对较高的高声阻抗膜、和声阻抗比所述高声阻抗膜低的低声阻抗膜。该情况下，能够有效地将弹性波限制在压电薄膜内。
-发明效果-
根据本发明，提供一种在具有中空构造的弹性波装置中难以产生压电薄膜的裂纹或缺损、且难以产生层叠膜内的界面剥离、进而通过泄露检测能够容易地检测出不合格品的弹性波装置。
附图说明
图1(a)是本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置的示意性正面剖视图，图1(b)是表示该电极构造的示意性俯视图。
图2(a)是用于说明现有的弹性波装置中支承层的位置的示意性俯视图，图2(b)是沿着图2(a)中的A-A线的部分欠缺示意性剖视图，图2(c)是用于说明现有的弹性波装置中进行泄露检测的方法的部分欠缺示意性剖视图。
图3(a)是用于说明本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置中支承层的位置的示意性俯视图，图3(b)是沿着图3(a)中的B-B线的部分欠缺示意性剖视图，图3(c)是用于说明本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置中进行泄露检测的方法的部分欠缺示意性剖视图。
图4是本发明的第2实施方式所涉及的弹性波装置的示意性正面剖视图。
图5是本发明的第2实施方式所涉及的弹性波装置的简略的俯视图。
图6是用于说明本发明的第2实施方式所涉及的弹性波装置的主要部分的简略的俯视图。
图7(a)是沿着图6的C-C线的部分的部分欠缺放大剖视图，图7(b)是对图7(a)的主要部分放大表示的部分欠缺示意性剖视图。
图8(a)是对本发明的第3实施方式所涉及的弹性波装置的主要部分进行放大表示的部分欠缺示意性剖视图，图8(b)是对其主要部分进一步放大表示的部分欠缺示意性剖视图。
图9是本发明的第4实施方式所涉及的弹性波装置中使用的层叠膜的示意性正面剖视图。
图10是本发明的第5实施方式所涉及的弹性波装置中使用的层叠膜的示意性正面剖视图。
图11是用于说明层叠膜的变形例的简略的主视图。
具体实施方式
以下，参照附图来说明本发明的具体的实施方式，由此使得本发明变得明了。
另外，本说明书中记载的各实施方式是例示的例子，要指出的是在不同的实施方式之间能够进行构成的部分置换或者组合。
(第1实施方式)
图1(a)是本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置的示意性正面剖视图，图1(b)是表示其电极构造的示意性俯视图。
弹性波装置1具有支承基板2。支承基板2具有相对置的第1主面2a以及第2主面2b。在第1主面2a上设置有层叠膜3。层叠膜3具有：高声速膜3a、在高声速膜3a上层叠的低声速膜3b、和在低声速膜3b上层叠的压电薄膜4。在层叠膜3中，压电薄膜4位于最上部。高声速膜3a是所传播的体波的声速比压电薄膜4中所传播的弹性波的声速高的膜。低声速膜3b是所传播的体波的声速比压电薄膜4中所传播的弹性波的声速低的膜。
另外，体波的声速在材料中是固有的声速，存在在波的行进方向即纵向进行振动的P波、和在垂直于行进方向的方向即横向进行振动的S波。上述体波在压电薄膜4、高声速膜3a、低声速膜3b的任意当中都可传播。在各向同性材料的情况下，存在P波和S波。在各向异性材料的情况下，存在P波、慢的S波、和快的S波。并且，在使用各向异性材料来激励弹性表面波的情况下，作为2个S波而产生SH波和SV波。在本说明书中，所谓压电薄膜4中传播的主模式的弹性波的声速，是指P波、SH波以及SV波的3个模式之中、为了获得作为滤波器的通带、作为谐振器的谐振特性而使用的模式。
另外，也可以在高声速膜3a与压电薄膜4之间形成有紧贴层。若形成紧贴层，则能够使得高声速膜3a与压电薄膜4的紧贴性提高。紧贴层是树脂、金属即可，例如采用环氧树脂、聚酰亚胺树脂。
另外，作为压电薄膜的材料，没有特别限定，能够适当采用LiTaO3、LiNbO3、ZnO、AlN或者PZT的任一者。在本实施方式中，压电薄膜4由LiTaO3构成。不过，也可以使用其他的压电单晶。另外，在将由IDT电极的电极周期所确定的弹性波的波长设为λ时，优选压电薄膜4的膜厚为1.5λ以下。这是因为：在该情况下，通过在1.5λ以下的范围内选择压电薄膜4的膜厚，能够更为容易调整机电耦合系数。
