CN107568049A - 无土栽培西瓜种植方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种无土栽培西瓜种植方法,将西瓜苗移栽到装有基质的定植容器内,并放置在种植架上,从定植容器的上方向基质内喷淋营养液,通过从定植容器的下方向从定植容器底部长出的根系喷淋营养液实现气雾培,并通过使长大的根系的下部浸泡在种植架下方的营养液槽中实现水培,实现了基质培、气雾培和水培三者的有机结合,为西瓜生长提供了充分的水分、养分和氧气供应。本发明能很好地促进西瓜的生长,可杜绝病虫害,能真正做到不打农药,且无需每年更换种植场地,并且彻底解决传统种植中水分和养分大部分流失和使用效率低的问题。

Description

无土栽培西瓜种植方法
技术领域
[0001] 本发明涉及一种西瓜种植方法,尤其涉及一种采用无土栽培技术进行西瓜种植的 方法。
背景技术
[0002] 目前西瓜种植仍以传统的土壤种植为主。由于严重威胁西瓜生产的病原菌能在土 壤中越冬,因此可在土壤中存活很多年,对西瓜种植危害极大。因此按照传统的土壤种植方 式,通常每种植一年后就需要搬离当年种植的地方,重新选择新的地方种植,不可避免地要 浪费很多的人力和物力。即便如此,种植过程中仍然避免不了要使用农药,存在对人体造成 危害的风险,而且增加成本。而且,由于采用传统的适用于土壤种植的灌溉与施肥方式,水 和肥料的利用率都比较低,流失明显。
发明内容
[0003] 本发明旨在提供一种无土栽培西瓜种植方法,可杜绝病虫害,为西瓜生长提供足 够的水、氧气和养分,且无需每年更换场地。
[0004] 本发明的主要技术方案有: 一种无土栽培西瓜种植方法,包括: (1) 移栽西瓜苗:向定植容器内装入基质,将经过预先消毒和杀菌的西瓜苗移栽到所述 定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器摆放在种植架上,所述种植架 的下部设有营养液回收装置; (2) 苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,用位于所述定植容器上方的喷头给西 瓜苗喷淋营养液为主,用位于所述定植容器下方的喷头朝上向西瓜苗即将伸出的根部的位 置喷淋营养液为辅;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,用位于所述定植容器下方的喷 头向伸出到所述定植容器外部的根系喷淋营养液为主,用位于所述定植容器上方的喷头给 西瓜苗喷淋营养液为辅;位于所述定植容器上方和下方的喷头所喷出的营养液除留在西瓜 苗上的部分外全部回流到所述营养液回收装置中; (3) 生长期管理:待西瓜苗的根系伸展到或接近所述营养液回收装置的底部时,控制所 述营养液回收装置内的营养液深度为4-6cm,使根系的底部浸泡在所述营养液回收装置的 营养液中。
[0005]在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,优选控制营养液的 EC 值在 0 • 8-1 • Oms/cm 之间,pH 值在 5.5-6.5 之间。
[0006]在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,位于所述定植容器 上方和下方的喷头的开启频率范围分别是每隔20-40分钟喷一次和每隔1〇〇-140分钟喷一 次;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频 率范围分别是每隔50-70分钟喷一次和每隔10-30分钟喷一次。
[0007]在所述生长期管理的过程中,逐步增加营养液的EC值至2-2.5mS/cm之间。
[0008]在所述生长期管理的过程中,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范 围分别是每隔5-7小时喷一次和每隔5-20分钟喷一次。
[0009] 所述无土栽培西瓜种植方法还包括(4)花期管理:去除多余的枝条,向顶部支架引 蔓,使西瓜藤蔓向上生长,采用人工或蜜蜂进行授粉。
[0010] 所述无土栽培西瓜种植方法还包括(5)挂果期管理:授粉后在果子根部做上标记, 记录时间,并用网兜把西瓜挂起来,使西瓜处于光照条件好的地方。
[0011] 所述定植容器可以为定植杯或定植盘,所述基质的厚度优选为所述定植容器深度 的50%-70%。