高声速膜3a由满足上述声速关系的合适的材料构成。作为这种的材料，能够列举出氮化铝、氧化铝、碳化硅、氮化硅、氮氧化硅、DLC膜、硅、蓝宝石、钽酸锂、铌酸锂、水晶等的压电体、氧化铝、氧化锆、堇青石、莫来石、滑石、镁橄榄石等的各种陶瓷、氧化镁、金刚石等。此外，也可以使用以上述各材料为主成分的材料、以上述各材料的混合物为主成分的材料。
低声速膜3b由所传播的体波声速比压电薄膜4中传播的弹性波的声速低的合适的材料构成。作为这种材料，能够列举出氧化硅、玻璃、氮氧化硅、氧化钽、氧化硅中添加了氟、碳或硼等的化合物等。对于低声速膜3b，也可以由以这些材料为主成分的混合材料构成。
由于包含高声速膜3a以及低声速膜3b的层叠膜被层叠在压电薄膜4，因此如专利文献1所记载那样，能够提高Q值。另外，也可以多个高声速膜以及多个低声速膜在层叠膜3中被层叠。例如，如图11中简略的主视图所示那样，可以在支承基板2上从支承基板2侧起按低声速膜3b、高声速膜3a、低声速膜3b以及压电薄膜4的顺序进行层叠。由此，能够将所利用的弹性波的能量有效地限制在层叠有压电薄膜4以及低声速膜3b的部分。除此以外，能够使成为寄生的高次模式泄露至高声速膜3a的支承基板2侧，能够抑制高次模式的寄生。由此，能够获得基于所利用的弹性波的良好的谐振特性、滤波器特性等，并且能够抑制基于高次模式的不希望的响应。进而，层叠膜3也可以具有压电薄膜4、高声速膜3a以及低声速膜3b以外的其他膜、例如电介质膜等。
再有，在压电薄膜4上设置有IDT电极5。IDT电极5与布线电极6a、6b电连接。
更为具体而言，在压电薄膜4上形成有图1(b)所示的电极构造。也就是说，形成有IDT电极5、在IDT电极5的弹性波传播方向两侧所配置的反射器13、14。由此构成1端口型弹性波谐振器。不过，本发明中的包含IDT电极的电极构造没有特别限定。可以组合多个谐振器来构成滤波器。作为这种滤波器，列举出梯型滤波器、纵耦合谐振器型滤波器、格型滤波器等。
IDT电极5具有第1母线、第2母线、多根的第1电极指、第2电极指。多根的第1电极指、第2电极指在与弹性波传播方向正交的方向上延伸。多根第1电极指与多根第2电极指彼此间隔插入。此外，多根第1电极指连接于第1母线，多根第2电极指连接于第2母线。
作为构成IDT电极5的材料，没有特别限定，但可列举出例如Cu、Ni、Ni-Cr合金、Al-Cu合金、Ti、Al、Pt等的合适的金属或者合金。这些可以单独使用，也可以一并使用多个。此外，IDT电极5也可以由层叠多个金属膜而成的层叠金属膜来构成。
作为形成IDT电极5的方法，没有特别限定。例如，能够通过蒸镀、剥离法在压电薄膜4上形成IDT电极5。
在弹性波装置1中，设置有IDT电极5所面对的中空空间7。也就是说，在支承基板2上，设置有具有开口部的支承层8。支承层8是框状的形状。支承层8由合成树脂构成。支承层8也可以由无机绝缘性材料构成。
再有，在支承基板2上，局部地不存在层叠有层叠膜3的构造。也就是说，在支承基板2的第1主面2a，设置有在层叠膜3被设置的区域的外侧不存在层叠有层叠膜3的构造的区域R。另外，作为局部地除去上述层叠膜3的方法，没有特别限定。例如，能够利用光刻技术进行抗蚀剂图案化，利用RIE装置等通过蚀刻来除去配置支承层8的基底的层叠膜3。
在弹性波装置1中，在上述区域R的一部分设置有支承层8。也就是说，支承层8被配置为在俯视下包围设置有层叠膜3的区域。
设置盖部件9使得封闭支承层8的上述开口部。盖部件9与支承层8以及支承基板2一起形成IDT电极5所面对的中空空间7。
另一个面，形成有通孔使得贯通支承层8以及盖部件9。该通孔内设置有凸块下金属层10a、10b。凸块下金属层10a、10b与金属凸块11a、11b接合。
凸块下金属层10a、10b以及金属凸块11a、11b由适当的金属或者合金构成。