[0012] 从所述移栽西瓜苗开始,西瓜种植过程均在大棚内完成,移栽西瓜苗之前,先安装 所述种植架,铺设供液管道和回液管道,在供液管道上安装喷头,所述喷头分成两组,分别 位于所述种植架上定植容器搁置台的上方和下方,安装营养液循环式喷淋系统:将营养液 储液装置、过滤装置、泵、供液管道、喷头依次连接形成该系统的供水侧,将营养液回收装 置、回液管道、过滤装置依次连接形成该系统的回水侧。
[0013] 所述大棚优选设置有防虫网。
[0014] 本发明的有益效果是: 本发明将基质培、水培、气雾培三种无土栽培技术有机结合在一起,无论在西瓜定植后 的哪个时期,都能全方位地给植株提供足够的水分、氧气和养分,非常有利于西瓜的种植。
[0015] 本发明的种植方法不涉及土壤,因此彻底避免了传统西瓜种植中被来自土壤的重 金属和其他污染物污染的可能性,并且再也不需要每年更换种植场地,大大节省了搬迁费 用,减少浪费。
[0016] 水分和养分的供给通过喷淋系统实现,因此西瓜种植过程可以基本实现自动化, 减少了对人的依赖,明显提高生产效率。
[0017]由于基质培、水培、气雾培使用一套营养液喷淋循环系统,且除了少量水分的自然 蒸发外,营养液可在不同培植方式之间几乎无损失地流转,可最大限度地减小水分和养分 流失,彻底解决传统种植中水分和养分大部分流失和使用效率低的问题。
[0018]种植过程中可以根据天气、温度等来调整营养液,使得西瓜根系能够更好地吸收 水分和养分,进而生长的更好。
[0019] ^通过大棚和防虫网有效隔离了飞来的虫害,通过气雾栽培使西瓜与土壤隔离,阻 隔了土壤里的病虫害,因此本发明的种植方法能够真正做到不打农药。
附图说明
[0020]图1是本发明所采用的硬件系统的一个实施例的结构示意图。
具体实施方式
[0021]本发明公开了一种无土栽培西瓜种植方法,如图1所示,主要包括以下三个阶段: (1)移栽西瓜苗:向定植容器内装入基质,将无病虫害的、健壮的且经过预先消毒和杀 菌处理的西瓜苗移栽到所述定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器 摆3在种植架1顶部的定植容器搁置台上。一个种植架大概摆放10颗西瓜苗。所述种植架优 选采用框架结构,框架内部、定植容器搁置台的正下方设置有营养液回收装置。所述营养液 回收装置与所述种植架相对固定或者也可以与其设置成为一体的。所述定植容器的底郃留 孔,孔的大小要保证西瓜苗的根系长大后可以从中伸出定植容器,同时基质又不至于从中 掉落。
[0022] (2)苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,主要靠位于所述定植容器上方的 喷头向定植容器中喷淋营养液,给西瓜苗供应水分和养分,当营养液的量超过基质可以容 纳的量时,自然从定植容器底部的孔滴落到所述营养液回收装置中。在这期间,还要适时地 用位于所述定植容器下方的喷头2朝向上向西瓜苗即将伸出的根部的位置喷淋营养液。尽 管此时根系还没有从定植容器中长出来,但由于营养液会喷到定植容器的底部通过孔被基 质吸收,在提供水分和养分的同时,能够引导根系自孔的位置往下生长。
[0023]西瓜苗的根系长出所述定植容器底部之后,改用位于所述定植容器下方的喷头向 伸出到所述定植容器外部的根系喷淋营养液为主,此时根系主要靠下方喷淋的营养液吸收 水分和养分。位于所述定植容器下方的喷头用于实现气雾培。同时,需要降低位于所述种植 架上方的喷头的喷淋频率,一般只需根据植株生长和天气情况偶尔喷淋,以补充定植容器 的基质中所需的必要的水分和养分。
[0024]位于所述定植容器上方和下方的喷头所喷出的营养液除留在西瓜苗(包括茎叶和 根系)上和基质中的部分外全部回流到所述营养液回收装置中,最大限度地减小水分和养 分的流失。
[0025] (3)生长期管理:待西瓜苗壮大之后,其根系非常发达,有一部分根系己经能够伸 展到或接近所述营养液回收装置的底部,此时应控制所述营养液回收装置内的营养液深度 在4-6cm之间,使根系的下部浸泡在所述营养液回收装置的营养液中,实现水培,使根系能 很充分地吸收水分和养分。
[0026]至此实现了基质培、水培和气雾培相结合的无土栽培,不仅顶部基质会给西瓜供 应水分和养分,挂在空气中的根系也会吸收到足够多的水分和养分,同时也有足够的氧气 供应。底部的营养液同样会供应水分和养分给西瓜,这样即使因为临时停电等特殊情况发 生,导致气雾培装置临时供应中断,也不至于影响到西瓜的水分和养分供应。可见,上述三 种无土栽培方式的有机结合给西瓜生长提供更加充分的水分、养分和氧气供应,且保持供 应的可靠性较高。