凸块下金属层10a的下端被接合于布线电极6a。凸块下金属层10b的下端被接合于布线电极6b。因此，布线电极6a、6b的接合凸块下金属层10a、10b的部分成为连接外部连接端子的电极连接盘部分。本实施方式中，作为外部连接端子，设置有金属凸块11a、11b。
在弹性波装置1中，在区域R内设置有上述的电极连接盘。因此，作为外部连接端子的金属凸块11a、11b接合时的应力不会直接施加于层叠膜3的层叠部分。因此，难以产生压电薄膜4的裂纹、缺损。此外，也难以产生层叠膜3内的界面剥离。此外，不仅是金属凸块11a、11b形成时的应力，而且由于利用切割来进行分割时的应力也难以产生压电薄膜4的裂纹、缺损，此外也难以产生界面剥离。
此外，在弹性波装置1中，由于在层叠膜3局部地不存在的区域R设置有支承层8，因此通过泄露检测能够容易地挑选出不合格品。将其与现有构成进行对比，以下进行详细说明。
图2(a)是用于说明现有的弹性波装置中支承层的位置的示意性俯视图。图2(b)是沿着图2(a)的A-A线的部分欠缺示意性剖视图。图2(c)是用于说明现有的弹性波装置中进行泄露检测的方法的部分欠缺示意性剖视图。另外，图2(a)～图2(c)中没有图示布线电极以及层叠膜的详细构造。
如图2(a)以及图2(b)所示，现有的弹性波装置101中，在压电薄膜104上设置有支承层108。但是，弹性波装置101中，若在压电薄膜104的下方的部分产生裂缝或界面剥离，则如图2(c)所示那样，裂缝或剥离不会到达中空空间，存在无法进行泄露检测的情况。该情况下，无法通过泄露检测来确认中空构造的密封性，难以挑选出不合格品。
图3(a)是用于说明本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置中支承层的位置的示意性俯视图。图3(b)是沿着图3(a)的B-B线的部分欠缺示意性剖视图。图3(c)是用于说明本发明的第1实施方式所涉及的弹性波装置中进行泄露检测的方法的部分欠缺示意性剖视图。另外，图3(a)～图3(c)中没有图示布线电极6a、6b以及层叠膜3的详细构造。
如图3(a)以及图3(b)所示，弹性波装置1中，在层叠膜3局部地不存在的上述区域R设置有支承层8。也就是说，在压电薄膜4上未设置支承层8。因此，如图3(c)所示，在弹性波装置1中，裂缝或剥离到达中空空间7，利用该裂缝或剥离能够进行泄露检测。因此，在弹性波装置1中，在压电薄膜4的下方的部分产生了裂缝或界面剥离的情况下，也能够通过泄露检测来确认中空构造的密封性，由此能够容易地挑选出不合格品。
(第2实施方式)
图4是本发明的第2实施方式所涉及的弹性波装置的示意性正面剖视图。如图4所示，弹性波装置21中，在压电薄膜4上设置有IDT电极5a～5c。IDT电极5a～5c通过布线电极6a～6d被电连接。
在弹性波装置21中，凸块下金属层10a的下端被接合于布线电极6a。凸块下金属层10b的下端被接合于布线电极6d。因此，布线电极6a、6d的接合凸块下金属层10a、10b的部分成为连接外部连接端子的电极连接盘部分。
此外，在本实施方式中，由多个IDT电极5a～5c构成的弹性表面波谐振器相互连接。由此，构成带通型滤波器。另外，滤波器电路没有特别限定。
在支承基板2上设置有第1绝缘层12。第1绝缘层12由合成树脂构成。作为这种合成树脂，聚酰亚胺、环氧树脂等。另外，第1绝缘层12也可以由无机绝缘性材料形成，作为构成第1绝缘层12的材料没有特别限定。例如，作为构成第1绝缘层12的材料，能够使用SOG、SiO2、TEOS、SiN等的适当的材料。第1绝缘层12从支承基板2的第1主面2a中的区域R起通过层叠膜3的侧面3d，到达压电薄膜4的上表面。
弹性波装置21中，在区域R内设置有上述的电极连接盘。因此，作为外部连接端子的金属凸块11a、11b接合时的应力不会直接施加于层叠膜3的层叠部分。因此，难以产生压电薄膜4的裂纹或缺损。此外，也难以产生层叠膜3内的界面剥离。不仅是金属凸块11a、11b形成时的应力，而且由于利用切割来进行分割时的应力也难以产生压电薄膜4的裂纹或缺损，此外也难以产生界面剥离。