[0027] 在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,优选控制营养液的 EC值在0 • 8-1 • Oms/cm之间,pH值在5 • 5-6 • 5之间。在所述生长期管理的过程中,随着西瓜苗 越来越粗壮,需要逐步增加营养液的EC值直至2-2 • 5mS/cm之间。由于EC值可间接体现营养 液的浓度,上述过程相当于逐步增加对西瓜苗的营养供给。通常在生长期的后期EC值基本 保持在2.5ms/cm左右。养分过少时,无法满足西瓜苗的生长需要,过多反而会因为形成反渗 透压将根系中的水分置换出来,使根尖变褐或者干枯,不利于西瓜苗生长,甚至于营养中 毒,因此生长期内除满足上述基本条件外,还会根据西瓜苗不同时段的长势情况以及同一 时段不同西瓜苗的长势的差异,随时有针对性地调整EC值。值得注意的是,当生长期经过 11、12月份或环境温度接近往年11、12月份的温度时,可适当提高£(:值到2.8-3.〇1^/〇11。 [0028]整个生长期内,营养液的pH值仍基本保持在5.5-6 • 5之间。
[0029]在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,位于所述定植容器 上方和下方的喷头的开启频率范围可以分别是每隔2〇-40分钟(例如30分钟)喷一次和每隔 100-140分钟(例如2小时)喷一次。西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,位于所述定植容 器上方和下方的喷头的开启频率范围可以分别是每隔5〇-70分钟(例如1小时)喷一次和每 隔10-30分钟(例如20分钟)喷一次。每次喷淋的时间可以持续l〇-2〇s (例如l〇s)。
[0030]在所述生长期管理的过程中,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范 围可以分别是每隔5-7小时(例如6小时)喷一次和每隔5-20分钟(例如10分钟)喷一次。每次 喷淋的时间可以持续10-20s (例如10s)。当环境温度较高时,可以适当减少喷头开启的时间 间隔、适当延长喷淋的持续时间。一般情况下,优选按照上述各括号中所列的间隔时间和持 续时间控制喷淋,在满足西瓜苗生长需要的情况下,还能保持较低的能耗。
[0031]所述无土栽培西瓜种植方法还可以包括(4)花期管理:去除多余的枝条,向顶部支 架引蔓,使西瓜藤蔓向上生长,采用人工或蜜蜂进行授粉,并进行适当的疏果。
[0032] 所述无土栽培西瓜种植方法还可以包括(5)挂果期管理:授粉后在果子根部做上 标记,记录时间。待西瓜长到一定大小时,用网兜把西瓜挂起来,使西瓜处于光照条件好的 地方,以更好地获得光照。
[0033]挂果时间达35-40天,进入采摘期,可分批进行采摘。
[0034]所述定植容器可以为定植杯或定植盘,所述基质的厚度为所述定植容器深度的 50%-70%。本实施例中,采用定植杯,其中的基质装到60%高左右。
[0035] 从所述移栽西瓜苗开始,西瓜种植过程均在大棚内完成。为了实现上述种植过程, 需要做前期的硬件设施的准备。移栽西瓜苗之前,先要制作种植架,然后在平整的地上铺设 供液管道和回液管道,把种植架摆放和固定在管道的上方,在供液管道上安装喷头,所述喷 头分成两组,分别位于所述种植架上定植容器搁置台的上方和下方。安置营养液储液装置, 安装营养液循环式喷淋系统:将营养液储液装置、过滤装置、泵、供液管道、喷头依次连接形 成该系统的供水侧,将营养液回收装置、回液管道、过滤装置依次连接形成该系统的回收 侧。为了便于喷头2的空间布设,供水管道可以采用干管4和支管3相结合的方式,支管管径 较干管小,支管可以采用柔性管。喷头可以固定在所述种植架的纵横交错的众多条边框上。 [0036]所述营养液回收装置内设有储液和溢流两个分区,回收的营养液开始存放在储液 区内,当达到要求的最大深度时经过溢流板流到溢流区,再经溢流区流回营养液储液装置。 溢流高度可调,以确保营养液回收装置内的营养液深度能满足要求。所述营养液回收装置 的上沿可以紧贴所述种植架的定植容器搁置台的下沿,可以实现营养液回收装置底部营养 液100%回收。
[0037]所述大棚设置有防虫网,能有效隔离飞来的虫害。加上通过气雾栽培使西瓜与土 壤隔离,阻隔了土壤里的病虫害,因此能够真正做到不打农药。

Claims (10)