图5是弹性波装置21的简略的俯视图。在此，保留金属凸块11a、11b，透视上述的盖部件9，简略地示出下方的电极构造。IDT电极5a～5c以长方形的形状表示其被设置的区域。图4为相当于沿着图5的I-I线的部分的剖视图。另一个面，图6中放大表示设置凸块下金属层10a的布线电极6a的详细情况。图6中，布线电极6a位于上述区域R内。图6的虚线表示凸块下金属层10a被接合的部分。沿着该图6的C-C线的部分相当于图4的虚线B1与虚线B2之间的部分。
图7(a)是放大表示由该C-C线示出的部分、即由虚线B1和虚线B2示出的部分的部分欠缺示意性剖视图。
如图7(a)所示，第1绝缘层12从位于上述区域R的部分到达压电薄膜4上。该情况下，如图7(b)中放大表示那样，在层叠膜3的侧面3d的上方，倾斜面12a位于第1绝缘层12的与支承基板2相反的一侧的面。该倾斜面12a被设置为：从区域R的上方起，随着到达上述压电薄膜4的上方而远离支承基板2的第1主面2a。由此，布线电极6a的倾斜面6a1与第1主面2a所形成的角度也减小。因此，能够使得布线电极6a的倾斜面6a1被设置的部分的弯曲度变得缓和。换言之，能够通过第1绝缘层12来缓和侧面3d的外侧的区域R处的支承基板2的第1主面2a与压电薄膜4的上表面之间的高低差的影响。因此，难以产生布线电极6a的断线。
期望倾斜面12a与支承基板2的第1主面2a所形成的角度C1为80°以下。
优选，期望在第1绝缘层12的内侧端12c也设置倾斜面12b。期望该倾斜面12b与第1主面2a所形成的角度C2也为80°以下。由此，倾斜面12b的上方的布线电极6a的断线也难以产生。
另外，更为优选倾斜面12a与第1主面2a所形成的角度C1、以及倾斜面12b与第1主面2a所形成的角度C2为60°以下。此外，进一步优选倾斜面12a与第1主面2a所形成的角度C1、以及倾斜面12b与第1主面2a所形成的角度C2为45°以下。
如上述，布线电极6a的弯曲度被缓和。由此，也难以产生施加热量时的断线、布线电极6a的形成工序中的断线。
此外，层叠膜3的侧面3d被第1绝缘层12覆盖。因此，也难以产生层叠膜3内的界面剥离。其他方面与第1实施方式相同。
在弹性波装置21中，也在层叠膜3局部地不存在的区域R设置有支承层8，因此通过泄露检测能够容易地挑选出不合格品。
(第3实施方式)
图8(a)是放大表示本发明的第3实施方式所涉及的弹性波装置的主要部分的部分欠缺示意性剖视图，图8(b)是对该主要部分进一步放大表示的部分欠缺示意性剖视图。图8(a)以及图8(b)是相当于第2实施方式所涉及的图7(a)以及图7(b)的部分的剖视图。
如图8(a)所示，在第3实施方式中，第1绝缘层22被设置为从支承基板2的第1主面2a上的上述区域R起到达压电薄膜4上。不过，第2实施方式的弹性波装置中的第1绝缘层12在区域R上被延伸至外侧。相对于此，在第3实施方式中，第1绝缘层22的倾斜面22a的一端抵接于支承基板2的第1主面2a。也就是说，第1绝缘层22没有到达倾斜面22a的外侧。另一个面，在压电薄膜4上，与第2实施方式同样地，设置有到达压电薄膜4的上表面的倾斜面22b。
如图8(b)所示，期望与第2实施方式的情况同样地，倾斜面22a与第1主面2a所形成的角度C1以及倾斜面22b与第1主面2a所形成的角度C2为80°以下。
另外，更为优选倾斜面22a与第1主面2a所形成的角度C1、以及倾斜面22b与第1主面2a所形成的角度C2为60°以下。此外，进一步优选倾斜面22a与第1主面2a所形成的角度C1、以及倾斜面22b与第1主面2a所形成的角度C2为45°以下。
这样，第1绝缘层22也可以从位于压电薄膜4的上方的部分起在朝向区域R侧的倾斜面22a处结束。该情况下，在区域R中，与第1实施方式同样地将凸块下金属层以及金属凸块接合于布线电极6a上，由此难以产生压电薄膜4的缺损、裂纹。此外，由于布线电极6a还是具有倾斜面6a1，因此也难以产生布线电极6a的断线。
第3实施方式中，由于也在层叠膜3局部地不存在的区域R设置有支承层8，因此通过泄露检测也能够容易地挑选出不合格品。
(第4实施方式)
图9是本发明的第4实施方式所涉及的弹性波装置中使用的层叠膜的正面剖视图。第4实施方式中，层叠膜71具有高声速膜3a和压电薄膜4。如层叠膜71那样，可以不设置低声速膜。第4实施方式所涉及的弹性波装置除了取代层叠膜3而使用层叠膜71以外，与第1实施方式相同。因此，能够实现与第1实施方式同样的作用效果。
(第5实施方式)
图10是本发明的第5实施方式所涉及的弹性波装置中使用的层叠膜的示意性正面剖视图。第5实施方式中，层叠膜82具有在声阻抗相对较高的高声阻抗膜82a上层叠声阻抗相对较低的低声阻抗膜82b的构造。在低声阻抗膜82b上层叠有压电薄膜4。可以取代层叠膜3而使用层叠膜82。这样，本发明中层叠膜并不限定于具有上述的高声速膜以及低声速膜的构造，也可以具有层叠了高声阻抗膜和低声阻抗膜的构造。
此外，本发明中包含压电薄膜的层叠膜的构成没有特别限定。
因此，也可以层叠多个用于改善温度特性的电介质膜由此来形成层叠膜。
在该等情况下，本发明的弹性波装置中，也在压电薄膜以及层叠膜局部地不存在的区域设置有支承层。因此，能够通过泄露检测容易地挑选出不合格品。
-符号说明-
1、21...弹性波装置
2...支承基板
2a、2b...第1主面、第2主面
3...层叠膜
3a...高声速膜
3b...低声速膜
3d...侧面
4...压电薄膜
5、5a～5c...IDT电极
6、6a～6d...布线电极
6a1...倾斜面
7...中空空间
8...支承层
9...盖部件
10a、10b...凸块下金属层
11a、11b...金属凸块
12、22...第1绝缘层
12a、12b、22a、22b...倾斜面
12c...内侧端
13、14...反射器
71...层叠膜
82...层叠膜
82a...高声阻抗膜
82b...低声阻抗膜

Claims (9)

1.一种弹性波装置，具备：
支承基板；
层叠膜，被设置在所述支承基板上，具有包含压电薄膜的多个膜；和
IDT电极，被设置在所述压电薄膜的一个面，
在俯视下，在设置有所述IDT电极的区域的外侧的区域，所述层叠膜局部地不存在，
所述弹性波装置还具备：
支承层，在所述支承基板上，被设置在所述层叠膜局部地不存在的区域的至少一部分，并且被配置为在俯视下包围所述层叠膜被设置的区域；
盖部件，被设置在所述支承层上，与所述压电薄膜以及所述支承层一起构成所述IDT电极所面对的中空空间；
第1绝缘层，被设置为从所述层叠膜不存在的区域的至少一部分起到达所述压电薄膜上；和
布线电极，与所述IDT电极电连接，从所述压电薄膜上起到达所述第1绝缘层上，且到达位于所述层叠膜不存在的区域的所述第1绝缘层部分上。
2.根据权利要求1所述的弹性波装置，其中，
所述压电薄膜由LiTaO3构成。
3.根据权利要求1所述的弹性波装置，其中，
所述第1绝缘层从所述压电薄膜上起通过所述层叠膜的侧面到达所述层叠膜不存在的区域的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的弹性波装置，其中，
所述第1绝缘层上的与所述支承基板相反的一侧的面具有倾斜面，该倾斜面倾斜，使得从所述层叠膜不存在的区域起随着接近位于所述压电薄膜上的部分而接近于所述压电薄膜侧。
5.根据权利要求4所述的弹性波装置，其中，
所述第1绝缘层的所述倾斜面从所述支承基板上起到达所述压电薄膜上的所述第1绝缘层部分。
6.根据权利要求4所述的弹性波装置，其中，
所述第1绝缘层从所述第1绝缘层的所述倾斜面起到达所述层叠膜不存在的区域。
7.根据权利要求1～6的任一项所述的弹性波装置，其中，
所述层叠膜具有所述压电薄膜、和所传播的体波的声速比所述压电薄膜中传播的弹性波的声速高的高声速膜，在所述高声速膜上层叠有所述压电薄膜。
8.根据权利要求1～6的任一项所述的弹性波装置，其中，
作为多个层，所述层叠膜具有：所述压电薄膜、所传播的体波的声速比所述压电薄膜中传播的弹性波的声速高的高声速膜、和被层叠在所述高声速膜上且所传播的体波声速比所述压电薄膜中所传播的弹性波声速低的低声速膜，
在所述低声速膜上层叠有所述压电薄膜。
9.根据权利要求1～6的任一项所述的弹性波装置，其中，
所述层叠膜具有：所述压电薄膜、高声阻抗膜、和声阻抗比所述高声阻抗膜低的低声阻抗膜。
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