1. 一种无土栽培西瓜种植方法,其特征在于,包括: (1) 移栽西瓜田:向定植谷器内装入基质,将经过预先消毒和杀菌的西瓜苗移栽到所述 定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器摆放在种植架上,所述种植架 的下部设有营养液回收装置; (2) 苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,用位于所述定植容器上方的喷头给西 瓜苗喷淋营养液为主,用位于所述定植容器下方的喷头朝上向西瓜苗即将伸出的根部的位 置喷淋营养液为辅;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,用位于所述定植容器下方的喷 头向伸出到所述定植容器外部的根系喷淋营养液为主,用位于所述定植容器上方的喷头给 西瓜苗喷淋营养液为辅;位于所述定植容器上方和下方的喷头所喷出的营养液除留在西瓜 苗上的部分外全部回流到所述营养液回收装置中; (3) 生长期管理:待西瓜苗的根系伸展到或接近所述营养液回收装置的底部时,控制所 述营养液回收装置内的营养液深度为4-6cm,使根系的底部浸泡在所述营养液回收装置的 营养液中。
2.如权利要求1所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述苗期管理的过程 中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,控制营养液的EC值在0.8-1.Oms/cm之间,pH值在5.5-
6.5之间。
3. 如权利要求2所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述苗期管理的过程 中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范 围分别是每隔20-40分钟喷一次和每隔100-140分钟喷一次;西瓜苗的根系长出所述定植容 器之后,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范围分别是每隔50-70分钟喷一 次和每隔10-30分钟喷一次。
4. 如权利要求3所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述生长期管理的过程 中,逐步增加营养液的EC值至2-2.5ms/cm之间。
5. 如权利要求4所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述生长期管理的过程 中,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范围分别是每隔5-7小时喷一次和每 隔5-20分钟喷一次。
6. 如权利要求5所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:还包括(4)花期管理:去除 多余的枝条,向顶部支架引蔓,使西瓜藤蔓向上生长,采用人工或蜜蜂进行授粉。
7. 如权利要求6所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:还包括(5)挂果期管理:授 粉后在果子根部做上标记,记录时间,并用网兜把西瓜挂起来,使西瓜处于光照条件好的地 方。
8. 如权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:所述定植 容器为定植杯或定植盘,所述基质的厚度为所述定植容器深度的5〇%—70%。
9. 如权利要求8所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:从所述移栽西瓜苗开始, 西瓜种植过程均在大棚内完成,移栽西瓜苗之前,先安装所述种植架,铺设供液管道和回液 管道,在供液管道上安装喷头,所述喷头分成两组,分别位于所述种植架上定植容器搁置台 的上方和下方,安装营养液循环式喷淋系统:将营养液储液装置、过滤装置、泵、供液管道、 喷头依次连接形成该系统的供水侧,将营养液回收装置、回液管道、过滤装置依次连接形成 该系统的回水侧。
10.如权利要求9所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:所述大棚设置有防虫网。
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